JPH02251519A - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

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JPH02251519A
JPH02251519A JP7169489A JP7169489A JPH02251519A JP H02251519 A JPH02251519 A JP H02251519A JP 7169489 A JP7169489 A JP 7169489A JP 7169489 A JP7169489 A JP 7169489A JP H02251519 A JPH02251519 A JP H02251519A
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JP
Japan
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silicone
epoxy resin
modified
weight
resin
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JP7169489A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaru Ota
賢 太田
Kenichi Yanagisawa
健一 柳沢
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain an epoxy resin for sealing semiconductor which has excellent fabricability. marking properties, moisture resistance and soldering heat resistance by using a silicone-modified epoxy resin having a specific silicone modification rate and a silicone-modified phenolic resin. CONSTITUTION:The subject epoxy resin composition is obtained by adding a silicone-modified epoxy resin having R in the range of 95 <=R <=100 in the equation (A is the peak area of silicone fraction which is separated at 0.7 Rf value/the peak area of the standard substance separated at 0.4 to 0.6 Rf value, namely cholesterol acetate; B is the weight of the silicone-modified resin/the weight of the standard substance; C is silicone component content in the silicone- modified resin; K is the weight of silicones corresponding to the unit area of the silicone compound peak/the weight of the cholesterol acetate, the standard substance), to a silicone-modified phenolic resin.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、成形加工性(型汚れ、樹脂パリ、成形ボイド
、離型性)、捺印性、耐湿性、耐熱衝撃性および半田耐
熱性に優れた高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂およ
び高変性率シリコーン変性7エノール樹脂を主成分とす
る半導体封止用樹脂組成物に関するものである。
Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention is applicable to molding processability (mold stains, resin flakes, molding voids, mold releasability), imprintability, moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance. The present invention relates to a resin composition for semiconductor encapsulation which contains an excellent high modification rate silicone-modified epoxy resin and a high modification rate silicone-modified 7-enol resin as main components.

(従来技術) 近年IC,LSI、)ランシスター、ダイオードなどの
半導体素子や電子回路の樹脂封止には特性、コスト等の
点からエポキシ樹脂組成物が多量にかつ最も一般的に用
いられている。
(Prior art) In recent years, epoxy resin compositions have been used in large quantities and most commonly for resin encapsulation of semiconductor elements and electronic circuits such as ICs, LSIs, Lancisters, and diodes due to their characteristics, cost, etc. .

しかし電子部品の量産性指向、軽薄短小化、集積度の増
大等に伴い封止樹脂に対する要求は厳しくなってきてお
り、成形加工性、捺印性、耐湿性、耐熱衝撃性や半田耐
熱性の向上が今まで以上に強く要求されるようになって
きt;。
However, as electronic components become more mass-producible, become lighter, thinner, shorter, and more integrated, demands on sealing resins are becoming stricter. has become more strongly demanded than ever before.

耐湿性や耐熱衝撃性の改良のため、シリコーンオイル、
シリコーンゴム等のシリコーン化合物、合成ゴムや熱可
塑性樹脂等の添加が一般におこなわれてきている。
Silicone oil, to improve moisture resistance and thermal shock resistance.
Additions of silicone compounds such as silicone rubber, synthetic rubbers, thermoplastic resins, etc. have generally been carried out.

通常の、改質剤を添加しないエポキシ樹脂組成物であっ
ても型汚れ、樹脂パリや捺印性等の不良が発生し易い傾
向にあるが、耐湿性、耐熱衝撃性や半田耐熱性を向上さ
せるために改質剤を添加すれば型汚れ、樹脂パリの発生
、成形ボイドの発生や捺印性等の不良発生がより一層悪
化する方向となってしまう。
Even with ordinary epoxy resin compositions without the addition of modifiers, defects such as mold stains, resin cracks, and imprintability tend to occur easily, but it can improve moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance. Therefore, if a modifier is added, problems such as mold staining, resin fringing, molding voids, and poor sealability will become worse.

これらの成形加工性(を汚れ、樹脂パリ、成形ボイド、
離型性)や捺印性等の不良が発生するのは、成形加工時
にこれらの改質剤成分が成形品表面に浮き出すためであ
り、これらの改質剤成分とエポキシ樹脂、フェノール樹
脂との相溶性が悪いことに起因している。
These molding processability (stains, resin particles, molding voids,
Defects in mold releasability and imprintability occur because these modifier components stand out on the surface of the molded product during the molding process, and the interaction between these modifier components and the epoxy resin and phenol resin causes This is due to poor compatibility.

これらを改良するためにシリコーン化合物とフェノール
樹脂あるいはエポキシ樹脂をあらかじめ反応させたもの
を用いるということが提案されている(例えば特開昭6
1−73725号公報、特開昭62−174222号公
報、特開昭62−212417号公報等)。
In order to improve these problems, it has been proposed to use a silicone compound reacted with a phenol resin or an epoxy resin (for example, in JP-A No. 6
1-73725, JP-A-62-174222, JP-A-62-212417, etc.).

これらのシリコーン変性樹脂を用いることにより、シリ
コーン化合物の浮き出しがある程度抑えられるために成
形加工性、捺印性が向上し、耐湿性、耐熱衝撃性や半田
耐熱性がある程度改良されたエポキシ樹脂組成物が得ら
れるがいまだ満足出来うるものではなかった。
By using these silicone-modified resins, the embossment of the silicone compound can be suppressed to some extent, resulting in improved molding processability and imprintability, and an epoxy resin composition with improved moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance to some extent. Although I was able to obtain it, I was still not satisfied with it.

この理由はシリコーン化合物とエポキシ樹脂或いはフェ
ノール樹脂とは互いに相溶性の悪い化合物どうしである
ため反応性が悪く高反応率のシリコーン変性樹脂が得ら
れていなかったことによる。
The reason for this is that silicone compounds and epoxy resins or phenol resins are compounds that have poor compatibility with each other, so their reactivity is poor and a silicone-modified resin with a high reaction rate has not been obtained.

このため従来得られているシリコーン変性樹脂中には未
反応シリコーン化合物が多量に含有されていたために成
形加工性、捺印性を満足するものが得られず、更に耐湿
性、耐熱衝撃性や半田耐熱性の改良効果も不十分であっ
た。
For this reason, conventionally obtained silicone-modified resins contain a large amount of unreacted silicone compounds, making it impossible to obtain products that satisfy molding processability and stamping properties, as well as moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance. The effect of improving sex was also insufficient.

これらの点について鋭意研究した結果、シリコーン変性
樹脂のもたらす利点を最大限に引き出す為にはシリコー
ン化合物とエポキシ樹脂或いはフェノール樹脂との反応
率がある一定値以上のものを選択的に使用することによ
って非常に優れた、従来では得られなかった半導体封止
用樹脂組成物が得られることを見いだしてなされたもの
である。
As a result of intensive research on these points, we have found that in order to maximize the benefits of silicone-modified resins, it is necessary to selectively use compounds whose reaction rate between silicone compounds and epoxy resins or phenolic resins is above a certain value. This invention was made based on the discovery that an extremely superior resin composition for semiconductor encapsulation, which could not be obtained conventionally, could be obtained.

(発明が解決しようとする課題) 本願発明の目的とするところは成形加工性(型汚れ、樹
脂パリ、成形ボイド、離型性)捺印性、耐湿性、耐熱衝
撃性および半田耐熱性に優れ、バランスのとれた信頼性
に非常に優れた半導体封止用の樹脂組成物を提供するこ
とにある。
(Problems to be Solved by the Invention) The purpose of the present invention is to provide excellent molding processability (mold stains, resin flakes, molding voids, mold releasability), imprintability, moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance. The object of the present invention is to provide a resin composition for semiconductor encapsulation that is well-balanced and has excellent reliability.

(課題を解決するだめの手段) 本発明者らは、これらの問題を解決するため、鋭意研究
を進め、溶媒強度0.25以下の有機溶媒を用いシリカ
ゲルを吸着剤として展開する薄層クロマトグラフィーに
より下記式(1)で求められるシリコーン変性率が95
≦R≦100であるシリコーン変性エポキシ樹脂とシリ
コーン変性フェノール樹脂とからなる組成物が半導体封
止用エポキシ樹脂組成物として最適であることを見い出
して本願発明を完成するに至ったものである。
(Means for Solving the Problems) In order to solve these problems, the present inventors have conducted intensive research and developed thin layer chromatography using an organic solvent with a solvent strength of 0.25 or less and developing silica gel as an adsorbent. The silicone modification rate determined by the following formula (1) is 95.
The present invention was completed by discovering that a composition comprising a silicone-modified epoxy resin and a silicone-modified phenol resin in which ≦R≦100 is optimal as an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation.

R= (1−KA/BC)Xl 00・・・ (1)A
 : S/T (溶媒強度0.25以下の有機溶媒を用
いシリカゲルを吸着剤にして展開する 薄層クロマトグ
ラフィーによりRf値0.7〜0.9の範囲に分離され
るシリコーン化合物のピーク面積SとRf値0.4〜0
.6の範囲に分離される標準物質コレステロールアセテ
ートのピーク面積Tとの比) B:試料溶液中のシリコーン変性樹脂の重量/試料溶液
中の標準物質の重量 C:シリコーン変性樹脂中のシリコーン成分含有量(シ
リコーン変性樹脂生成反応時におけるシリコーン化合物
の添加重量) K:シリコーン化合物ピークの単位面積に対応するシリ
コーン化合物重量/標準物質の単位面積に対するコレス
テロールアセテート重量。
R= (1-KA/BC)Xl 00... (1)A
: S/T (peak area S of silicone compounds separated into Rf values in the range of 0.7 to 0.9 by thin layer chromatography developed using an organic solvent with a solvent strength of 0.25 or less and silica gel as an adsorbent) and Rf value 0.4~0
.. 6) B: Weight of silicone-modified resin in sample solution/weight of standard substance in sample solution C: Silicone component content in silicone-modified resin (Weight of silicone compound added during silicone modified resin production reaction) K: weight of silicone compound corresponding to unit area of silicone compound peak/weight of cholesterol acetate to unit area of standard substance.

本願発明において用いる高変性率シリコーン変性エポキ
シ樹脂或いはフェノール樹脂は、シリコーン変性率Rが
95≦R≦100であることが必要であり、これらのシ
リコーン変性エポキシ樹脂或いはフェノール樹脂は、未
反応シリコーン化合物が少ないために、未反応シリコー
ン化合物の成形品表面への浮き出しが少なく、成形加工
性や捺印性を悪化させることがなく、その上に殆どのシ
リコーン化合物がエポキシ樹脂とフェノール樹脂との三
次元架橋構造に取り込まれてしまっているために、シリ
コーンの粒径は極めて小さくなり、その結果強度が向上
して耐熱衝撃性、半田耐熱性が向上するという効果を示
す。
The high modification rate silicone-modified epoxy resin or phenol resin used in the present invention must have a silicone modification rate R of 95≦R≦100, and these silicone-modified epoxy resins or phenol resins must be free of unreacted silicone compounds. Because of the small amount of unreacted silicone compounds, there is little protrusion of unreacted silicone compounds on the surface of the molded product, which does not deteriorate molding processability or stamping properties.Moreover, most silicone compounds have a three-dimensional crosslinked structure of epoxy resin and phenol resin. As a result, the particle size of silicone becomes extremely small, resulting in improved strength, thermal shock resistance, and soldering heat resistance.

又未反応シリコーン化合物が少ないI:めシリコーン化
合物の鎖長、構造によりシリコーンの粒径を非常に正確
にコントロールすることができるため材料設計が極めて
容易で正確に出来るという非常に優れた特徴がある。
In addition, there is less unreacted silicone compound.I: The particle size of the silicone can be controlled very accurately depending on the chain length and structure of the silicone compound, so material design can be done extremely easily and accurately. .

特にエポキシ樹脂と硬化剤として用いられるフェノール
樹脂の両方にシリコーンを導入することにより、その変
性量、粒径、組成物全体への分散性などの点でより優れ
た材料の設計を可能にすることが出来る。
In particular, by introducing silicone into both the epoxy resin and the phenolic resin used as a hardening agent, it is possible to design materials that are superior in terms of the amount of modification, particle size, and dispersibility throughout the composition. I can do it.

以下更に詳しく内容を説明する。The details will be explained in more detail below.

■シリコーン変性率Rの測定 薄層クロマトグラフィーとしてダイヤトロン(株)製薄
層クロマトグラフ自動検出装置TH−10を用い、TL
Cとしてはシリカゲル、展開溶媒としはベンゼン、トル
エン、ヘキサン等の溶媒強度0.25以下の非極性有機
溶媒を用いた。未反応のシリコーン化合物は非極性であ
るため非極性の溶媒で展開分離できるのである。
■Measurement of silicone modification rate R Using a thin layer chromatography automatic detection device TH-10 manufactured by Diatron Co., Ltd.,
Silica gel was used as C, and a nonpolar organic solvent with a solvent strength of 0.25 or less, such as benzene, toluene, hexane, etc., was used as the developing solvent. Since the unreacted silicone compound is non-polar, it can be developed and separated using a non-polar solvent.

標準物質としてコレステロールアセテートを加えたシリ
コーン変性樹脂の有機溶媒溶液をTLCに数pg”lo
Oμgをスポットし、それを上記の展開溶媒で5〜15
cmはど展開する。
A few pg"lo of an organic solvent solution of silicone modified resin to which cholesterol acetate was added as a standard substance was subjected to TLC.
Spot 0 μg and add 5 to 15 μg of it with the above developing solvent.
CM is expanded.

展開溶媒を乾燥除去したあと、薄層クロマトグラフ自動
検出装置により、未反応シリコーン化合物のピーク面積
、コレステロールアセテートのピーク面積を得る。
After drying and removing the developing solvent, the peak area of unreacted silicone compound and the peak area of cholesterol acetate are obtained using a thin layer chromatograph automatic detection device.

これらの面積比を用いて式〔I〕によりシリコーン変性
樹脂の変性率Rを算出する。
Using these area ratios, the modification rate R of the silicone modified resin is calculated by formula [I].

尚、従来の文献等により得られる一般のシリコーン変性
樹脂の変性率Rをこれらの方法で測定すれば、変性率R
は15〜85%であった。
In addition, if the modification rate R of general silicone modified resin obtained from conventional literature etc. is measured by these methods, the modification rate R
was 15-85%.

■高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂の合成本発明で
用いるシリコーン変性エポキシ樹脂の原料としてはエポ
キシ樹脂は1分子中に2個以上のエポキシ基を有するも
のであればいかなるものでも良く、例えばビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂
、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノ
ボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂およびこ
れらの変性樹脂等が挙げられ、これらのエポキシ樹脂は
1種又は2種以上混合して用いることが出来る。これら
のエポキシ樹脂の中でもエポキシ当量150〜250、
軟化点60〜130°0でNa”、CI−等のイオン性
不純物を出来る限り除いたものが好ましい。
■Synthesis of high modification rate silicone-modified epoxy resin As a raw material for the silicone-modified epoxy resin used in the present invention, any epoxy resin can be used as long as it has two or more epoxy groups in one molecule, such as bisphenol A type. Epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, cresol novolac type epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and modified resins thereof, etc., are listed, and these epoxy resins can be used singly or in combination of two or more types. It can be used. Among these epoxy resins, epoxy equivalents of 150 to 250,
It is preferable to have a softening point of 60 to 130°0 and to remove ionic impurities such as Na'' and CI- as much as possible.

又本発明のシリコーン変性エポキシ樹脂の一方の原料と
して用いられるオルガノシロキサンは上述のエポキシ樹
脂と反応しうる官能基を有するもので、官能基としては
例えばエポキシ基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、
ヒドロシル基等が挙げられ、分子構造は直鎖状、分枝鎖
状のいずれであっても良い。
Furthermore, the organosiloxane used as one of the raw materials for the silicone-modified epoxy resin of the present invention has a functional group that can react with the above-mentioned epoxy resin, and examples of the functional group include an epoxy group, an alkoxy group, a hydroxyl group, an amino group,
Examples include hydrosyl groups, and the molecular structure may be either linear or branched.

又本発明におけるシリコーン変性エポキシ樹脂の合成方
法は特に限定されるものではないが、例として挙げれば
2ヶ以上のアミノ基を有するオルガノポリシロキサンと
エポキシ樹脂の一部のエポキシ基を反応せしめてブロク
ク付加体となすとか、アルケニル基含有エポキシ樹脂と
2ヶ以上のハイドロシリル基を有するオルガノポリシロ
キサンを塩化白金酸触媒下、溶媒存在下でノ\イドロシ
リル化反応によりブロック付加体を得るなどの合成方法
がある。要はいずれの方法を用いても未反応オルガノポ
リシロキサンの少ないものとすることが本発明において
は肝要であり、必要に応じて得られた反応物から洗浄、
抽出等の方法でこれらの未反応オルガノポリシロキサン
を除去する等の方法も適宜可能である。
Furthermore, the method for synthesizing the silicone-modified epoxy resin in the present invention is not particularly limited, but for example, an organopolysiloxane having two or more amino groups is reacted with some epoxy groups of an epoxy resin to form a block. Synthesis methods include forming an adduct, or obtaining a block adduct through a hydrosilylation reaction of an alkenyl group-containing epoxy resin and an organopolysiloxane having two or more hydrosilyl groups under a chloroplatinic acid catalyst in the presence of a solvent. There is. In short, no matter which method is used, it is important in the present invention to minimize the amount of unreacted organopolysiloxane.
It is also possible to appropriately remove these unreacted organopolysiloxanes by methods such as extraction.

本発明の高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂の合成方
法の1例を以下に示す。
An example of the method for synthesizing the high modification rate silicone-modified epoxy resin of the present invention is shown below.

フェノールノボラックエボキシ100重量部を加熱、撹
拌しながら減圧して水分量を0.01重量%以下としだ
後(カールフィッシャー法で確認)、常圧で0−アリル
フェノールを3重量部、触媒として1.8−ジアザビシ
クロ(5,4,0)ウンデセン−7(DBU)1重量部
を溶融させ反応させる。水分量を減することによりDB
Uが失活せずO−アリルフェノールは100%反応した
(ガスクロマトグラフにより確認)。
After heating and stirring 100 parts by weight of phenol novolac epoxy to reduce the water content to 0.01% by weight or less by stirring, add 3 parts by weight of 0-allylphenol and 1% as a catalyst at normal pressure. .1 part by weight of 8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7 (DBU) is melted and reacted. DB by reducing water content
U was not deactivated and O-allylphenol reacted 100% (confirmed by gas chromatography).

得られたアリル化エポキシ100重量部と両末端にH−
5i基を有するジメチルシリコーン化合物25重量部、
トルエン100重量部とを加熱、撹拌し共沸脱水を1時
間行った後、塩化白金酸のイソプロピルアルコール溶液
(1重量%)0.1重量部を滴下し、還流してシリコー
ン変性エポキシ樹脂を得た。
100 parts by weight of the obtained allylated epoxy and H-
25 parts by weight of a dimethyl silicone compound having a 5i group,
After heating and stirring 100 parts by weight of toluene to perform azeotropic dehydration for 1 hour, 0.1 part by weight of an isopropyl alcohol solution of chloroplatinic acid (1% by weight) was added dropwise and refluxed to obtain a silicone-modified epoxy resin. Ta.

前段、後段反応において脱水を十分に行うことによりシ
リコーン変性率Rは95以上となる。特に前段反応を十
分に行なわない時、未反応のO−アリルフェノールが2
0〜35%存在し、後段反応のヒドロシリル反応時にシ
リコーンオイルのH−5i基と反応してシリコーン変性
率Rは95%を下回り、その結果樹脂組成物の成形加工
性、耐熱衝撃性、半田耐熱性が低下してしまう。
By performing sufficient dehydration in the first and second reactions, the silicone modification rate R becomes 95 or more. Especially when the first stage reaction is not carried out sufficiently, unreacted O-allylphenol is
It is present in an amount of 0 to 35% and reacts with the H-5i group of silicone oil during the hydrosilyl reaction in the subsequent reaction, resulting in a silicone modification rate R of less than 95%, resulting in improved moldability, thermal shock resistance, and soldering heat resistance of the resin composition. Sexuality decreases.

■高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂の合成本発明で
用いるシリコーン変性フェノール樹脂の原料としてのフ
ェノール樹脂はフェノールノボラック樹脂、クレゾール
ノボラック樹脂及びこれらの変性樹脂が挙げられ、これ
らのフェノール樹脂は1種又は2種以上混合して用いる
ことも出来る。
■Synthesis of high modification rate silicone-modified epoxy resin Phenol resins used as raw materials for the silicone-modified phenol resin used in the present invention include phenol novolac resins, cresol novolac resins, and modified resins thereof, and these phenol resins can be used in combination of one or two types. It is also possible to use a mixture of more than one species.

これらのフェノール樹脂の中でも、水酸基当量が80〜
150、軟化点が60〜120℃であり、Na”、CI
−等のイオン性不純物を出来る限り除いたものが好まし
い。
Among these phenolic resins, those with a hydroxyl equivalent of 80 to
150, softening point is 60-120℃, Na'', CI
It is preferable to remove ionic impurities such as - as much as possible.

又本発明のシリコーン変性フェノール樹脂の一方の原料
として用いられるオルガノシロキサンは上述のフェノー
ル樹脂と反応しうる官能基を有するもので、官能基とし
ては例えばエポキシ基、アルコキシ基、水酸基、アミノ
基、ヒドロシル基等が挙げられ、分子構造は直鎖状、分
校鎖状のいずれであっても良い。
Furthermore, the organosiloxane used as one of the raw materials for the silicone-modified phenolic resin of the present invention has a functional group that can react with the above-mentioned phenolic resin, and examples of the functional group include an epoxy group, an alkoxy group, a hydroxyl group, an amino group, and a hydrosyl group. The molecular structure may be either linear or branched chain.

本発明のシリコーン変性フェノール樹脂の合成方法は特
に限定されるものではないが、例として挙げれば2ヶ以
上のエポキシ基を有するオルガノポリシロキサンとフェ
ノール樹脂とを反応せしめてブロック付加体となすとか
、アルケニル基含有フェノール樹脂と2ヶ以上のハイド
ロシリル基を有するオルガノポリシロキサンを塩化白金
酸触媒下、溶媒存在下でハイドロシリル化反応によりブ
ロック付加体を得るなどの合成方法がある。要はいずれ
の方法を用いても未反応オルガノポリシロキサンの少な
いものとすることが本発明においては肝要であり、必要
に応じて得られた反応物から洗浄、抽出等の方法でこれ
らの未反応オルガノポリシロキサンを除去する等の方法
も適宜可能である。
The method for synthesizing the silicone-modified phenolic resin of the present invention is not particularly limited, but examples include reacting an organopolysiloxane having two or more epoxy groups with a phenolic resin to form a block adduct; There is a synthesis method in which a block adduct is obtained by a hydrosilylation reaction of an alkenyl group-containing phenol resin and an organopolysiloxane having two or more hydrosilyl groups in the presence of a solvent under a chloroplatinic acid catalyst. In short, no matter which method is used, it is important in the present invention to minimize the amount of unreacted organopolysiloxane, and if necessary, remove these unreacted organopolysiloxanes by washing, extraction, etc. from the obtained reactant. Methods such as removing organopolysiloxane can also be used as appropriate.

本発明のシリコーン変性フェノールノボラック樹脂の合
成方法の1例を挙げれば、未反応フェノール類の含有量
が3重量%以下であるフェノールノボラック樹脂100
重量部と1分子中にγ−グリシドキシプロピル基を3〜
7個有するオルガノポリシロキサン10〜40重量部と
を沸点が80〜180℃のアルコール類存在下、トリフ
ェニルホスフィン又はl、8−ジアザビシクロ(5,4
,0)ウンデセン−7(DBU)を触媒として用い、反
応温度100〜180℃で2時間以上反応させることに
よって得られる。
To give one example of the method for synthesizing the silicone-modified phenol novolak resin of the present invention, the phenol novolak resin 100 has a content of unreacted phenols of 3% by weight or less.
3 to 3 to γ-glycidoxypropyl groups in weight part and 1 molecule
Triphenylphosphine or l,8-diazabicyclo(5,4
,0) Undecene-7 (DBU) is used as a catalyst and is obtained by reacting at a reaction temperature of 100 to 180°C for 2 hours or more.

フェノールノボラックの未反応フェノール類が3重i%
を上回れば未反応フェノール類とオルガノシロキサンと
、の反応生成物が増加し、シリコーン変性率Rが95%
を下回ってしまう。
Unreacted phenols in phenol novolac are 3 i%
If it exceeds this, the reaction products of unreacted phenols and organosiloxane will increase, and the silicone modification rate R will be 95%.
It will fall below.

オルガノポリシロキサンのγ−グリシドキシプロビル基
の数が2個以下では官能基数が少ないためフェノールノ
ボラックとの反応が十分に起こらず、8個以上ではゲル
化が発生しやすくなるため官能基数としては3〜7個を
有することが必要である。
If the number of γ-glycidoxyprobyl groups in the organopolysiloxane is 2 or less, the number of functional groups is small and the reaction with the phenol novolac does not occur sufficiently, and if it is 8 or more, gelation tends to occur, so the number of functional groups is It is necessary to have 3 to 7 pieces.

フェノールノボラック100重量部に対するオルガノポ
リシロキサンの配合量が10重量部を下回ると、可撓性
が不十分となる傾向にあり、40重量部を上回ると未反
応のオルガノポリシロキサンが残存し、シリコーン変性
率が95%を下回る。
If the amount of organopolysiloxane blended is less than 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of phenol novolac, flexibility tends to be insufficient, and if it exceeds 40 parts by weight, unreacted organopolysiloxane remains, resulting in silicone modification. rate is below 95%.

溶媒としては、フェノールノボラックとオルガノポリシ
ロキサンの両方に適度な相溶性を有する沸点が80−1
80°0のアルコール類が最適である。
As a solvent, a boiling point of 80-1 with moderate compatibility with both phenol novolak and organopolysiloxane is recommended.
Alcohols at 80°0 are optimal.

触媒としては有機ホスフィン類、第3級アミン類が最も
反応性良好であり、中でもトリフェニルホスフィン及び
DBUが好適に用いられる。
As a catalyst, organic phosphines and tertiary amines have the best reactivity, and among them, triphenylphosphine and DBU are preferably used.

反応温度としては、100〜180℃で行う必要があり
、100℃を下回れば反応が不十分となり、180℃を
上回ればゲル化が生じる傾向にある。
The reaction temperature must be 100 to 180°C; if it is below 100°C, the reaction will be insufficient, and if it is above 180°C, gelation will tend to occur.

反応時間としては2時間以上が必要であり、2時間を下
回れば反応が不十分となりシリコーン変性率が95%を
下回ってしまう。
A reaction time of 2 hours or more is required; if the reaction time is less than 2 hours, the reaction will be insufficient and the silicone modification rate will fall below 95%.

本発明において用いるシリコーン変性樹脂においては変
性率Rが95≦R≦100であることが必要であり、変
性率Rが95未満の場合、半導体封止用樹脂組成物とし
て用いると未反応オルガノシロキサン成分はエポキシ樹
脂と相溶性が悪く、しかも表面張力が低く、一般に粘度
も低いために、この樹脂組成物を高温・高圧で成形する
と成形品表面から未反応オルガノシロキサン成分かにじ
みだし、成形品の油汚れ、型汚れ、捺印性の不良、樹脂
パリ等の不良モードを発生させ又強度や硬化性の低下を
ひきおこす。しかも未反応オルガノシロキサン成分は、
樹脂組成物中のシリコーンのドメイン部にも集中して集
まるため、シリコーンドメインの径が大きくなってしま
う。一般にハードポリマーの海にソフトポリマーの島と
いうモルホロジーを有する樹脂系においては、ソフトポ
リマーの島の粒径が小さいほど系の弾性率は低下し低応
力効果は大となるが、未反応オルガノシロキサンのため
シリコーン粒径が大きくなることにより、樹脂組成物の
弾性率は上がり低応力効果は小さくなってしまい、電子
部品封止用樹脂組成物としての性能(耐熱衝撃性)は低
下してしまう。
In the silicone modified resin used in the present invention, it is necessary that the modification rate R is 95≦R≦100, and if the modification rate R is less than 95, unreacted organosiloxane components will be contained when used as a resin composition for semiconductor encapsulation. has poor compatibility with epoxy resins, has a low surface tension, and generally has a low viscosity. Therefore, when this resin composition is molded at high temperature and pressure, unreacted organosiloxane components ooze from the surface of the molded product, causing oil in the molded product. This causes failure modes such as stains, mold stains, poor imprintability, and resin flakes, and also causes a decrease in strength and hardenability. Moreover, the unreacted organosiloxane component is
Since it also concentrates in the silicone domain part of the resin composition, the diameter of the silicone domain becomes large. In general, in a resin system that has a morphology of soft polymer islands in a sea of hard polymers, the smaller the particle size of the soft polymer islands, the lower the elastic modulus of the system and the greater the stress reduction effect. Therefore, as the silicone particle size increases, the elastic modulus of the resin composition increases and the low stress effect decreases, resulting in a decrease in performance (thermal shock resistance) as a resin composition for encapsulating electronic components.

反応率Rが95≦R≦100の範囲内であるならば、こ
れらの欠点は大幅に改善され成形加工性、捺印性、耐熱
衝撃性が向上する。又エポキシ樹脂/シリコーン或いは
フェノール樹脂/シリコーンの界面の結合力が向上する
ために改質剤成分を添加した場合に較べ機械的強度、耐
湿性も向上する。
If the reaction rate R is within the range of 95≦R≦100, these drawbacks will be greatly improved, and moldability, stampability, and thermal shock resistance will be improved. Furthermore, since the bonding strength at the epoxy resin/silicone or phenol resin/silicone interface is improved, mechanical strength and moisture resistance are also improved compared to when a modifier component is added.

さらにフェノール樹脂の組成、オルガノシロキサンの組
成(特に分子鎖長)をコントロールすることによりエポ
キシ樹脂或いはフェノール樹脂とシリコーンの相溶性を
コントロールしてシリコーン粒径をかなり正確にコント
ロールすることが可能となるため、製品のばらつきは最
小限に押さえられ、しかも材料設計が非常にし易い系と
なる。
Furthermore, by controlling the composition of the phenolic resin and the composition of the organosiloxane (particularly the molecular chain length), it is possible to control the compatibility of the epoxy resin or phenolic resin with silicone and to control the silicone particle size quite accurately. This results in a system in which product variations are kept to a minimum and material design is extremely easy.

本発明において高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂と
高変性率シリコーン変性フェノール樹脂とを併用するの
は、単独で用いる場合と比較してより低応力で強靭とな
り非常に優れた耐熱衝撃性と半田耐熱性を有し、しかも
エポキシ樹脂成分とフェノール樹脂成分同志の相溶性が
向上することにより成形加工性の向上が見られるためで
ある。シリコーン変性率が95%以下のシリコーン変性
エポキシ樹脂又はシリコーン変性率が95%以下のシリ
コーン変性フェノール樹脂を組み合わせて用いると未反
応シリコーン化合物のブリードが押さえきれないため、
成形加工性は低下し、さらにシリコーンドメイン粒径が
大きくなるために強度が低下し、耐熱衝撃性、半田耐熱
性が低下し十分な樹脂特性が得られない。
In the present invention, the combined use of a high modification rate silicone-modified epoxy resin and a high modification rate silicone-modified phenol resin results in lower stress and toughness compared to when they are used alone, resulting in extremely excellent thermal shock resistance and soldering heat resistance. This is because the moldability is improved due to the improved compatibility between the epoxy resin component and the phenol resin component. If a silicone-modified epoxy resin with a silicone modification rate of 95% or less or a silicone-modified phenol resin with a silicone modification rate of 95% or less is used in combination, the bleeding of unreacted silicone compounds cannot be suppressed.
Molding processability deteriorates, and furthermore, as the silicone domain particle size increases, strength decreases, thermal shock resistance and soldering heat resistance decrease, and sufficient resin properties cannot be obtained.

両者の併用割合はシリコーン変性エポキシ樹脂100重
量部に対してシリコーン変性フェノール樹脂30〜80
!I量部であり、30重量部以下ではシリコーン変性エ
ポキシ樹脂成分とシリコーン変性フェノール樹脂成分と
の相溶性向上が十分でないために成形加工性が低下し、
更にはエポキシ基とフェノール性OH基の当量比が大き
くlからはずれるため硬化が十分に行われず耐熱衝撃性
、半田耐熱性が低下する。
The combined ratio of both is 30 to 80 parts by weight of silicone-modified phenol resin to 100 parts by weight of silicone-modified epoxy resin.
! If the amount is less than 30 parts by weight, the compatibility between the silicone-modified epoxy resin component and the silicone-modified phenol resin component is not sufficiently improved, resulting in poor moldability.
Furthermore, since the equivalent ratio of epoxy groups to phenolic OH groups is large and deviates from 1, curing is not performed sufficiently and thermal shock resistance and soldering heat resistance are reduced.

80%以上ではやはり同様の問題が生じ樹脂組成物とし
て十分な特性が発揮できない。
If it exceeds 80%, the same problem will occur and the resin composition will not be able to exhibit sufficient properties.

エポキシ樹脂成分としてシリコーン変性エポキシ樹脂の
他に通常の未変性のエポキシ樹脂をシリコーン変性の効
果を減少させない範囲内で添加することも可能であり、
その割合はシリコーン変性エポキシ樹脂100重量部に
対して0〜150重量部である。又硬化剤として用いる
シリコーン変性フェノール樹脂についても同様に通常の
未変性のフェノール樹脂を併用することが可能で、その
割合はシリコーン変性フェノール樹脂100重量部に対
して0〜150重量部の範囲で添加することが出来る。
In addition to the silicone-modified epoxy resin, it is also possible to add ordinary unmodified epoxy resin as an epoxy resin component within a range that does not reduce the effect of silicone modification.
The proportion thereof is 0 to 150 parts by weight per 100 parts by weight of the silicone-modified epoxy resin. Similarly, for the silicone-modified phenolic resin used as a curing agent, it is possible to use a normal unmodified phenol resin in combination, and the proportion thereof is in the range of 0 to 150 parts by weight per 100 parts by weight of the silicone-modified phenolic resin. You can.

更に未変性のエポキシ樹脂とフェノール樹脂とを同時に
併用することも可能であり、この場合には樹脂全体に占
めるシリコーンの量を勘案して硬化性などを考慮しなが
らその割合を定める必要がある。
Furthermore, it is also possible to use an unmodified epoxy resin and a phenol resin at the same time, and in this case, it is necessary to determine the ratio while taking into account the amount of silicone in the entire resin and taking into account curability and the like.

これらの併用比率はシリコーン変性エポキシ樹脂100
重量部に対して通常の未変性のエポキシ樹脂0−150
重量部、シリコーン変性フェノール樹脂100重量部に
対して通常の未変性の7エノール樹脂0−150重量部
であり、総エポキシ樹脂100重量部に対して総フェノ
ール樹脂は30〜80重量部、更に総エポキシ樹脂成分
と総フェノール樹脂成分とを加えた量は総樹脂量の40
〜100重量%占めることが必要である。
The ratio of these combined use is silicone modified epoxy resin 100%
Normal unmodified epoxy resin 0-150 parts by weight
Parts by weight, 0-150 parts by weight of ordinary unmodified 7-enol resin for 100 parts by weight of silicone-modified phenolic resin, 30-80 parts by weight of total phenolic resin for 100 parts by weight of total epoxy resin, and The amount including the epoxy resin component and the total phenolic resin component is 40% of the total resin amount.
It is necessary to account for ~100% by weight.

エポキシ樹脂、フェノール樹脂いずれの場合も通常の未
変性の樹脂の割合が上述の範囲をはずれるとシリコーン
変性樹脂と未変性樹脂との相溶性が低下するために成形
加工性が低下する。更にシリコーン成分の量が少なくな
るため低応力性が低下し耐熱衝撃性が低下する。
In the case of both epoxy resins and phenolic resins, if the proportion of the normal unmodified resin is out of the above-mentioned range, the compatibility between the silicone modified resin and the unmodified resin decreases, resulting in a decrease in moldability. Furthermore, since the amount of silicone component is reduced, low stress properties and thermal shock resistance are reduced.

本発明の組成物を用いて半導体封止用エポキシ樹脂組成
物を得るには、上述のシリコーン変性樹脂、未変性樹脂
の他、無機充填剤として結晶性シリカ、溶融シリカ、マ
イカ、アルミナ、炭酸カルシウム、タルク、ガラス繊維
等が挙げられ、これらは単独又は2種以上混合して使用
することができ、これらの中で特に結晶シリカ又は溶融
シリカが好適に使用される。この他必要に応じてBDM
A等の第三級アミン類、イミダゾール類、1.8−ジア
ザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリ7エ二
ルホスフイン等の有機リン化合物等の硬化促進剤、天然
ワックス類、合成ワックス類等の離型剤、ヘキサブロム
ベンゼン、デカブロムビフェニルエーテル、三酸化アン
チモン等の難燃剤、カーボンブラック、ベンガラ等の着
色剤、シランカップリング剤その他合成ゴム、シリコー
ン化合物、熱可塑性樹脂等を適宜添加配合し、これらの
原料をミキサー等によって十分に混合した後、さらにニ
ーダ−やロール等で加熱溶融混合し、次いで冷却固化後
粉砕処理をしてエポキシ樹脂組成物とする。
In order to obtain an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation using the composition of the present invention, in addition to the above-mentioned silicone modified resin and unmodified resin, inorganic fillers such as crystalline silica, fused silica, mica, alumina, and calcium carbonate are used. , talc, glass fiber, etc., and these can be used alone or in a mixture of two or more, and among these, crystalline silica or fused silica is particularly preferably used. Other BDM as needed
Curing accelerators such as tertiary amines such as A, imidazoles, organic phosphorus compounds such as 1,8-diazabicyclo(5,4,0)undecene-7 and tri-7enylphosphine, natural waxes, and synthetic waxes. mold release agents such as hexabromobenzene, decabromo biphenyl ether, antimony trioxide, colorants such as carbon black and red iron, silane coupling agents, other synthetic rubbers, silicone compounds, thermoplastic resins, etc. as appropriate. After addition and blending, these raw materials are thoroughly mixed using a mixer or the like, and then heated and melt-mixed using a kneader or roll, followed by cooling, solidification, and pulverization treatment to obtain an epoxy resin composition.

(実施例) シリコーン変性エポキシ樹脂(A) 0−クレゾールノボラックエポキシ樹脂と◇−アリルフ
ェノールの反応物に両末端H−3i基を有するシリコー
ン化合物を反応させて得られる構造式(I)で示される
シリコーン変性エポキシ樹脂(シリコーン変性率R:9
7.エポキシ当量250゜軟化点75℃) In/m+nri−j:1)47.  i/m)f14
i、QlコOJ k#190シリコーン変性エポキシ樹
脂(B) 下記構造式(n)で示されるシリコーン変性エポキシ樹
脂(シリコーン変性率R:99.エポキシ当量252.
軟化点78℃) m/III+n+1−QOj)   i/m+n+im
o、01   k=95シリコーン変性エポキシ樹脂(
C) 下記構造式(III)で示されるシリコーン変性エポキ
シ樹脂(シリコーン変性率R:95.エポキシ当量26
0.軟化点78℃) IR/a4n+Iwl102 、  し+n4n+i−
0,01、に−95シリコーン変性エポキシ樹脂CD) 構造式(I)で示されるシリコーン変性エポキシ樹脂(
シリコーン変性率Rニア9.エポキシ当量250、軟化
点75°0) シリコーン変性エポキシ樹脂(E) 構造式(III)で示されるシリコーン変性エポキシ樹
脂(シリコーン変性率R:52.エポキシ当量260、
軟化点78℃) 以上のシリコーン変性エポキシ樹脂は第1表及び第2表
にもとずき合成した。
(Example) Silicone-modified epoxy resin (A) Shown by structural formula (I) obtained by reacting a reaction product of 0-cresol novolak epoxy resin and ◇-allylphenol with a silicone compound having H-3i groups at both ends. Silicone modified epoxy resin (silicone modification rate R: 9
7. Epoxy equivalent: 250°, softening point: 75°C) In/m+nri-j: 1) 47. i/m) f14
i, Ql Co OJ k#190 Silicone-modified epoxy resin (B) Silicone-modified epoxy resin represented by the following structural formula (n) (Silicone modification rate R: 99. Epoxy equivalent: 252.
Softening point 78℃) m/III+n+1-QOj) i/m+n+im
o, 01 k=95 silicone modified epoxy resin (
C) Silicone-modified epoxy resin represented by the following structural formula (III) (silicone modification rate R: 95. Epoxy equivalent: 26
0. Softening point 78℃) IR/a4n+Iwl102, shi+n4n+i-
0,01, ni-95 silicone-modified epoxy resin CD) Silicone-modified epoxy resin represented by structural formula (I) (
Silicone modification rate R near 9. Epoxy equivalent: 250, softening point: 75°0) Silicone-modified epoxy resin (E) Silicone-modified epoxy resin represented by structural formula (III) (Silicone modification rate R: 52. Epoxy equivalent: 260,
Softening point: 78°C) The above silicone-modified epoxy resins were synthesized based on Tables 1 and 2.

(以 下 余 白) シリコーン変性フェノール樹脂(F、G、H,I)1分
子中に6個のエポキシ基を有する下記構造式(Vl)で
示されるオルガノポリシロキサン25重量部と7工ノー
ルノボラツク重量部100重量部とを触媒種、反応時間
を変え反応温度140℃で反応させ第3表に示すシリコ
ーン変性率が異なる4aiのシリコーン変性フェノール
樹脂を得た。
(Left below) 25 parts by weight of organopolysiloxane represented by the following structural formula (Vl) having 6 epoxy groups in one molecule of silicone-modified phenolic resin (F, G, H, I) and the weight of 7-functional novolak. 100 parts by weight were reacted at a reaction temperature of 140° C. by changing the catalyst type and reaction time to obtain 4ai silicone-modified phenolic resins having different silicone modification rates as shown in Table 3.

次に実施例について比較例と併せて説明する。Next, examples will be described together with comparative examples.

実施例1〜6.比較例1〜8 次に上記の様にして得られたシリコーン変性樹脂A、B
、C,D、E、F、G、H,Iと他の原料とを第2表に
従って配合し、常温で十分混合した後、95〜100℃
で混練し、冷却後粉砕して半導体封止用エポキシ樹脂組
成物を得た。
Examples 1-6. Comparative Examples 1 to 8 Next, silicone modified resins A and B obtained as described above
, C, D, E, F, G, H, I and other raw materials according to Table 2, mixed thoroughly at room temperature, and then heated to 95-100°C.
The mixture was kneaded, cooled, and pulverized to obtain an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation.

これらの材料の成形性(型汚れ、樹脂パリ)をトランス
ファー成形機(成形条件:金型温度175℃、硬化時間
1分)を用いて判定すると共に8時間で後硬化したパッ
ケージの耐クラツク性を評価した。
The moldability of these materials (mold stains, resin flakes) was determined using a transfer molding machine (molding conditions: mold temperature: 175°C, curing time: 1 minute), and the crack resistance of the packages post-cured for 8 hours was evaluated. evaluated.

本発明の高変性率シリコーン変性フェノール樹脂及びノ
ボラック型フェノール樹脂を用いた樹脂組成物は成形性
、耐熱衝撃性に非常に優れた効果が見られた。結果を第
4表に示す。
The resin composition using the high modification rate silicone-modified phenolic resin and the novolak type phenolic resin of the present invention exhibited very excellent moldability and thermal shock resistance. The results are shown in Table 4.

(以下余白) 木l 型曇りが発生するまでの成形ショツト数にて判定
(Margins below) Judgment based on the number of molded shots until the appearance of wood type clouding.

+2 得られた成形品のベント部分の樹脂パリの長さを
測定。
+2 Measure the length of the resin pad at the vent part of the molded product obtained.

木310ショット目の成形品を使用し、捺印後セロテー
プを貼る。このセロテープを剥がしたとき捺印が取られ
た数で判定。表中には成形品50個中捺印の剥がれた成
形品の個数を示す。
Use the molded product from the 310th shot of the tree, and after stamping it, stick cellophane tape on it. Judgment is made by the number of stamps removed when the cellophane tape is removed. The table shows the number of molded products whose seals were peeled off out of 50 molded products.

*4成形品20個(後硬化175℃、 3Hrs)を温
度サイクルテスト(−65°C1−+150’c) ニ
かけ、1000サイクルのテストを行いクラックの発生
した個数で判定。表中には成形品20個中のクラックの
発生した個数を示す。
*4 20 molded products (post-cured at 175°C, 3Hrs) were subjected to a temperature cycle test (-65°C1-+150'C) for 1,000 cycles and judged based on the number of cracks that occurred. The table shows the number of cracks in 20 molded products.

*5成形品100個(後硬化175℃+ 8Hrs)に
ついて120℃の高圧水蒸気下でI 000時間の耐湿
テストを行い不良個数を調べた。表中には100個中の
不良個数を示す。
*5 100 molded products (post-cured at 175°C + 8 hours) were subjected to a moisture resistance test for 1,000 hours under high-pressure steam at 120°C to determine the number of defective products. The table shows the number of defective items out of 100.

*6成形品16個(後硬化175℃、 8Hrs)につ
いて85℃、85RHの条件下で144時間処理後28
0℃の半田槽に10秒間浸漬し、クラックの発生した成
形品の個数で判定。表中には成形品16個中のクラック
の発生した個数を示す。
*6 After processing for 144 hours at 85°C and 85RH for 16 molded products (post-curing 175°C, 8Hrs), 28
The molded product was immersed in a solder bath at 0°C for 10 seconds and determined by the number of molded products that developed cracks. The table shows the number of cracks among 16 molded products.

(発明の効果) 本発明の高変性率シリコーン変性エポキシ樹脂と高変性
率シリコーン変性フェノール樹脂とからなる半導体封止
用エポキシ樹脂組成物は、型汚れ、樹脂パリ等の成形加
工性は非常に優れており、更に捺印性、耐湿性、耐熱衝
撃性および半田耐熱性に非常に優れた半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物であり、電子・電気部品の封止用、被覆
用、絶縁用等に用いた場合、特に表面実装パッケージに
搭載された高集積大型チップICにおいては信頼性が非
常に高い製品を得ることができる。
(Effects of the Invention) The epoxy resin composition for semiconductor encapsulation comprising a high modification rate silicone-modified epoxy resin and a high modification rate silicone-modified phenol resin of the present invention has excellent molding processability such as mold stains and resin flakes. It is an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation that has excellent marking properties, moisture resistance, thermal shock resistance, and soldering heat resistance, and is used for encapsulation, coating, insulation, etc. of electronic and electrical components. In this case, products with extremely high reliability can be obtained, especially in highly integrated large-chip ICs mounted on surface mount packages.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)(イ)下記式〔 I 〕から求められるシリコーン
変性率Rが95≦R≦100であるシリコーン変性エポ
キシ樹脂 (ロ)下記式〔 I 〕から求められるシリコーン変性率
Rが95≦R≦100であるシリコーン変性フェノール
樹脂 R=(1−KA/BC)×100・・・〔 I 〕A:S
/T(溶媒強度0.25以下の有機溶媒を用いシリカゲ
ルを吸着剤にして展開す る薄層クロマトグラフィーによりRf値0.7〜0.9
の範囲に分離されるシリコーン 化合物のピーク面積SとRf値0.4〜0.6の範囲に
分離される標準物質コレステロ ールアセテートのピーク面積Tとの比) B:試料溶液中のシリコーン変性樹脂の重量/試料溶液
中の標準物質の重量 C:シリコーン変性樹脂中のシリコーン成分含有量(シ
リコーン変性樹脂生成反応時にお けるシリコーン化合物の添加重量) K:シリコーン化合物ピークの単位面積に対応するシリ
コーン化合物重量/標準物質の単 位面積に対するコレステロールアセテート 重量 を必須成分とするエポキシ樹脂組成物。
(1) (a) Silicone modified epoxy resin whose silicone modification rate R calculated from the following formula [I] is 95≦R≦100 (b) silicone modification rate R calculated from the following formula [I] is 95≦R≦ Silicone modified phenolic resin R=(1-KA/BC)×100...[I]A:S
/T (Rf value 0.7 to 0.9 by thin layer chromatography using an organic solvent with a solvent strength of 0.25 or less and developing with silica gel as an adsorbent)
Ratio of the peak area S of the silicone compound separated into the range of Rf value and the peak area T of the standard substance cholesterol acetate separated into the range of Rf value 0.4 to 0.6) B: Ratio of the silicone modified resin in the sample solution Weight/weight of standard substance in sample solution C: Silicone component content in silicone-modified resin (weight of silicone compound added during silicone-modified resin production reaction) K: Weight of silicone compound corresponding to unit area of silicone compound peak/ An epoxy resin composition whose essential component is the weight of cholesterol acetate per unit area of a standard substance.
(2)エポキシ樹脂組成物が未変性エポキシ樹脂を含有
する特許請求項1記載のエポキシ樹脂組成物。
(2) The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the epoxy resin composition contains an unmodified epoxy resin.
(3)エポキシ樹脂組成物が未変性フェノール樹脂を含
有する特許請求項1のエポキシ樹脂組成物。
(3) The epoxy resin composition according to claim 1, wherein the epoxy resin composition contains an unmodified phenolic resin.
(4)エポキシ樹脂組成物が未変性フェノール樹脂を含
有する特許請求項2のエポキシ樹脂組成物。
(4) The epoxy resin composition according to claim 2, wherein the epoxy resin composition contains an unmodified phenolic resin.
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