JPH02259098A - 分散メッキ方法および分散メッキ被膜 - Google Patents
分散メッキ方法および分散メッキ被膜Info
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Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ａ、 発明の利用分野
本発明は分散メッキ方法および分散メッキ被膜に関する
。
。
ｂ、 従来の技術と本発明の課題
従来、無機化合物または有機高分子の粒子あるいは繊維
を懸濁させ、このメッキ浴においてメッキを行ない、こ
の粒子をマトリックス中に分散共析させるメッキ方法が
ある。このようなメッキ方法は分散メッキと称され、こ
こで使われる粒子を分散材と称している。
を懸濁させ、このメッキ浴においてメッキを行ない、こ
の粒子をマトリックス中に分散共析させるメッキ方法が
ある。このようなメッキ方法は分散メッキと称され、こ
こで使われる粒子を分散材と称している。
例えば、メッキ浴としてニッケルメッキ浴を使用し、リ
ン化合物を添加し、分散材として炭化ケイ素（ＳｉＣ）
を使用すればＮｉ −Ｐ−ＳｉＣ分散メッキ被膜を形成
することができる。なお、Ｎ１−Ｐ合金マトリックス系
のメッキ被膜はＮｉマトリックスに比較して若干耐食性
が向上する。
ン化合物を添加し、分散材として炭化ケイ素（ＳｉＣ）
を使用すればＮｉ −Ｐ−ＳｉＣ分散メッキ被膜を形成
することができる。なお、Ｎ１−Ｐ合金マトリックス系
のメッキ被膜はＮｉマトリックスに比較して若干耐食性
が向上する。
分散メッキの特性は、このメッキ被膜に分散共析する分
散材によって決定される。すなわち、硬質微粒子である
炭化ケイ素（ＳｉＣ） 、窒化ケイ素、（ＳｉＪ４）
、アルミナ（Ａ ｌ ｚＯｓ）等を分散材としたＮｉＰ
ＳｉＣ＋Ｎｉ Ｐ ５ｉＪｎ、Ｎｉ Ｐ
ＡＩ！、ｚＯｓ等の分散メッキ被膜は耐摩耗性を特徴と
する。また、潤滑性を有するテフロン（ＰＴＰＲ）、窒
化ホウ素（ＢＮ）等を分散材とした例えば、Ｎｉ Ｐ
ＰＴＦＥ、 Ｎｉ −ＰＢＮ等の分散メッキ被膜は
潤滑性を特徴とする。
散材によって決定される。すなわち、硬質微粒子である
炭化ケイ素（ＳｉＣ） 、窒化ケイ素、（ＳｉＪ４）
、アルミナ（Ａ ｌ ｚＯｓ）等を分散材としたＮｉＰ
ＳｉＣ＋Ｎｉ Ｐ ５ｉＪｎ、Ｎｉ Ｐ
ＡＩ！、ｚＯｓ等の分散メッキ被膜は耐摩耗性を特徴と
する。また、潤滑性を有するテフロン（ＰＴＰＲ）、窒
化ホウ素（ＢＮ）等を分散材とした例えば、Ｎｉ Ｐ
ＰＴＦＥ、 Ｎｉ −ＰＢＮ等の分散メッキ被膜は
潤滑性を特徴とする。
このような従来の分散メッキ被膜のうち旧−ＰＳｉＣ分
散メッキ被膜にかかるものを模式的に図示したものが第
２図である。図において２１はメッキ素地、２２はＮ１
−Ｐ合金マトリックスである。このＮｉマトリックス２
２中には、ＳｉＣ粒子２３が分散共析している。
散メッキ被膜にかかるものを模式的に図示したものが第
２図である。図において２１はメッキ素地、２２はＮ１
−Ｐ合金マトリックスである。このＮｉマトリックス２
２中には、ＳｉＣ粒子２３が分散共析している。
しかし、上記Ｎｉ −Ｐ −５ｉＣ，Ｎｉ −Ｐ −５
ｉＪ４＋Ｎｉ Ｐ ＡＪ！ｇｏｓあるいはＮｉ −
Ｐ −ＰＴＦ［！、 Ｎｉ −ＰＢＮ分散メッキ被膜は
耐摩耗性あるいは潤滑性には優れているものの耐食性に
関してはかなり劣っており、不十分であった。すなわち
、例えば上記第２図のＮｉ −Ｐ−５ｉＣ分散メッキ被
膜では、ＳｉＣ粒子は全く耐食性には寄与せず、むしろ
このＳｉＣ粒子が共析している分だけＮ＋マトリックス
の容量が減り、その分だけ腐蝕が早まるという欠点があ
った。
ｉＪ４＋Ｎｉ Ｐ ＡＪ！ｇｏｓあるいはＮｉ −
Ｐ −ＰＴＦ［！、 Ｎｉ −ＰＢＮ分散メッキ被膜は
耐摩耗性あるいは潤滑性には優れているものの耐食性に
関してはかなり劣っており、不十分であった。すなわち
、例えば上記第２図のＮｉ −Ｐ−５ｉＣ分散メッキ被
膜では、ＳｉＣ粒子は全く耐食性には寄与せず、むしろ
このＳｉＣ粒子が共析している分だけＮ＋マトリックス
の容量が減り、その分だけ腐蝕が早まるという欠点があ
った。
ｃ、 Ｌｉ！題を解決するための手段本発明は上記事
情に鑑みてなされたもので、リン化合物が添加され、Ｓ
ｉＣ等を共析物質として懸濁させ、かつ枝糸１０μｍ以
下の金属Ｔｉ粉末を共析物質として懸濁させてなるメッ
キ液中においてメッキ浴を行なう分散メッキ方法および
該方法によって形成される分散メッキ被膜を提供するも
のである。
情に鑑みてなされたもので、リン化合物が添加され、Ｓ
ｉＣ等を共析物質として懸濁させ、かつ枝糸１０μｍ以
下の金属Ｔｉ粉末を共析物質として懸濁させてなるメッ
キ液中においてメッキ浴を行なう分散メッキ方法および
該方法によって形成される分散メッキ被膜を提供するも
のである。
ｄ、 実施例および作用
以下に添付図面に示した実施例を参照しながら、本発明
にかかる分散メッキ方法および分散メッキ被膜を説明す
る。
にかかる分散メッキ方法および分散メッキ被膜を説明す
る。
本発明者は、分散メッキ被膜の耐食性について鋭意検討
を行なった結果、Ｔｉ粉末を共析物質（分散材）として
使用することにより耐食性が著しく向上することに創到
した。
を行なった結果、Ｔｉ粉末を共析物質（分散材）として
使用することにより耐食性が著しく向上することに創到
した。
すなわち、Ｔｉ粉末はまずそのものが海水および海洋性
雰囲気における耐食性に優れている。さらに、非金属で
あるＳｉＣと異なり、金属であるためにＮ１−Ｐのマト
リックス中において共析しているというよりもむしろＮ
ｉ等の中に晶出したＮｉ等とのＮ１−Ｐ−Ｔｉの三元合
金状態を呈することから、Ｎｉ等の良好な物性を保持し
つつ耐食性の向上を図ることができる。
雰囲気における耐食性に優れている。さらに、非金属で
あるＳｉＣと異なり、金属であるためにＮ１−Ｐのマト
リックス中において共析しているというよりもむしろＮ
ｉ等の中に晶出したＮｉ等とのＮ１−Ｐ−Ｔｉの三元合
金状態を呈することから、Ｎｉ等の良好な物性を保持し
つつ耐食性の向上を図ることができる。
ここで、Ｎ１−Ｐ金属マトリックスの中にＴｉ金属が分
散共析している。したがって、三種の金属同士が互いに
混合したような状態を形成している。
散共析している。したがって、三種の金属同士が互いに
混合したような状態を形成している。
このためＮ１−Ｐ合金マトリックスとＴｉ金属との間に
結晶粒界が形成しているようにも思われる。しかし、Ｔ
ｉ金属は極めて不動態化しやすい。そのため、旧−Ｐ合
金マトリックスと金属Ｔｉとの間に不動ＭＷが存在し、
粒間腐蝕は生じない。むしろ不動態化したＴｉ金属は耐
食性において優れており、Ｎ１−Ｐ合金マトリック・ス
の耐食性と相まって、相乗的に耐食性が向上する。
結晶粒界が形成しているようにも思われる。しかし、Ｔ
ｉ金属は極めて不動態化しやすい。そのため、旧−Ｐ合
金マトリックスと金属Ｔｉとの間に不動ＭＷが存在し、
粒間腐蝕は生じない。むしろ不動態化したＴｉ金属は耐
食性において優れており、Ｎ１−Ｐ合金マトリック・ス
の耐食性と相まって、相乗的に耐食性が向上する。
また、ＴｉはＮｉ等に比べて遜色のない金属であり、共
析させたとしても、Ｎｉ等の物性を損なうことがないと
いったことに創到したものである。
析させたとしても、Ｎｉ等の物性を損なうことがないと
いったことに創到したものである。
本発明にかかる分散メッキ方法は、通常のメキ浴中にお
いて、リン化合物を添加し、ＳｉＣ＋ ５ｉｚＮａ＋Ａ
ｌ ！０２． ＰＴＦＥあるいはＢＮ等を共析物質と
して懸濁させ、かつ粗系１０μ鋼以下の金属Ｔｉ粉末を
共析物質として懸濁させて行なう。
いて、リン化合物を添加し、ＳｉＣ＋ ５ｉｚＮａ＋Ａ
ｌ ！０２． ＰＴＦＥあるいはＢＮ等を共析物質と
して懸濁させ、かつ粗系１０μ鋼以下の金属Ｔｉ粉末を
共析物質として懸濁させて行なう。
Ｔｉ粉末の共析量はその懸濁量に比例する。また、共析
量（＝面積率）に比例して耐食性が向上する。
量（＝面積率）に比例して耐食性が向上する。
一方、Ｔｉ粉末の懸濁量は粒径がｌＯμ−以下であれば
原則として特に制限しなくても支障はない。したがって
、理論的には耐食性を向上させるためには懸濁量をでき
るだけ多くすれば良いこととなる。
原則として特に制限しなくても支障はない。したがって
、理論的には耐食性を向上させるためには懸濁量をでき
るだけ多くすれば良いこととなる。
しかし、実際にはＳｉＣ等の他の粒子の懸濁量との関係
を考慮してＴｉ粉末の懸濁量が決定される。
を考慮してＴｉ粉末の懸濁量が決定される。
なお、マトリックスとして使用する金属としては、Ｎｉ
の他Ｃｏ、 Ｆｅ、 Ｎｉ−Ｃｏ、 Ｎｉ−Ｆｅ＋ Ｃ
ｏ Ｆｅが使用される。
の他Ｃｏ、 Ｆｅ、 Ｎｉ−Ｃｏ、 Ｎｉ−Ｆｅ＋ Ｃ
ｏ Ｆｅが使用される。
第１図は本発明にかかる分散メッキ方法によって形成さ
れる分散メッキ被膜のうちＮｉ −Ｐ −Ｔｉ−３ｉＣ
分散メッキ被膜にかかる実施例を模式的に図示したもの
で、図において１はメッキ素地、２はＮ１−Ｐマトリッ
クスである。このＮ１−Ｐマトリックス中には、ＳｉＣ
粒子３およびＴｉ粒子４が分散共析している。
れる分散メッキ被膜のうちＮｉ −Ｐ −Ｔｉ−３ｉＣ
分散メッキ被膜にかかる実施例を模式的に図示したもの
で、図において１はメッキ素地、２はＮ１−Ｐマトリッ
クスである。このＮ１−Ｐマトリックス中には、ＳｉＣ
粒子３およびＴｉ粒子４が分散共析している。
上記実施例にかかる分散メッキ被膜は優れた耐食性を示
した。
した。
（薬品名称） 実施例 比較例スルフ
ァミン酸ニッケル ５００ｇ／ １ ５００ｇ／
１塩化ニツケル １５ｇ／ １ １５
ｇ／ １ホウ酸 ４５ｇ／ １
４５ｇ／ １サツカリンソーダ ５ｇ／
１ ５ｇ／ １次亜リン酸ソーダ ２ｇ
／ １ ２ｇ／ １窒化珪素：ＳｉＣ１２０ｇ／
１ １２０ｇ／ １金属Ｔｉ粉末 ８
０ｇ／ １（平均粒径：４〔μ麟〕） 上記メッキ組成に示した比較例及び実施例にてメッキテ
ストを行った。ＳｉＣ懸濁量は比較例、実施例ともに１
２０ （ｇ／ｆ ）とした。
ァミン酸ニッケル ５００ｇ／ １ ５００ｇ／
１塩化ニツケル １５ｇ／ １ １５
ｇ／ １ホウ酸 ４５ｇ／ １
４５ｇ／ １サツカリンソーダ ５ｇ／
１ ５ｇ／ １次亜リン酸ソーダ ２ｇ
／ １ ２ｇ／ １窒化珪素：ＳｉＣ１２０ｇ／
１ １２０ｇ／ １金属Ｔｉ粉末 ８
０ｇ／ １（平均粒径：４〔μ麟〕） 上記メッキ組成に示した比較例及び実施例にてメッキテ
ストを行った。ＳｉＣ懸濁量は比較例、実施例ともに１
２０ （ｇ／ｆ ）とした。
実施例において、ＳｉＣ懸濁量と金属Ｔｉ粉末懸濁量の
総和があまりに多いと、メッキ液が泥漿状態を呈し、メ
ッキ条件としてあまり好ましくないため、このＳｉＣ懸
濁量と金属Ｔｉ粉末懸濁量との総和の上限を２００ Ｃ
ｇ／ｌ ）に設定した。それ故、金属Ｔｉ粉末懸濁量を
８０（ｇ／ｊりとした。
総和があまりに多いと、メッキ液が泥漿状態を呈し、メ
ッキ条件としてあまり好ましくないため、このＳｉＣ懸
濁量と金属Ｔｉ粉末懸濁量との総和の上限を２００ Ｃ
ｇ／ｌ ）に設定した。それ故、金属Ｔｉ粉末懸濁量を
８０（ｇ／ｊりとした。
メッキ被膜の性能評価方法として、塩水噴霧試験材を用
いた、赤錆発生までの耐食性能評価を予定した。このた
め、被メッキ素材は、鉄材とし、メッキ膜厚も一定にな
るようにメッキを施した。
いた、赤錆発生までの耐食性能評価を予定した。このた
め、被メッキ素材は、鉄材とし、メッキ膜厚も一定にな
るようにメッキを施した。
次に測定データを示す。
実施例の場合、メッキ浴におけるＳｉＣ懸濁量が、比較
例と同一であるにもかかわらず、メッキ被膜中の共析量
が低い傾向を示すのは、メッキ浴にともに懸濁している
Ｔｉ粉末の影響と推定される。
例と同一であるにもかかわらず、メッキ被膜中の共析量
が低い傾向を示すのは、メッキ浴にともに懸濁している
Ｔｉ粉末の影響と推定される。
以上の実験結果より、本発明によるＮｉ −Ｐ −Ｔｉ
ＳｉＣ分散メッキ被膜は、例えばＮ１−Ｐ−ＳｉＣ分散
メッキ被膜に比較し、約２．２倍もの耐食性をも有した
被膜を提供した。
ＳｉＣ分散メッキ被膜は、例えばＮ１−Ｐ−ＳｉＣ分散
メッキ被膜に比較し、約２．２倍もの耐食性をも有した
被膜を提供した。
ｆ、効果
以上のように、本発明はＳｉＣ等のみならず粒径１１０
ｌ１以下の金属Ｔｉ粉末を共析させることとして、分散
メッキ被膜の耐食性の向上を図ったのでその効果は大き
い。
ｌ１以下の金属Ｔｉ粉末を共析させることとして、分散
メッキ被膜の耐食性の向上を図ったのでその効果は大き
い。
第１図は本発明にかかる分散メッキ被膜の断面図、第２
図は従来の分散メッキ被膜の断面図である。 １．２１・・・メッキ素地、２・・・Ｎ１−Ｐマトリッ
クス、３．２３・・・ＳｉＣ粒子、 ４・・・Ｔｉ粒子
、２２・・・Ｎｉマトリックス。 手続補正書１発） 平成１ 年５
図は従来の分散メッキ被膜の断面図である。 １．２１・・・メッキ素地、２・・・Ｎ１−Ｐマトリッ
クス、３．２３・・・ＳｉＣ粒子、 ４・・・Ｔｉ粒子
、２２・・・Ｎｉマトリックス。 手続補正書１発） 平成１ 年５
Claims (4)
- （１） リン化合物が添加され、かつ粒径１０μｍ以下
の金属Ｔｉ粉末を共析物質として懸濁させてなるメッキ
液中においてメッキ浴を行なうことを特徴とする分散メ
ッキ方法。 - （２） 上記金属Ｔｉ粉末の他ＳｉＣ，Ｓｉ＿２Ｎ＿４
，Ａｌ＿２Ｏ＿３，ＰＴＦＥあるいはＢＮのうちの少な
くとも１つを共析物質として懸濁させてなる請求項（１
）に記載の分散メッキ方法。 - （３） 請求項（１）に記載の方法によって形成される
Ｘ−Ｐ−Ｔｉ（Ｘは、Ｎｉ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉ−Ｃｏ，
Ｎｉ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｆｅから成る群から選ばれた金属）
分散メッキ被膜。 - （４） 請求項（２）に記載の方法によって形成される
Ｘ−Ｐ−Ｔｉ−Ｙ（Ｘは、Ｎｉ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉ−Ｃ
ｏ，Ｎｉ−Ｆｅ，Ｃｏ−Ｆｅから成る群から選ばれた金
属；Ｙは、ＳｉＣ，Ｓｉ＿２Ｎ＿４，Ａｌ＿２Ｏ＿３，
ＰＴＦＥあるいはＢＮから成る群から選ばれた無機化合
物）分散メッキ被膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1080780A JP2765026B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 分散メッキ方法および分散メッキ被膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1080780A JP2765026B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 分散メッキ方法および分散メッキ被膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02259098A true JPH02259098A (ja) | 1990-10-19 |
| JP2765026B2 JP2765026B2 (ja) | 1998-06-11 |
Family
ID=13727959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1080780A Expired - Lifetime JP2765026B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 分散メッキ方法および分散メッキ被膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2765026B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006051514A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Shinshu Univ | 銅部材のろう材被膜形成方法及びブレージングシート並びに銅部材の接合方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63308397A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-12-15 | Asahi Glass Co Ltd | セラミツクス基板の製造方法 |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP1080780A patent/JP2765026B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63308397A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-12-15 | Asahi Glass Co Ltd | セラミツクス基板の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006051514A (ja) * | 2004-08-10 | 2006-02-23 | Shinshu Univ | 銅部材のろう材被膜形成方法及びブレージングシート並びに銅部材の接合方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2765026B2 (ja) | 1998-06-11 |
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