JPH02264831A - １つの入射光線から２つ又はそれ以上の透過光線を作りだす干渉計システム - Google Patents
１つの入射光線から２つ又はそれ以上の透過光線を作りだす干渉計システムInfo
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- JPH02264831A JPH02264831A JP1334611A JP33461189A JPH02264831A JP H02264831 A JPH02264831 A JP H02264831A JP 1334611 A JP1334611 A JP 1334611A JP 33461189 A JP33461189 A JP 33461189A JP H02264831 A JPH02264831 A JP H02264831A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
- G01J3/45—Interferometric spectrometry
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-
- G—PHYSICS
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3504—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、気体混合物内のガスの濃度を検出し測定する
ための特殊な干渉計システム及び装置に係り、前記ガス
の吸収構造は所定のスペクトル帯域内で準周期的である
。本発明装置は複屈折の低い材料を使用することを可能
にし、そして特に赤外線内のガスの分析を目的としてい
る。
ための特殊な干渉計システム及び装置に係り、前記ガス
の吸収構造は所定のスペクトル帯域内で準周期的である
。本発明装置は複屈折の低い材料を使用することを可能
にし、そして特に赤外線内のガスの分析を目的としてい
る。
関連技術の説明
ガスの濃度をその吸収スペクトルを研究することにより
測定することは、フーリエの法則を使用する干渉計装置
に関する数件の特許の目的であった。
測定することは、フーリエの法則を使用する干渉計装置
に関する数件の特許の目的であった。
波数目盛の帯域内において周期ｐの単周期吸収スペクト
ルを局部的に表わすガスについては、前記ガスを含む混
合物を通過した光路内に置かれた干渉計システムよって
生じたスペクトルのフーリエ変換は、Δｃ＝１／ｐ （
但しΔＣは前記システムを特徴づける光路差である）に
ついて干渉計システムによって伝達される信号の最大測
定可能値を表わす。この最大値は干渉計システムによっ
てつくられるしま模様とガスの吸収スペクトルのしま模
様との類似を示す。
ルを局部的に表わすガスについては、前記ガスを含む混
合物を通過した光路内に置かれた干渉計システムよって
生じたスペクトルのフーリエ変換は、Δｃ＝１／ｐ （
但しΔＣは前記システムを特徴づける光路差である）に
ついて干渉計システムによって伝達される信号の最大測
定可能値を表わす。この最大値は干渉計システムによっ
てつくられるしま模様とガスの吸収スペクトルのしま模
様との類似を示す。
フランス特許筒２，３４０，５４０号、第２，５５５，
７４８号、第２，５６６．７４８号、第２．５６６、５
３２号及び第２，５８１，１９０号は混合体内のガスを
検出するための干渉計装置を開示する。これらの装置は
最も単純な”形式のもので、干渉計として次を含む。即
ら複屈折Δｎ及び厚さｅの、例えば材料の軸線と平行で
、光路差Δ＝ｅｘΔｎを与える複屈折材料のプレートで
ある。
７４８号、第２，５６６．７４８号、第２．５６６、５
３２号及び第２，５８１，１９０号は混合体内のガスを
検出するための干渉計装置を開示する。これらの装置は
最も単純な”形式のもので、干渉計として次を含む。即
ら複屈折Δｎ及び厚さｅの、例えば材料の軸線と平行で
、光路差Δ＝ｅｘΔｎを与える複屈折材料のプレートで
ある。
最も単純な装置の１つはフランス特許出願筒２．３４０
，５４０号に開示されており、同じ光学軸に沿って次の
素子を含む。即ち、連続放射スペクトルをもつ光源、レ
ンズ、分析すべき混合物を含むガスセル、研究されたガ
スの吸収帯域を分離するフィルタ、偏光子、複屈折プレ
ート、分析器、レンズ、前記レンズの像の焦点に位置す
るダイヤフラム、及び電気信号に光エネルギを変換する
検出器、これによって干渉現象が研究される例えば光電
掛算器などである。複屈折プレートの厚さは研究される
ガスに適合され、レンズの背後に検討される物質の存在
内の干渉現象の最大照射に対応する次数の干渉を得るよ
うに選択される。
，５４０号に開示されており、同じ光学軸に沿って次の
素子を含む。即ち、連続放射スペクトルをもつ光源、レ
ンズ、分析すべき混合物を含むガスセル、研究されたガ
スの吸収帯域を分離するフィルタ、偏光子、複屈折プレ
ート、分析器、レンズ、前記レンズの像の焦点に位置す
るダイヤフラム、及び電気信号に光エネルギを変換する
検出器、これによって干渉現象が研究される例えば光電
掛算器などである。複屈折プレートの厚さは研究される
ガスに適合され、レンズの背後に検討される物質の存在
内の干渉現象の最大照射に対応する次数の干渉を得るよ
うに選択される。
出力信号の容易かつ精密な読取りのため、光束は、偏光
子及び分析器が平行又は垂直である時、レンズのフォー
カルブレーン内で所定のしま模様又はその補色を交互に
形成するため偏光子又は分析器の回転によって変調され
る。分析器又は偏光子の回転は周波数ｆで実行され、そ
の結果、干渉項は変調され、そして検出器によって供給
される信号は２重周波数２°ｆを表す。この出力信号の
振幅は研究されたガスの濃度に比例し、干渉計の前面に
配置されたセル内を循環する。
子及び分析器が平行又は垂直である時、レンズのフォー
カルブレーン内で所定のしま模様又はその補色を交互に
形成するため偏光子又は分析器の回転によって変調され
る。分析器又は偏光子の回転は周波数ｆで実行され、そ
の結果、干渉項は変調され、そして検出器によって供給
される信号は２重周波数２°ｆを表す。この出力信号の
振幅は研究されたガスの濃度に比例し、干渉計の前面に
配置されたセル内を循環する。
上記装置の利点はその寸法が小さいこと、安定性が非常
に高いこと及び信号の変調が分析器と偏光子の回転によ
って、あるいはプレートλ／２の回転によって、あるい
は光弾性変調器の使用によって又は周期格子の振動によ
って変調されることができることなどである。
に高いこと及び信号の変調が分析器と偏光子の回転によ
って、あるいはプレートλ／２の回転によって、あるい
は光弾性変調器の使用によって又は周期格子の振動によ
って変調されることができることなどである。
上記装置の欠点は、この対象スペクトル領域ではく即ち
ガスの吸収領域を含む領域）、分析器を低価格で作るの
を許す、偏光子及び分析器及び複屈折プレートを作るた
めの材料を発見することは必ずしも容易ではないという
事実である。このことは特にこの領域が２ミクロンと８
ミクロンの間の赤外線領域である場合に真実であると考
えられる。
ガスの吸収領域を含む領域）、分析器を低価格で作るの
を許す、偏光子及び分析器及び複屈折プレートを作るた
めの材料を発見することは必ずしも容易ではないという
事実である。このことは特にこの領域が２ミクロンと８
ミクロンの間の赤外線領域である場合に真実であると考
えられる。
この種の赤外線領域（即ち２〜８ミクロン）において、
適当な偏光子及び分析器の作成もまた間１となり得る。
適当な偏光子及び分析器の作成もまた間１となり得る。
赤外線を偏光する膜の吸収は２．５ミクロンを超えるこ
とを許さない。例えば方解石は２．５ミクロン以上では
二色性となるので用いることができない。二色性合成材
料は業界ではＰＯＬＡＲＯＩＤ■の名称で知られており
、普通は可視及び紫外線領域で使用されるが、赤外線領
域では用いられることができない。２．５ミクロンを超
え得る解決法はフランス特許筒２，５８１，１９０号に
開示されており、この方法はウォラストン形の水晶又は
フッ化マグネシウムの偏光プリズムに頼るというもので
ある。これらの偏光子の主たる欠点は原価が高いことと
光を通す範囲が僅かであることである。
とを許さない。例えば方解石は２．５ミクロン以上では
二色性となるので用いることができない。二色性合成材
料は業界ではＰＯＬＡＲＯＩＤ■の名称で知られており
、普通は可視及び紫外線領域で使用されるが、赤外線領
域では用いられることができない。２．５ミクロンを超
え得る解決法はフランス特許筒２，５８１，１９０号に
開示されており、この方法はウォラストン形の水晶又は
フッ化マグネシウムの偏光プリズムに頼るというもので
ある。これらの偏光子の主たる欠点は原価が高いことと
光を通す範囲が僅かであることである。
さらに重大な問題点は、赤外線領域の研究に用いられる
複屈折プレートの使用に際して生じる。
複屈折プレートの使用に際して生じる。
次にこの種の問題の１例を挙げる。次の例では、分析す
るガス混合物内に一酸化炭素（ｃ（３）が存在すると仮
定される。
るガス混合物内に一酸化炭素（ｃ（３）が存在すると仮
定される。
赤外線内で使用され得る複屈折プレートを作るためには
、特に２つの材料を使用することができる。即ち複屈折
Δｎ＝０．２をもつルチル及び複屈Δｎ＝１０−２をも
つフッ化マグネシウムである。
、特に２つの材料を使用することができる。即ち複屈折
Δｎ＝０．２をもつルチル及び複屈Δｎ＝１０−２をも
つフッ化マグネシウムである。
４．６ミクロンで、ＣＯは周期δσ・ｃｙｒ−１の微細
吸収構造をもつ吸収帯域を表す。この場合に必要なプレ
ートの厚さはｅ□で、その結果ｅ。Δｎ＝１／δσで、
フッ化マグネシウムプレートの場合達成が不可能な５（
１１）ｍか、ルチルプレートの場合は２５ｆｆｉｌＩか
に等しい厚さを与え、後者の場合このような厚さのプレ
ートの製造に結びついた禁止的な原価の故に業界で目標
とすることは不可能である。
吸収構造をもつ吸収帯域を表す。この場合に必要なプレ
ートの厚さはｅ□で、その結果ｅ。Δｎ＝１／δσで、
フッ化マグネシウムプレートの場合達成が不可能な５（
１１）ｍか、ルチルプレートの場合は２５ｆｆｉｌＩか
に等しい厚さを与え、後者の場合このような厚さのプレ
ートの製造に結びついた禁止的な原価の故に業界で目標
とすることは不可能である。
こうして求められる厚さ及び原価が余りにも高すぎるこ
と及び／又は使用可能な材料の複屈折が（例えば赤外線
内で）小さすぎることによって、上に［１に説明し、フ
ランス特許第２．３４０．５４０号にさらに詳しく開示
した複屈折プレートを用いる干渉計分析装置を作ること
は不可能となる。
と及び／又は使用可能な材料の複屈折が（例えば赤外線
内で）小さすぎることによって、上に［１に説明し、フ
ランス特許第２．３４０．５４０号にさらに詳しく開示
した複屈折プレートを用いる干渉計分析装置を作ること
は不可能となる。
ＲＩＪΣ１力
本発明は、先行技術装置の利点を保持しながら、先行技
術内で生じる欠点を是正することを可能とし、かつ複屈
折プレートを作るため使用可能な一定材料、特に上記の
ような種類の装置を作るために、必要な材料の複屈折率
の低さを補正し、かつ前記プレートの厚さを減らすこと
を目的とする。
術内で生じる欠点を是正することを可能とし、かつ複屈
折プレートを作るため使用可能な一定材料、特に上記の
ような種類の装置を作るために、必要な材料の複屈折率
の低さを補正し、かつ前記プレートの厚さを減らすこと
を目的とする。
上記目的は以下のものを含む干渉計システムにより達成
される。即ち、複屈折プレート（上に説明したように変
調の容易さを保つことを可能にする〉及び、充分に大き
な反射係数、例えば≧０．３をもつ平行面をもつプレー
トから成る等方性プレートである。この種の等方性プレ
ートは１つの入射光線から一方は直接的に他方はプレー
トの両面のそれぞれ上での内部反射後に２つの伝達光線
を作りあげることを可能にする。２つの伝達光線間の光
路差はΔ−２ｎ−ｅであって、ｎは等方性プレートのた
めに用いられた材料の屈折率で、ｅはその厚さである。
される。即ち、複屈折プレート（上に説明したように変
調の容易さを保つことを可能にする〉及び、充分に大き
な反射係数、例えば≧０．３をもつ平行面をもつプレー
トから成る等方性プレートである。この種の等方性プレ
ートは１つの入射光線から一方は直接的に他方はプレー
トの両面のそれぞれ上での内部反射後に２つの伝達光線
を作りあげることを可能にする。２つの伝達光線間の光
路差はΔ−２ｎ−ｅであって、ｎは等方性プレートのた
めに用いられた材料の屈折率で、ｅはその厚さである。
複屈折プレート及び等方性プレートの結合は単一複屈折
プレートについて得られた光線数の分割を引き起こし、
その結果、出力において単一視屈折プレートについＣ得
られたものより高い光路差が得られる。こうして複屈折
プレートの必要な厚さを縮小する。
プレートについて得られた光線数の分割を引き起こし、
その結果、出力において単一視屈折プレートについＣ得
られたものより高い光路差が得られる。こうして複屈折
プレートの必要な厚さを縮小する。
ガス状混合物内の少なくとも１つのガスの′ａ度を検出
し測定するためには、本発明干渉計装置は同一光軸上に
次のものを含む光学装置に組込まれる。即ち、循環性ガ
ス混合物を含むガスセルを通過する、第１焦点レンズに
よって無限大に焦点合せされる光線をもつ広域スペクト
ル光源であって、このガス混合物は分析されるべきガス
を含む。さらにこのガスの特定スペクトル帯域を分離す
るための干渉フィルタ、偏光子、変調器、複屈折プレー
ト、等方性プレート、分析器、第２焦点合せレンズ及び
前記第２レンズの焦点面内に位置決めされた検出器であ
る。変調器、複屈折プレート及び等方性プレートが偏光
子と分析器との間に配置されるが、その順序はさして重
要とは考えられない。
し測定するためには、本発明干渉計装置は同一光軸上に
次のものを含む光学装置に組込まれる。即ち、循環性ガ
ス混合物を含むガスセルを通過する、第１焦点レンズに
よって無限大に焦点合せされる光線をもつ広域スペクト
ル光源であって、このガス混合物は分析されるべきガス
を含む。さらにこのガスの特定スペクトル帯域を分離す
るための干渉フィルタ、偏光子、変調器、複屈折プレー
ト、等方性プレート、分析器、第２焦点合せレンズ及び
前記第２レンズの焦点面内に位置決めされた検出器であ
る。変調器、複屈折プレート及び等方性プレートが偏光
子と分析器との間に配置されるが、その順序はさして重
要とは考えられない。
本発明のその他の特徴並びに利点は次の説明からさらに
明らかとなろう。
明らかとなろう。
丈−ｌ−■
特に赤外線用として設計された１実施例では、第１図に
示すようなガス混合物内に含まれる少なくとも１つのガ
スの１１度を検出し測定するための装置は、光源１、レ
ンズ２、ガスセル３、赤外線帯域を分離する干渉フィル
タ４、偏光子５、変調器６、複屈折プレート７、等方性
プレート８、分析器９、焦点合せレンズ１０及び検出器
１１を含む。
示すようなガス混合物内に含まれる少なくとも１つのガ
スの１１度を検出し測定するための装置は、光源１、レ
ンズ２、ガスセル３、赤外線帯域を分離する干渉フィル
タ４、偏光子５、変調器６、複屈折プレート７、等方性
プレート８、分析器９、焦点合せレンズ１０及び検出器
１１を含む。
偏光子と分析器は単方向性で且つ周期格子であり、周期
は対象の周波数領域に適用され、互いに平行又は垂直で
あり、かつ両方とも複屈折プレート７及び変調器６の軸
から４５°に配置されている。
は対象の周波数領域に適用され、互いに平行又は垂直で
あり、かつ両方とも複屈折プレート７及び変調器６の軸
から４５°に配置されている。
等方性プレート８は厚さｅ及び屈折率ｎで、従って光路
差Δ−２ｎｅをもつ。等方性プレートは非吸収性の誘電
性デポジットでコーティングされることができる平行面
を持っており、光源の方へ向いたデポジットの第１面は
透過係数Ｔ１及び反射係数Ｒ１をもち、検出温の方へ向
いた第２面はそれぞれＴ２及びＲ２の透過、反射係数を
もつ。等方性プレートはフッ化物で作られることができ
、面の反射処理はシリカのデポジットで達成されること
ができる。厚さｅ。及び複屈折Δｎの複屈折プレート７
はフッ化マグネシウムで作られることができ、これはル
チルより原価が低い。
差Δ−２ｎｅをもつ。等方性プレートは非吸収性の誘電
性デポジットでコーティングされることができる平行面
を持っており、光源の方へ向いたデポジットの第１面は
透過係数Ｔ１及び反射係数Ｒ１をもち、検出温の方へ向
いた第２面はそれぞれＴ２及びＲ２の透過、反射係数を
もつ。等方性プレートはフッ化物で作られることができ
、面の反射処理はシリカのデポジットで達成されること
ができる。厚さｅ。及び複屈折Δｎの複屈折プレート７
はフッ化マグネシウムで作られることができ、これはル
チルより原価が低い。
変調器６は複屈折及び等方性プレート７及び８で引き起
こされる光路差を周期的に変調する役ｖ１を持ち、対象
ガスの存在による定量データを含む干渉項だけを変調す
る。変調器は圧電セラミックにより励振されるシリカ又
はフッ化物プレートを含む圧電変調器であることができ
、このセラミックは前記プレートに圧縮による可変複屈
折を与える。レンズ２及び１０及びガスセル３の窓はフ
ッ化物で作られることができる。検出５１１は変調器の
周波数の周期検出によって処理される信号を供給する。
こされる光路差を周期的に変調する役ｖ１を持ち、対象
ガスの存在による定量データを含む干渉項だけを変調す
る。変調器は圧電セラミックにより励振されるシリカ又
はフッ化物プレートを含む圧電変調器であることができ
、このセラミックは前記プレートに圧縮による可変複屈
折を与える。レンズ２及び１０及びガスセル３の窓はフ
ッ化物で作られることができる。検出５１１は変調器の
周波数の周期検出によって処理される信号を供給する。
変調器はガスの濃度に比例するレベルの連続信号を供給
する。
する。
この種の装置は光強度Ｉを提供する。従って＋汀〒馬ｃ
ｏｓ −２πｅ λ 但しく１）は時間の関数として変化する光路差であって
光弾性変調器により導かれる。第１図に示す通り、この
種の装置は１つの入射光から４つの透過光を提供し、そ
のうち３つは第１の光線に関連して上記強度Ｉの式から
推論して光路差の増加方向に得られる強度を示す。即ち
、 ｅ□、 Δｎ、２ｎ、ｅ ｅＯΔｎ、 ２ｎ、 ｅ
＋ ｅ ｏΔｎである。
ｏｓ −２πｅ λ 但しく１）は時間の関数として変化する光路差であって
光弾性変調器により導かれる。第１図に示す通り、この
種の装置は１つの入射光から４つの透過光を提供し、そ
のうち３つは第１の光線に関連して上記強度Ｉの式から
推論して光路差の増加方向に得られる強度を示す。即ち
、 ｅ□、 Δｎ、２ｎ、ｅ ｅＯΔｎ、 ２ｎ、 ｅ
＋ ｅ ｏΔｎである。
光源がスペクトル幅Δσ又はΔ＝１／Δσであるスペク
トル半幅を持つならば、等方性干渉計（２波式干渉計で
ある）によりΔ−〇の近傍に中央縞が得られるが、これ
は何ら興味深いデータは含んでいない。
トル半幅を持つならば、等方性干渉計（２波式干渉計で
ある）によりΔ−〇の近傍に中央縞が得られるが、これ
は何ら興味深いデータは含んでいない。
赤外線に適用するためには、光路差ｅ。Δｎは上記の通
り小さく、有効データが存在する領域のΔ＝０の周囲の
集合を避けることが必要である。
り小さく、有効データが存在する領域のΔ＝０の周囲の
集合を避けることが必要である。
このようにして、ｅ□Δｎ、２ｎ、ｅ−ｅＯΔｎ及び２
ｎ、ｅ＋ｅ□Δｎに等しいΔの値の周囲に第２図に示さ
れたようなデータを集めることが必要であると考えられ
る。このため、ｅｏを選ぶことが必要であるとも考えら
れる。つまりｅ。八〇〉１／Δσである。他方では、δ
σはスペクトルの周期数であるから、有効なデータは周
波数δσでくり返されもするであろう。これらの様々な
データ領域が互いに重なり合うのを避けるため（結果の
分析を困難にするので）、等方性プレートの厚さを２ｎ
、ｅ＋ｅ□Δｎ≦１／δσであるように選択することが
必要であるとも考えられる。
ｎ、ｅ＋ｅ□Δｎに等しいΔの値の周囲に第２図に示さ
れたようなデータを集めることが必要であると考えられ
る。このため、ｅｏを選ぶことが必要であるとも考えら
れる。つまりｅ。八〇〉１／Δσである。他方では、δ
σはスペクトルの周期数であるから、有効なデータは周
波数δσでくり返されもするであろう。これらの様々な
データ領域が互いに重なり合うのを避けるため（結果の
分析を困難にするので）、等方性プレートの厚さを２ｎ
、ｅ＋ｅ□Δｎ≦１／δσであるように選択することが
必要であるとも考えられる。
ここで吸収構造が帯域Δσ＝ ２（１１）１−１上で周
期数δσ−２ｃＩＲ−１を示す一酸化炭素（ｃ（３）の
例を挙げてみよう。屈折率ｎ−１，４及び厚さｅ＝１．
７麿のフッ化物の等方性プレートについては、厚さｅ□
＝８ｍ（等方性プレート無しで必要とされるｅｏ−５（
１１）Ｍに代って）のフッ化マグネシウムの複屈折プレ
ートを提供すれば充分である。
期数δσ−２ｃＩＲ−１を示す一酸化炭素（ｃ（３）の
例を挙げてみよう。屈折率ｎ−１，４及び厚さｅ＝１．
７麿のフッ化物の等方性プレートについては、厚さｅ□
＝８ｍ（等方性プレート無しで必要とされるｅｏ−５（
１１）Ｍに代って）のフッ化マグネシウムの複屈折プレ
ートを提供すれば充分である。
本発明装置の特定適用範囲は、その単周期性吸収領域が
赤外線内に位置するガスの分析である。
赤外線内に位置するガスの分析である。
本発明装置は安定性、低原価及び小型性を守りつつこの
種の分析の実行を可能にするものである。
種の分析の実行を可能にするものである。
勿論、本発明は以上説明した具体例のみに限定されるも
のではなく、当業考は本発明の精神を逸脱することなく
数多くの変形例を考案することができる。本発明は添付
請求範囲によってのみ限定されるものとする。
のではなく、当業考は本発明の精神を逸脱することなく
数多くの変形例を考案することができる。本発明は添付
請求範囲によってのみ限定されるものとする。
第１図は本発明装置の配置図、第２図は強度■の有効信
号が得られる帯域を光路差の関数として表わすグラフで
ある。 １・・・・・・光源、 ２・・・・・・レンズ、
３・・・・・・ガスセル、４・・・・・・干渉フィルタ
、 ５・・・・・・偏光子、６・・・・・・変調器、
７・・・・・・複屈折プレート、８・・・・・・等
方性プレート、 ９・・・・・・分析器、１０・・・
・・・集光レンズ、 １１・・・・・・検出器。
号が得られる帯域を光路差の関数として表わすグラフで
ある。 １・・・・・・光源、 ２・・・・・・レンズ、
３・・・・・・ガスセル、４・・・・・・干渉フィルタ
、 ５・・・・・・偏光子、６・・・・・・変調器、
７・・・・・・複屈折プレート、８・・・・・・等
方性プレート、 ９・・・・・・分析器、１０・・・
・・・集光レンズ、 １１・・・・・・検出器。
Claims (18)
- （１）１つの入射光線から２つ又はそれ以上の透過光線
を作りだす干渉計システムであつて、それらのすべてが
それらの間に光路差を示し、複屈折プレート及び等方性
プレートの単一光軸上での結合より成るシステム。 - （２）複屈折プレートがフッ化マグネシウムで作られ、
等方性プレートがフッ化物で作られている請求項１に記
載の干渉計システム。 - （３）ガス混合物内の少なくとも１つのガスの濃度を検
出しかつ測定するための干渉計装置であつて、ガスは準
周期性吸収構造を示し、単一光軸上で次の構成部品、即
ち、光線が連続して第１レンズを通過する光源、ガスセ
ル、周波数フィルタ、偏光子、干渉計及び変調装置、分
析器、及び検出器に達する以前の第２レンズを含んでお
り、前記干渉計及び変調装置が請求項１に記載の干渉計
システムより成る装置。 - （４）前記干渉計及び変調装置が単一光学軸上に変調器
、複屈折プレート及び等方性プレートを次の引き続く順
序のひとつ、即ち （ａ）変調器、複屈折プレート及び等方性プレート （ｂ）複屈折プレート、等方性プレート及び変調器 （ｃ）等方性プレート、変調器及び複屈折プレート （ｄ）変調器、等方性プレート及び複屈折プレート （ｅ）複屈折プレート、変調器及び等方性プレート 又は （ｆ）等方性プレート、複屈折プレート及び変調器 に従つて含んでいる請求項３に記載の干渉計装置。 - （５）前記等方性プレートの面が反射係数≧０．３をも
つ請求項１に記載の干渉計システム。 - （６）前記等方性プレートの面が反射係数≧０．３をも
つ請求項２に記載の干渉計システム。 - （７）前記等方性プレートの面が反射係数≧０．３をも
つ請求項３に記載の干渉計装置。 - （８）前記等方性プレートの面が反射係数≧０．３をも
つ請求項４に記載の干渉計装置。 - （９）ガス混合物内の少なくとも１つのガスの濃度を検
出及び測定するための方法であって、ガスは準周期吸収
構造を示し、前記方法は広帯域のスペクトル光線が、第
１レンズ、ガスセル、周波数フィルタ、偏光子、複屈折
プレートと等方性プレートとを単一光軸上で結合して含
む干渉計及び変調装置、分析器及び第２レンズを通過す
ることから成る方法。 - （１０）前記干渉計及び変調装置が単一光軸上で変調器
と複屈折プレートと等方性プレートとを次の引き続く順
序のひとつ、即ち （ａ）変調器、複屈折プレート及び等方性プレート （ｂ）複屈折プレート、等方性プレート及び変調器 （ｃ）等方性プレート、変調器及び複屈折プレート （ｄ）変調器、等方性プレート及び複屈折プレート （ｅ）複屈折プレート、変調器及び等方性プレート 又は （ｆ）等方性プレート、複屈折プレート及び変調器 に従つて含んでいる請求項９に記載の方法。 - （１１）複屈折プレートがフッ化マグネシウムで作られ
、等方性プレートがフッ化物で作られている請求項９に
記載の方法。 - （１２）複屈折プレートがフッ化マグネシウムで作られ
、等方性プレートがフッ化物で作られている請求項１０
に記載の方法。 - （１３）前記等方性プレートの面が反射係数≧０．３を
もつ請求項９に記載の方法。 - （１４）前記等方性プレートの面が反射係数≧０．３を
もつ請求項１０に記載の方法。 - （１５）前記等方性プレートの面が反射係数≧０．３を
もつ請求項１１に記載の方法。 - （１６）前記等方性プレートの面が反射係数≧０．３を
もつ請求項１２に記載の方法。 - （１７）前記ガスが赤外線内で吸収する準周期性吸収構
造を示す請求項９に記載の方法。 - （１８）前記ガスが赤外線内で吸収する準周期性吸収構
造を示す請求項１０に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8817063 | 1988-12-23 | ||
| FR8817063A FR2641074B1 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02264831A true JPH02264831A (ja) | 1990-10-29 |
Family
ID=9373330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1334611A Pending JPH02264831A (ja) | 1988-12-23 | 1989-12-22 | １つの入射光線から２つ又はそれ以上の透過光線を作りだす干渉計システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5155552A (ja) |
| JP (1) | JPH02264831A (ja) |
| DE (1) | DE3943234A1 (ja) |
| FR (1) | FR2641074B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2346160C2 (de) * | 1973-09-13 | 1983-04-28 | Karl Händle & Söhne Maschinenfabrik u. Eisengießerei, 7130 Mühlacker | Silo-Ausräumgerät |
| FR2641861B1 (fr) * | 1989-01-18 | 1993-04-30 | Photonetics | Dispositif de mesure opto-electronique |
| WO1996029591A1 (en) * | 1995-03-21 | 1996-09-26 | Sci-Tec Instruments Inc. | Optical correlation gas analyzer |
| DE102011009158B3 (de) * | 2011-01-22 | 2012-05-31 | Dräger Safety AG & Co. KGaA | Optisches Gasdetektorsystem |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2295590A1 (fr) * | 1974-12-16 | 1976-07-16 | Cilas | Dispositif de traitement d'une impulsion de lumiere laser |
| FR2300998A2 (fr) * | 1975-02-11 | 1976-09-10 | Anvar | Dispositif pour la spectrometrie interferentielle a modulation selective |
| FR2340540A2 (fr) * | 1976-02-05 | 1977-09-02 | Anvar | Dispositif pour la spectrometrie interferentielle a modulation selective |
| FR2555748B1 (fr) * | 1983-11-29 | 1986-04-11 | Elf France | Dispositif interferometrique pour la detection de gaz dans un melange gazeux |
| FR2566532B1 (fr) * | 1984-06-22 | 1986-09-12 | Elf France | Detecteur de gaz par interferometrie |
| FR2581190B1 (fr) * | 1985-04-25 | 1987-06-19 | Elf France | Detecteur interferometrique de gaz |
-
1988
- 1988-12-23 FR FR8817063A patent/FR2641074B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-12-22 DE DE3943234A patent/DE3943234A1/de not_active Withdrawn
- 1989-12-22 JP JP1334611A patent/JPH02264831A/ja active Pending
- 1989-12-22 US US07/455,001 patent/US5155552A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5155552A (en) | 1992-10-13 |
| FR2641074A1 (ja) | 1990-06-29 |
| DE3943234A1 (de) | 1990-07-26 |
| FR2641074B1 (ja) | 1991-02-22 |
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