JPH02261502A - 還元ガスによる固体粒子乾燥装置 - Google Patents

還元ガスによる固体粒子乾燥装置

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JPH02261502A
JPH02261502A JP8449989A JP8449989A JPH02261502A JP H02261502 A JPH02261502 A JP H02261502A JP 8449989 A JP8449989 A JP 8449989A JP 8449989 A JP8449989 A JP 8449989A JP H02261502 A JPH02261502 A JP H02261502A
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reducing gas
drying
furnace
gas
solid particles
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JP8449989A
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English (en)
Inventor
Naruhito Takamoto
成仁 高本
Akio Ueda
昭雄 植田
Hiroyuki Kako
宏行 加来
Yasutsune Katsuta
康常 勝田
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Mitsubishi Power Ltd
Original Assignee
Babcock Hitachi KK
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  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
本発明は固体粒子を含む混合物から固体粒子を乾燥、分
離させる不活性ガスによる乾燥装置に関し、特に不活性
ガスとして還元性ガスを用い、固体粒子を乾燥、分離さ
せる乾燥装置に関する。
【従来の技術】
印刷インキ、顔料、電子複写機あるいは薬品の分野では
、数μmから数十μmの微細な粒子あるいはこの微細な
粒子を含むスラリから粒子を乾燥させる装置が重要視さ
れている。また最近は医薬品や食品の分野で、酸化性化
合物を含む固体粒子の乾燥のニーズも高まってきている
。このような溶剤等を含む微細な固体粒子の乾燥におい
ては水分のみを除く場合と異なり、(1)爆発、引火の
危険性があること、(2)有害なガスが多い事、(3)
蒸発した溶剤蒸気の回収をしなければならないこと、等
に特別の考慮を払わなければならない。以上のよう理由
から、上述した固体粒子の乾燥には、空気中の酸素によ
る爆発、あるいは製品の酸化を避けるだめに乾燥装置系
に不活性ガス、主として窒素ガスを循環させて常圧下で
乾燥を行う方法が用いられてきた。 この装置の系統図を図11に示す(化学工学便覧、第3
版p756参照)。原料である固体粒子を含む混合物は
原料供給管lから乾燥炉2に送られ、還元ガス発生炉で
ある加熱炉5からの不活性ガスにより乾燥され、製品と
して排出口90から系外に排出される。一方乾燥炉2を
出たガスは、捕集器9で固体粒子と分離された後、凝縮
器91に入り溶剤は回収され、回収管92から系外の溶
剤タンク(図示せず)に排出される。ここで大部分の溶
剤を回収されたガスは、窒素供給管93からの窒素ガス
と共に送風機95に送られ、加熱炉5で加熱されて循環
使用される。 このようなシステムにおいては、不活性ガスである窒素
ガスを循環使用することになるため、捕集器9では固体
粒子の回収を十分に行ない、更に凝縮器91では溶剤の
回収率を上げないと乾燥炉5での性能が発揮できなくな
る。なぜならば固体粒子および溶剤を含むガスを循環使
用すると系内に微粉粒子あるいは溶剤が蓄積してくるた
め各装置の機能が充分発揮できないとか、配管部分の閉
塞が起きることがある。従って、固体粒子および溶剤を
含む不活性ガスから成る循環ガスの一部を捕集器9と凝
縮器91との間に設けたベント弁96からベントガスと
して排出して、循環ガス中に溜まる微粉固体粒子および
溶剤をある一定濃度以上にならないようにする必要があ
る。従ってベントガスも別の装置で浄化処理してから排
出しなければならない。また、系内の循環ガスの一部を
ベントガスとして排出するので、排出したベントガス量
分は、メイクアップ不活性ガスとして補う必要がある。
【売可が解決するための課題】
以上述べたように従来技術は種々の問題点がある。例え
ば、不活性ガスである窒素ガスを循環使用するため、乾
燥炉で発生した微粉固体粒子を捕集器で効率良く捕集し
ないと系内に微粉固体粒子が蓄積することになる。また
、凝縮器での溶剤の回収率を上げないと、凝縮器に続く
配管や送風機に溶剤が付着してトラブルを生じる可能性
がある。 更に、系内において不活性ガスを循環すると、微粉固体
粒子の回収率および溶剤の回収率を100%にしない限
り、微粉固体粒子あるいは溶剤が系内に蓄積するため、
ベント弁から一部のガスを系外にパージする必要があり
、系内にパージガス分を常に窒素供給管から補なわなけ
ればならない。また、加熱炉に必要な熱源以外に不活性
ガスである窒素を常時備えなければならないので、運転
コストが高くつくという欠点がある。さらに、このパー
ジガスの浄化処理といった余分のプロセスも必要となっ
てくる。また不活性ガスとして、N2ガスを用いた場合
このガスは非極性ガスであるため乾燥した粒子の細孔内
に吸着されにくい。そのためN、ガスで乾燥した粒子を
大気中にさらすと、大気中の水分が再吸着される問題が
発生する。 そこで、本発明はこれら上記従来技術の欠点をなくした
固体粒子を含む混合物の乾燥装置を提供することを目的
としている。すなわち、固体粒子乾燥用の不活性ガスを
循環再使用しないですみ、従って、該循環不活性ガス中
に同伴された固体粒子の捕集率、溶剤の回収率を極端に
高くする必要がなく、また、不活性ガスを常時補給する
必要のない装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】 上記目的は、以下のような装置により達成される。すな
わち、空気比(モル比)1.0以下の条件で炭化水素系
燃料を触媒燃焼方式により燃焼させて還元ガスを発生さ
せ、当該還元ガスにより固体粒子を含む混合物を乾燥さ
せることを特徴とする還元ガスによる固体粒子乾燥方法
および固体粒子を含む混合物を還元ガスと直接接触する
ことにより乾燥させる乾燥炉と還元ガスに同伴する乾燥
固体粒子を分離するための分離装置および還元ガスに同
伴する蒸発液体を凝縮させる熱交換器を設けた還元ガス
による固体粒子乾燥装置において、空気比(モル比)1
.0以下の条件゛で炭化水素系燃料を燃焼させる還元ガ
ス発生炉と、乾燥固体粒子および還元ガスに同伴する蒸
発液体分離後の還元ガスを燃焼させる高温燃焼ガス生成
用の燃焼炉と、を乾燥炉に付設し、高温燃焼ガスにより
燃焼炉に供給する空気を予熱すること、あるいは固体粒
子を間接加熱するための間接加熱装置を乾燥炉内に設け
たことを特徴とする還元ガスによる固体粒子乾燥装置で
ある。 また、液体含有固体粒子を乾燥させる場合であって、液
体を回収する必要がない場代には還元ガスに同伴する蒸
発液体はそのまま、高温燃焼ガス生成用の燃焼炉に導入
して燃焼させてもよい。 さらに、乾燥炉を流動体媒体を充填した流動層炉にする
と、微粉固体粒子の乾燥効率を上げることができbo
【作用】
上記手段は以下のような機能を達成できる。還元ガス発
生炉において、例えば、メタンを空気比(モル比)0.
5の条件で反応させると次式の反応が生じる。 CH4+ 3AO! −−CO+ 2 H2(1)すな
わち、空気比を1.0以下で反応させると生成した還元
ガス中には酸素が残留してなく、水分もほとんど発生し
ない。また、還元ガス発生炉に触媒燃焼炉を用いた場合
には、低温で(1)式の反応を進めることが可能であり
、しかも還元ガス中の残酸素濃度はloOppm以下と
なる。以上のような方法で生成した還元ガスを乾燥用に
用いれば、従来法のように窒素ガス等の不活性ガスを別
に用意して、これを供給しなくてもすむ。また乾燥炉を
出た還元ガスは燃焼炉に送られ、燃焼した高温ガスによ
り乾燥炉を間接加熱する。このような方法により全体の
熱効率を向上させることが可能となり、しかも高純度の
固体粒子製品を得る乾燥装置に適用が可能となる。従っ
て本乾燥装置は、酸化性化合物あるいは溶媒を含む固体
の乾燥に最適と考えられる。例えば、画像処理装置に用
いるトナー中には磁性粉体、カーボン粉体および脱ろう
材が含まれているので、酸化性化合物である脱ろう材を
効果的に除去できる。 さらに乾燥ガスとしてHl、CO等を含む還元ガスを用
いた場合、吸着速度の大きいH,ガスや極性ガスである
COが細孔内に吸着されるため、大気にさらした場合水
分の再吸収を防止する効果も生じる。
【実施例】
(実施例1) 本発明ま第1実施例を第1図に示す。 本プロセスは乾燥すべき含水固体を処理する乾燥炉2お
よび乾燥用の還元ガスを発生させる還元ガス発生炉5、
およびそれに付属する装置から成っている。乾燥炉2に
は乾燥すべき固体粉末等の原料供給管1が散気板3上部
の炉壁部に設けられている。乾燥炉2底部には還元ガス
発生炉5からの還元ガスを導く入口管6が、乾燥炉2頂
部には還元ガス出口管7が設けられている。還元ガス出
口管7は固体粒子回収用の捕集器9に接続されている。 この捕集器9の底部に固体粒子回収用配管10があり、
その側壁には、予熱器11を介して・熱交換器12に接
続される配管13が設けられている。予熱器11には還
元ガス発生炉5に通じる空気供給管15が捕集器9から
の前記配管13と熱交換可能に設けられている。 熱交換器12には水回収v16が設けられているが、別
に減圧ポンプ17および予熱器19を介して燃焼炉20
に還元ガスを供給するガスライン21が設けられている
。予熱器19を出!ニ一部のガスはバイパス管71を通
って還元ガス発生炉12に供給することもできる。その
ガス量はバイパス弁70で調整する。燃焼炉20には空
気および燃料供給管22も設けられている。燃焼炉20
は乾燥炉2中を蛇行する間接加熱器23に接続する排ガ
ス管25を有し、間接加熱器23は予熱器19で前記ガ
スライン21と熱交換しうる排ガス出口管26に接続し
ている。 なお、還元ガス発生炉5には燃料供給管27が設けられ
ている。まI;、捕集器9を省き乾燥炉2頂部に抜出し
口(図示せず)を設け、乾燥固体粒子を取り出せるよう
にしてもよい。乾燥すべき固体粒子は、原料供給管21
から乾燥炉2に供給する。ここで固体粒子は散気板3を
通って上昇してくる還元ガス発生炉5で生成した高温ガ
スにより乾燥される。乾燥した固体粒子と還元ガスは出
口管7を通って捕集器9に入り、ここで固体粒子が分離
され、固体粒子用回収配管10より回収される。還元ガ
スは更に予熱器11に入り、空気供給管15から供給さ
れる空気により冷却され、熱交換器12で完全に還元ガ
ス中の水を凝縮させて、水は水回収管16から回収する
。 水分を除去された還元ガスは減圧ポンプ17を経て、ガ
スライン21から予熱器19に入る。ここで還元ガスは
排ガス出口管26からの排ガスにより予熱されて燃焼炉
20に入る。燃焼炉20では空気および燃料供給管22
からの空気と燃料によりこの還元ガスを燃焼させ、生成
した燃焼ガスは乾燥炉2に設けた間接加熱器23に排ガ
ス管25を経て供給され、乾燥用の熱源として利用した
後、排ガス出口管26から予熱器19を通り系外に排出
する。 一方乾燥炉2に必要な高温の不活性ガスは、還元ガス発
生炉5で生成される。空気供給管15からの空気と燃料
供給管27からの燃料、例えばメタン、プロパン等を還
元ガス発生炉5に供給し、空気比(モル比)1.0以下
の条件で反応させて、高温の還元ガスを発生させ還元ガ
ス入口管6から乾燥炉2に供給する。 (実施例2) 第2図には、還元ガスを発生する発生炉の空気比が1に
近いケースでの実施例を示す。この条件では乾燥すべき
含水固体が、大気中で比較的安定な場合に適用できる。 乾燥後のガス中の還元ガス濃度は低いため、粒子の細孔
に付着するH8、COガスが少ない。従ってガスライン
を出た乾燥後のガスを燃焼炉に入れて燃焼した高温ガス
は予熱器11で燃焼炉に供給する空気を予熱した後、排
ガス管から系外に放出する。 (実施例3) 第3図にはろ過等では分離が難しい溶媒を含む微粒子固
体の場合の乾燥装置の実施例を示す。 本実施例の装置は原料にスラリ状のものを用いる点が第
1実施例と異なるもので、乾燥炉2が円筒状の層上部A
と下部のコーン部Bとから成ること、原料スラリタンク
28からポンプ29を介して乾燥炉2に原料を供給する
こと、および熱交換器12に溶媒回収タンク30を接続
することを除き、第1図に示した装置と同一の装置を用
いる。また、この場合は第1実施例と同様に捕集器9を
省き、乾燥炉2上部に乾燥した固体粒子の抜出し口(図
示せず)を設けてもよい。原料スラリは原料スラリタン
ク28からポンプ29により乾燥炉2の下部に送られる
。ここで高温の還元ガスにより微粉固体粒子は乾燥され
、捕集器9で分離される。溶媒を含む還元ガスは更に熱
交換器12に入り、凝縮成分である溶媒を分離する。回
収された溶媒は溶媒回収タンク30に送られ、必要な所
で循環再使用される。 溶媒の大部分は可燃性物質であるが、還元ガスには酸素
はほとんど含まれないため、燃焼、爆発等の危険は全く
なく、溶媒の変質もない。 この実施例は溶媒中の固体粒子を除去し、溶媒を回収す
る装置とみることができる。 (実施例4) 第4図には、第2図と同様に還元ガスを発生する発生炉
の空気比が1に近いケースで、ろ過等では分離が難しい
溶媒を含む微粒子固体の乾燥装置の実施例を示す。この
条件でも還元ガスには酸素がほとんど含まれないため、
爆発等の危険は全くなく、溶媒の変質もない。乾燥後の
ガス中の還元ガス濃度は低いため、乾燥すべき固体が大
気中で比較的安定な場合に適用できる。このケースでは
乾燥後のガスを燃焼炉に入れ、燃焼した高温ガスは予熱
器11で燃焼炉に供給する空気を予熱した後、排ガス管
から系外に放出する。 第5図には、上記実施例1および実施例3に用いる乾燥
炉2を示す。第5(a)図には、間接加熱器23を乾燥
炉2内に直線状に多段挿入した場合を、第5(b)図に
は乾燥炉2内に螺旋状に挿入した場合を示す。これらの
ケースでは層内の伝熱面積を大きく取れる長所がある。 また、第5(c)図には間接加熱器23としてジャケッ
ト31を用いた場合を示す。このジャケット型装置は炉
内に間接加熱器23を配置すれば、そこに粒子が付着し
やすいような場合に有効と考えられる。第5(d)図に
は上述した第5図(b)および第5図(C)の間接加熱
器23を組み合わせた例を示す。このケースでは伝熱面
積を最大限採れるため、燃焼効率の面で優れていると考
えられる。 なお、本発明の還元ガス発生炉5として炭化水素の触媒
燃焼炉を用いることもできる。特にコバルトを担持した
ハニカム状触媒をもつ燃焼炉は、低温反応条件下でも反
応ガス中の残酸素量を数百ppm以下に低減させるこ、
とができる。 第6図には、本発明の含水固体粒子の乾燥装置の制御系
統図を示す。 制御器50は乾燥炉2への原料供給管lに設けたフィー
ダ51、乾燥炉内温度計52、乾燥炉内圧力計53、還
元ガス入口管6に設けた圧力調整弁55、酸素および水
分センサ56、還元ガス発生炉5への燃料供給管27に
設けた流量調整弁57、空気供給管15に設けた流量調
整弁59および燃焼炉20への空気および燃料供給管2
2に設けた流量調整弁60と、それぞれ導線を介して接
続されている。制御器50により原料の供給量をフィー
ダ51により設定し、この原料の乾燥に必要な還元ガス
量および熱量を各流量調整弁57.59.60で制御す
る。供給する還元ガス中の酸素、水分は酸素、水分セン
サ56で検出して設定値以下になるように流量調整57
.59で制御する。 乾燥炉l内の温度の変動は、温度計52で検出し、熱量
の調整は空気供給流量調整弁60で行う。 乾燥すべき固体が高温で熱分解する場合には、減圧下で
乾燥する方法が非常に有効となる。通常乾燥炉2の温度
は、乾燥させて取り除くべき物質の沸点以上に上げる必
要がある。しかし、この、温度以上に上げると固体が熱
分解する場合、乾燥炉2を減圧にすればより低温で乾燥
できる。乾燥炉2を減圧ポンプ17により減圧し、圧力
制御は圧力計53で系内の圧力を検出して圧力調整弁5
5で実施する。 また、還元ガス発生炉の温度及びガス量を変化したい場
合、バイパス弁より乾燥後のガス量を制御しバイパス管
71より還元ガス発生炉に供給することも可能である。 以上のような制御法により乾燥炉2を最適な乾燥条件に
することが可能となる。乾燥炉2を減圧制御する他の例
を第7図に示す。 減圧ポンプ17の前後のガスライン21にバイパス管7
2を設置し、このバイパス管72に調圧弁71を設けて
いる。炉2内の圧力は圧力計53で検出し、圧力が変動
した場合にはこの信号を調圧弁71に送ることにより、
バイパス管72のガス量を制御して圧力調整する。以上
のような方法により容易に減圧下での圧力を調整するこ
とが可能となる。 第8図にはプロパンを空気比(モル比)1.0以下で反
応させた結果を示す。温度800℃における空気比とガ
ス組成(Ol、H2O)の関係についてみると、空気比
(モル比)を1.0以下にすると反応ガス中の残酸素は
ほぼ零となる。空気比(モル比)を0.25以下にする
と残存水分量もほぼ零となり、乾燥物の乾燥条件に合わ
せて空気比を制御すれば良いことが分かる。 第9図に乾燥した粒子の断面を示す。粒子は通常、細孔
を多く含んでおり、比表面積でみれば、内部の細孔面積
が大部分を占める。従って一旦、細孔内に含まれた水分
を除去した後、大気中に放置すると、大気中の水分を再
吸収する可能性がある。しかし、第9図に示したように
、本発明では還元ガスを含んだガスで乾燥させるため、
細孔内に吸着速度の大きいH,ガスや吸着されやすい極
性ガスであるCoガスが吸着される。このため大気中に
放置しても、水分の再吸着を防止できるし、酸素吸着に
よる劣化防止にも効果が期待でさる。 第1O図に乾燥した粒子を常温の大気中に放置した場合
の水分の吸収速度を示す。粒子として0゜2mm1の高
分子ポリマービーズを用い、通常の燃焼排ガスで乾燥し
、大気に放置した時の単位表面積当りの水分吸収速度を
1として比較した。乾燥ガスとして不活性ガスであるN
、ガスを用いた場合は0.89に、本発明の還元ガス(
H,、CO金含有を用いj;場合には0.12に低下し
、明らかに還元ガスを用いl;方が、水分吸収速度は小
さくなる。すなわち還元ガスを用いて乾燥した方が大気
中での水分、酸素の再吸着が防止でき、有利な乾燥法で
あることが期待できる。
【発明の効果】
本発明によれば以下のような効果がある。すなわち還元
ガス発生炉において燃料を空気比(モル比)1.0以下
の条件で反応させて、酸素を含まない還元ガスを発生さ
せ乾燥炉に必要に不活性ガスとして利用する。このよう
な方法を採用すれば窒素ガス等の不活性ガスをわざわざ
用いなくても、含水固体粒子のみならず酸化性化合物や
溶媒を含む固体粒子を効率良く乾燥できる。 また、別途用意した不活性ガスを循環して再使用する必
要がないので、循環中の不活性ガス中に同伴された微粉
固体粒子、溶媒の回収率を極端に高くする必要がなく、
溶剤等の液体を回収する必要がないときは、還元ガスと
共に燃焼炉で燃焼させてもよい。さらに、乾燥炉を出た
還元ガスを燃焼させて固体粒子の乾燥用加熱源として利
用できるので、別途乾燥炉用燃料を用意しておく必要も
ない。また、空気比が1に近い還元ガスは、高温燃焼ガ
ス生成用燃焼炉に供給される空気の予熱に利用できる。 従って、本発明によれば低コストで上述した固体粒子を
乾燥できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1.2図には含水固体粒子を乾燥する実施例の乾燥装
置、第3.4図には溶媒を含む固体粒子を乾燥する実施
例の乾燥装置、第5図(a)、(b)、(c)および(
d)は乾燥炉の間接加熱器、第6図は乾燥装置の制御系
統図、第7図は減圧制御する他の制菌系統図、第8図は
空気比とガス組成(01、H80)の関係、第9図は乾
燥粒子の断面を、第1O図は乾燥粒子の水分吸収速度の
比較を、第11図は従来の乾燥装置をそれぞれ示す。 代理人 弁理士松永孝義はか1名 第 図 第 図 (a ) 6:還元ガス入口管 第 臼 2:乾燥炉 5:還元ガス発生炉 9:捕集管 20:燃焼炉 50:制御器 空気比(−)

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)空気比(モル比)1.0以下の条件で炭化水素系
    燃料を触媒燃焼方式により燃焼させて還元ガスを発生さ
    せ、当該還元ガスにより固体粒子を含む混合物を乾燥さ
    せることを特徴とする還元ガスによる固体粒子乾燥方法
  2. (2)固体粒子を含む混合物を還元ガスと直接接触する
    ことにより乾燥させる乾燥炉と還元ガスに同伴する乾燥
    固体粒子を分離するための分離装置および還元ガスに同
    伴する蒸発液体を凝縮させる熱交換器を設けた還元ガス
    による固体粒子乾燥装置において、空気比(モル比)1
    .0以下の条件で炭化水素系燃料を燃焼させる還元ガス
    発生炉と、乾燥固体粒子および還元ガスに同伴する蒸発
    液体を分離した後の還元ガスを燃焼させる高温燃焼ガス
    生成用の燃焼炉と、を乾燥炉に付設し、高温燃焼ガスに
    より固体粒子を間接加熱するための間接加熱装置を乾燥
    炉内に設けたことを特徴とする還元ガスによる固体粒子
    乾燥装置。
  3. (3)固体粒子を含む混合物を還元ガスと直接接触する
    ことにより乾燥させる乾燥炉と還元ガスに同伴する乾燥
    固体粒子を分離するための分離装置および還元ガスに同
    伴する蒸発液体を凝縮させる熱交換器を設けた還元ガス
    による固体粒子乾燥装置において、空気比(モル比)1
    .0以下の条件で炭化水素系燃料を触媒燃焼により燃焼
    させる還元ガス発生炉と、乾燥固体粒子および還元ガス
    に同伴する蒸発液体を分離した後の還元ガスを燃焼させ
    る高温燃焼ガス生成用の燃焼炉と、を乾燥炉に付設し、
    高温燃焼ガスを熱交換器に導いて、燃焼炉に供給する空
    気を予熱することを特徴とする還元ガスによる固体粒子
    乾燥装置。
  4. (4)固体粒子を含む混合物を還元ガスと直接接触する
    ことにより乾燥させる乾燥炉と還元ガスに同伴する乾燥
    固体粒子を分離するための分離装置を設けた還元ガスに
    よる固体粒子乾燥装置において、空気比(モル比)1.
    0以下の条件で炭化水素系燃料を燃焼させる還元ガス発
    生炉と、固体粒子分離後の還元ガスを燃焼させて得られ
    る高温燃焼ガスを生成させる燃焼炉と、を乾燥炉に付設
    し、高温燃焼ガスにより固体粒子を間接加熱するための
    間接加熱装置を乾燥炉に設けたことを特徴とする還元ガ
    スによる固体粒子乾燥装置。
  5. (5)固体粒子を含む混合物を還元ガスと直接接触する
    ことにより乾燥させる乾燥炉と還元ガスに同伴する乾燥
    固体粒子を分離するための分離装置を設けた還元ガスに
    よる固体粒子乾燥装置において、空気比(モル比)1.
    0以下の条件で炭化水素系燃料を触媒燃焼により燃焼さ
    せる還元ガス発生炉と、固体粒子分離後の還元ガスを燃
    焼させて得られる高温燃焼ガスを生成させる燃焼炉と、
    を乾燥炉に付設し、高温燃焼ガスを熱交換器に導いて、
    燃焼炉に供給する空気を予熱することを特徴とする還元
    ガスによる固体粒子乾燥装置。
  6. (6)固体粒子を含む混合物が水または有機溶剤または
    酸化性化合物をふくむものであることを特徴とする請求
    項1〜5記載の還元ガスによる固体粒子の乾燥装置。
  7. (7)同伴する蒸発液体が水または有機溶剤であること
    を特徴とする請求項1〜6記載の還元ガスによる固体粒
    子の乾燥装置。
  8. (8)乾燥炉が流動体媒体を充填した流動層炉であるこ
    とを特徴とする請求項1〜7記載の還元ガスによる固体
    粒子乾燥装置。
  9. (9)乾燥炉を減圧状態で運転する減圧装置を備えたこ
    とを特徴とする請求項1〜8記載の還元ガスによる固体
    粒子乾燥装置。
  10. (10)還元ガス発生炉として触媒燃焼炉を用いること
    を特徴とする請求項1〜9記載の還元ガスによる固体粒
    子乾燥装置。
  11. (11)分離装置が固体粒子捕集器であることを特徴と
    する請求項1〜10記載の還元ガスによる固体粒子乾燥
    装置。
  12. (12)分離装置が乾燥炉内に設けられ、乾燥炉上部に
    設けた乾燥固体抜出し口を持つものであることを特徴と
    する請求項1〜11記載の還元ガスによる固体粒子乾燥
    装置。
JP8449989A 1989-04-03 1989-04-03 還元ガスによる固体粒子乾燥装置 Pending JPH02261502A (ja)

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JPH02261502A true JPH02261502A (ja) 1990-10-24

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JP8449989A Pending JPH02261502A (ja) 1989-04-03 1989-04-03 還元ガスによる固体粒子乾燥装置

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JP (1) JPH02261502A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0719736A (ja) * 1993-06-28 1995-01-20 Katsura Seiki Seisakusho:Kk 乾燥装置
JP2014519003A (ja) * 2011-07-12 2014-08-07 デハン エレクトリック カンパニー リミテッド 凝縮除湿機

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JPH0719736A (ja) * 1993-06-28 1995-01-20 Katsura Seiki Seisakusho:Kk 乾燥装置
JP2014519003A (ja) * 2011-07-12 2014-08-07 デハン エレクトリック カンパニー リミテッド 凝縮除湿機

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