JPH02219652A - 基体上コーティングの光化学的キュアリングシステム及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、移動しつつある基体上の感熱性コーティング
を光化学的辷キニアする改良システム及び方法に係る。

殊に、当該システム及び方法は、移動しつつある基体上
の感熱性コーティングをキュアするのに適用され、この
際に加熱についての諸問題を最小限に抑え且つキュアリ
ングシステムに関して一箇所又はそれ以上の場所で収容
スペースが極めて限られている印刷機に用いる上で小型
寸法の装置をもたらすことを可能にする。

（従来の技術及びその課題） 印刷業界においては、移動しつつある基体に対して、よ
り高速で且つ種々の別々のコーティングを施しながら印
刷機を稼働させようとする傾向がある。このようなコー
ティングをキュアする種々の方策の一つとしては、紫外
線照射の適用のあることが認められている。勿論、照射
紫外線量が低ければキュアのための所要時間は長くなり
、又紫外線照射用の水銀ランプが副生する熱量が過剰と
なれば基体上のコーティングに反りをもたらしたり、破
壊を生じさせたりする可能性があり、又成る条件の下で
は火災や機器に関連する問題を生じることがある。この
ような加熱乃至キュア目的で最も不偏的に用いられてい
るものは中圧水銀蒸気紫外線ランプであり、これは約２
気圧で且つ７８〜１５７Ｗ／ａｍ（２００〜４００Ｗ／
インチ）で作動し得るものであるが、約１１８Ｗ／ａｍ
（３００Ｗ／インチ）で作動せしめられるものである。

このようなランプの内で典型的なものは約５９０〜８２
０℃（約１００〜１５００Ｆ）の作動温度を有するもの
であり、コーティングされておりキュアされるべき基体
に紫外線光を指向させる反射器と共に用いられる。ラン
プ反射器アセンブリを最も有効に且つ課題を最小限に抑
えて稼働させるためには冷却することが必要であり、こ
の冷却は種々の相異なる印刷作動条件下で実施しなけれ
ばならない。

空気単独、或は空気と水とがランプ反射器アセンブリの
冷却用に使用される通例の媒体である。

このような機器の冷却に関して最も汎用されている空気
は低圧で大容量の送風機により、即ち約０゜００９〜０
．　０２ｋｇ／ｃｏ２　（約１　／　８〜１　／　４　
ｐｓｌ）の圧力及び約１０〜４０　ｍ”／分（約３５０
〜１５００ｃｆｓ）の流量をもたらす送風機により供給
される。この大容量の送風機は後に印刷機から排出せね
ばならない大量の空気をもたらし、更に制御された態様
で同様に印刷機の周辺部から排出せねばならない大量の
望ましからぬオゾンをももたらす。

場合により、冷却用空気は、高圧で作動する低容量の送
風機、即ち約４．　２〜５．　８　ｋｇ／ｃｍ２　（約
６０〜８０ｐｓｌ）又はそれ以上の圧力及び約０．２〜
０．３ｍ”／分（約８〜１０　ｃｆｍ）の流量をもたら
す送風機を有する圧搾空気供給システムから給送される
。紫外線ランプが収容されている部分の小さな開口部を
経て高圧空気を導入する場合には、ランプ反射器アセン
ブリに不均斉な冷却がもたらされる。上記の画形式の送
風機が印刷機から離隔して配置されるので寸法に格別の
制限はないが、低圧で大容量の送風機及び高圧で低容量
の送風機は共にランプ反射器アセンブリを必要とし、該
アセンブリは印刷装置に大幅な且つ費用の高い変更を加
えることなしに多段印刷機の段間や、その排出部に合理
的に納めきれない寸法を有している。

（発明が解決しようとする課題乃至発明の目的）本発明
の主たる目的は、印刷機、殊に該印刷機内に容易に装着
し得る寸法を有しており且つ印刷機の外部に装着された
装置により循環せしめられる空気及び水により制御され
た態様で冷却することのできる冷却装置を備えた多段印
刷機を経て移動しつつある基体上のコーティングをキュ
アするシステムを提供することにある。

本発明の他の目的は、印刷機内に容易に装着し得る寸法
を有しており且つ印刷機の外部に装着された装置により
循環せしめられる水によりほぼ完全に制御された態様で
冷却することのできる冷却装置を備えたシステムを提供
することにある。

本発明の更に他の目的は、システムが印刷条件における
種々の変更に関して盲動に対応し且つ印刷機におけるラ
ンプ反射器アセンブリの作動を規定の温度範囲内で制御
するように、制御された態様でシステムを操作する方法
を提供することにある。

（課題を解決し、目的を達成する手段及び作用）上記の
目的は多段印刷機を経て移動しつつある基体上のコーテ
ィングをキュアするシステムにより達成される。印刷機
の限られた部位に装着された水銀蒸気ランプ反射器アセ
ンブリからの紫外線照射によりキュアは行われる。当該
アセンブリはパラボラ状樋溝反射面を備えたキャビティ
を有する細長の反射器ブロックと、上記のキャビティ内
に装着された紫外線ランプとを具備している。反射器ブ
ロックはキャビティの頂部において長手方向に延びる溝
と、水導管と、空気導管とを備えている。多数の口部が
空気導管と反射器ブロック溝に連結されている。水ポン
プが、冷却目的で、反射器ブロック水導管に且つ該水導
管から水を循環せしめる。直列接続された第１及び第２
中間加圧送風機が冷却装置に接続された熱交換器に圧搾
空気を搬送し、次いで反射器ブロックの空気導管、口部
、溝に順次送られ、抜溝から排出されて紫外線ランプ及
びブロックの反射面に溢流する。反射器ブロック内に定
置された温度測定装置が紫外線ランプ付近の温度変化を
測定して当該情報をコンピュータに伝達する。該コンピ
ュータは送風機、冷却装置及び熱交換器に接続されてお
り、上記の温度測定装置からコンピュータに伝達される
温度情報に従い上記機器の作動吠態を変更する機能を有
しており、斯くて、本システムは印刷条件の変化に即応
し且つ規定の温度範囲内で作動するようにランプ反射器
アセンブリを制御する。

本発明の一改変実施形によれば、下記の態様で上記のシ
ステムを作動させる方法により、本発明の種々の目的が
達成される。移動しつつある基体状のコーティングをキ
ュアし且つ反射器ブロックのキャビティ内に装着されて
いる紫外線ランプの温度は１．該ランプ付近の連続的に
モニタすることを基盤として規定温度範囲内で制御され
る。コンピュータ制御装置に伝達された温度変化に従い
、段階的態様で、第１及び第２送風機、熱交換器並びに
冷却装置の作動を開始させて、反射器ブロックに導入さ
れ且つランプの周囲を経て反射器プロ、りから排出され
る圧搾空気の温度を低下させると共に、ランプが規定温
度範囲内で作動するように維持する。水も又制御された
態様で且つ冷却目的で反射器ブロックを経て循環せしめ
られて、温度測定装置に関して安定な基準点（ｒｅｆｅ
ｒｅｎｃｅ　ｐ。

Ｉｎｔ）を提供する。

水によりシステムがほぼ完全に冷却せしめられる形式の
、本発明の他の改変実施形によれば、ランプ反射器アセ
ンブリと、冷却装置と、容器付き水循環システムと、ラ
ンプ反射器アセンブリを経て循環せしめられる水の温度
をモニタし且つ調整する制御システムとを装置は包含し
ている。この場合に、ランプ反射器アセンブリはほぼ平
滑な外面を存し且つ反射面を備えたキャビティを存して
いる反射器ブロックと、反射器ブロックを経て延びてい
る二つの導管と、完全に反射器ブロックキャビティ内に
定置されている細長紫外線ランプとを具備している。水
循環システムはポンプ並びに冷却装置に配属されている
容器から反射器ブロック導管を介して水を循環させて冷
却装置に復帰させる関連配管とを具備している。制御シ
ステムは冷却装置に配属されている容器内に配置された
温度測定装置と、コンビエータと、上記の温度測定装置
とコンビエータと冷却装置とを接続しすることにより反
射器ブロックを経て循環する冷却水の温度を所望の範囲
に設定し制御する適宜の配線とを備えている。

本発明の更に他の改変実施形によれば、水によりほぼ完
全に冷却される形式の上記のシステムを作動する方法に
より所期の目的が達成される。制御システムにおける温
度測定装置は冷却装置に配属されている容器内の水の温
度をモニタし且つ適用可能な信号を制御システムのコン
ピュータに伝達する。測定された温度が所望の温度範囲
外の場合には、コンピュータは信号を冷却装置に送信し
、当該温度が上限値以上であるか、或は下限値以下であ
るかに依存して冷却装置を起動させ、或は稼働を停止さ
せる。このようにして、反射器ブロックの導管に且つ該
導管を経て循環せしめられる冷却水の温度は、最も有効
な作動を可能ならしめる温度範囲に維持される。

（実施例） 以下、実施例により添付図面を参照しつつ本発明をさら
に具体的に説明する。

第１図は、約１０１．８ｃｍ幅の印刷シートを約９１４
０〜ＩＥ３７８４ｃｍ／分の速度で処理できる多段、多
色、シート給送形式の印刷機（図示せず）端部の排出部
１を示す。第７図により詳細に示す搬送チェーン２は、
印刷機の多段部（図示せず）から底部経路Ｂに沿って矢
印Ａ方向に移動する。

チェーン２は底部側経路Ｂに沿い連続して、上方に延び
てガイドローラ３とを通り、駆動スプロケット４を回う
て反転している。それから、チェーン２は上部側経路Ｃ
に沿って進み、スプロケット５とを通り、下方に延びて
排出部１から矢印り方向に進んで、当該印刷機の多段部
へと反転する。

チェーン２伝いに間隔をおいて多数の離脱可能なりラン
プ６があり、チェーン２上に載るシート７の先端を掴む
ようにしている。各シート７の上面８にはシート７の印
刷機の多段部通過中に置かれたインク又は化成品の薄い
コーティング９がある。

各シート７はガイドローラ３とを通過後に、シート先端
を掴んでいたクランプ６に解放されて、排出部開口１０
から落下して積み重ねられ、そこから引続き所望の場所
に移動される。排気送風機１２は排出部１内の熱気を連
続的に取り排出する。

搬送チェーン２上にあるシート７が、排出部１を底部経
路Ｂに沿って進むとき、当該シート７は１以上の紫外線
ランプ反射器アセンブリ２０（第１図には２個を示す）
の下を移動する。第２図〜第５図に最も良く示されるよ
うに、各ランプアセンブリ２０は長い筒状の中圧蒸気水
銀紫外線ランプ２１と、線状光源とからなり、第７図に
示すように、光を放射するアークが形成される中央部２
２と、端部２３．２４とを有している。ランプ２１の端
部２３．２４のワイヤ２５．２６・はランプ２１作動の
ため、それぞれ適当な電源（図示せず）に接続されてい
る。ランプ端部２３．２４は長い反射器ブロック３０両
端に固定された耐火性絶縁体２７．２８にそれぞれ装着
されている。

第２図に示されるように、アルミニウム成形の反射器ブ
ロック３０は上部３１と、下部３２とを有し、反射面を
有するパラボラ状樋溝のキャビティ３３を有している。

このキャビティ３３は、ランプ２０からの放射線を照射
すべきシート方向にほぼパラレルに反射するような後述
の反射面を形成してなるものである。

第２図〜第５図に示すように、反射器ブロック３０はト
ップ部３５、側部３６、段状側部３７、及び両端部３８
．３９とを何してなる。反射面３４の頂点にはブロック
３０の端３８から端２９まで長（延びた溝４０がある。

また、ブロック３０の端３８から端２９まで長く延びた
水導管４１と、空気導管４２とがある。水導管４１は反
射面３４と、ブロックトツブ部３５及び側部３８間の、
ブロック３０の上部３１に位置している。空気導管４２
は溝４０とトップ部３５間のブロック３０の上部３１に
位置している。多数の長く延びた出口４３が、狭いリブ
４４によって区切られて空気導管４２で溝４０に連結し
ている。

第２図、第４図及び第５図に示すように、水導管４１に
は反射器ブロック端部３８で給水管４５が連結され、反
射器ブロック端部３９で放水管４６が連結されている。

空気導管４２には反射器ブロック端部３８にて給気管４
７が連結されている。

空気導管４２は反射器ブロック端部３９にてプラグ４８
により閉じられている。第３図〜第５図に示すように、
反射面３４に溝４０から約２５゜４鶴の距離を置き、ブ
ロック端部３８から約１０１．６鶴間隔をおいて熱電対
又はサーミスタのような検温装置４８が取り付けられ、
そこからワイヤ５０が延びている。

第６図に最もよく示されるように、冷たい、即ち冷却さ
れた空気と水とが空気−水システム６０によってランプ
反射器アセンブリ２０に供給される。システム６０は直
列に連結された中圧送風機６１．６２と、熱交換器７０
、冷却装置８０、及びコンピュータ制御装置９０とを宵
している。空気は給気管６３及びエアフィルタ６４を通
って送風機６１に供給される。送風機８１において空気
は連結管６５を通って送風機６２へ放出される前に圧搾
され、その温度は幾分上げられ、送風機６２で更に圧搾
され、その温度も再び上げられる。

当該圧搾、加熱空気はそれから棚管式熱交換器７０の第
１面の管６６を通過して、その圧搾空気は以下に述べる
ように冷却される。第４図に示すように、それから冷却
された圧搾空気は冷却空気吐出管６７を通って各ランプ
アセンブリ２０の給気管４７及び空気導管４２に流れる
。冷却圧搾空気は空気導管４２内を通過して、出口４３
及び反射器ブロック溝４０を通って１ｃ■当り約０．０
０２７５ｍ”　（１／４ｃｆｍ、／１インチ）　〜０．
００５５ｍ”（１／２ｃｆｍ、／１インチ）で、第４図
に矢印Ｅで示すように、ランプ２１上若しくは周囲に放
出され、同ランプを均一に冷却し、その温度を前述した
運転範囲、即ち、約５９３〜８１５℃に保つ。

第６図に示すように、熱交換器７０の一方面を通る圧搾
加熱空気が冷却装置８０から冷却材導管８１を経て熱交
換器７０の第２面へと循環する冷却材によって冷やされ
、そこで冷却材はその第１面内の圧搾空気から熱を奪う
。高温の冷却材は熱交換器７０を出て冷却材導管８２を
経て冷却装置８０に戻って当業者に周知の方法で冷やさ
れる。

第２図、５図及び６図に示すように、各反射器ブロック
３０もまた、冷却装置８０、給水管１０２、給水管４５
、水導管４１及び放水管４６を通って冷却装置８０に戻
る閉鎖ループ内を循環する水によって冷却される。循環
は放水管４６に連結された水ポンプ４８Ａにより為され
る。水は最初は冷却装置８０及びその中の給水管１０２
（図示せず）に連結された水源（図示せず）から給水管
１００を通って閉鎖ループ内に供給される。水の補給も
同様のやり方で為される。各反射器ブロック３０の水導
管４１を通る冷却水は、そ°の温度を前述の運転範囲で
ある約１０℃〜２６．６℃の範囲、好ましくは約１８．
３℃に維持するよう働く。反射器ブロック３０を通過す
る際、水の温度は上昇して放水管４６及びポンプ４６Ａ
を経て冷却装置８０へと戻りそこで再び冷却される。

本発明の他の態様においては、目的物は上述のシステム
を以下のやり方で操作する方法によって遂行される。

排出部１の前方の多段印刷機を起動するときには、ポン
プ４６Ａが作動して水が循環して反射器ブロック３０を
通り、参照温度を約７゜２℃〜２３．９℃、好ましくは
約１０℃にする。検温装置４９はコンピュータ制御装置
９０に接続されて、反射面３４及びランプ２１の隣接周
辺内をモニタし続け、その温度が２３．９℃（７５°Ｆ
）を超えたときにはコンピュータ制御装置９０がライン
９３を介して冷却装置８０を起動させて同装置８０内を
循環する水を冷やす。

印刷機使用者がランプ２１を点灯したいときには、電源
を入れればランプ中央部２２に放電が発生し、ランプ２
１は約２分で全開に達する。ランプが作動を続けて熱く
なるとその周辺及び反射器ブロック４０の温度が上昇し
、継続的に上昇温度が検温装置４９によってコンピュー
タ制御装置９０に伝達される。温度が６０〜７１℃にな
ると、コンピュータ制御装置９０はライン９１を介して
中圧送風機θ１を起動させて、吸気管６３及びフィルタ
８４から空気を引き込んで約０．０３５ｋｇ／Ｃ！／　
（１／２９Ｓ１．）〜０．０７ｋｇ／（！♂（１ｐｓｉ
　、）に圧搾し、温度を上げる。例えば、送風機６１へ
の空気の温度が約２１℃であれば、圧搾空気の温度は約
３２℃に上昇する。送風機１からの圧搾空気は無活動の
中圧送風機６２、及びこれも無活動の熱交換器７０を経
る適宜配管を通って循環して反射器ブロック３０に至り
、そこでその空気は空気導管４２を通り、出口４３及び
溝４０を通ってランプ２１及び反射面３４に放出される
。

送風機６１からの圧搾空気がランプ２１上に放出された
ときでも、その作業温度は上がり続け、その温度は検知
装置４９によってモニタされる。

検知装置４９によってコンピュータ制御装置９０に伝達
された温度が約２３２〜２８８℃に上昇したときには、
制御装置９０はライン９２を介して送風機８１と直列に
連結された中圧送風機６２を起動させる。送風機６２は
送風機６１から導管６５を介して圧搾加熱空気を受は入
れ、さらにそれを約０．　１０５ｋｇ／Ｃｆ１ｌ′（１
，５ｐｓｔ、）〜０．１２２５ｋｇ／ＣａＦ　（１，７
５ｐｓ１．）まで圧搾するとともにその温度を上昇せし
める。さらに圧搾され、より熱くなった空気は無活動の
ままの熱交換器７０を通って循環して前節で述べたよう
に反射器ブロック３０に至る。送風機６２から放出され
た空気温度は約３２〜５４℃、好ましくは約４３℃が望
ましい。

検温装置４９によってコンピュータ制御装置９０に伝達
された温度が約３４３〜３９９℃に上昇すると、同制御
装置９０はライン９３を介して冷却装置８０を起動せし
め、管路８１、熱交換器７０を通って冷却材が循環し、
導管８２を通って冷却装置８０に戻る。熱交換器７０の
第１面を通過する加熱圧搾された空気は、熱交換器７０
の第２面を通って循環した冷却装置８１からの冷却材の
通過によって約−１〜１０℃に低下させるように冷却さ
れる。熱交換器７０を通過する加熱圧搾空気は、約１０
〜２６．６℃に冷却され、好ましくは約１５．６℃に冷
却されて溝４０を通って反射器ブロック３０へ到り、ラ
ンプ２１の表面及び反射面３４へ到ってそれらを冷却す
る。

上述したシステムの実施例、及びその操作方法は、異な
る４段階の動力、即ち、１／４．１／２．３／４、又は
全開の４段階で作動するようプログラムされる印刷機に
関連して使用されるものであり、コンピュータ制御装置
９０は検温装置４９から伝達された温度に対応して、送
風機８１．６２、冷却装置８０、及び熱交換器７０を上
述のように起動させるよう機能するものである。汎用の
印刷機において採用されている他の乾燥システムは、上
述のような４段階で作動するものではなく、単に１／２
、又は全開でのみ作動するものである。

そのような他の印刷機の起動においては、空気冷却送風
機がランプの放電開始とほぼ同時に開始し、空気はやや
もすればランプを冷やしすぎて放電消滅をお起こしがち
である。そのような早い冷却のために紫外線ランプが全
開に到達するのに約３〜５分を要する紫外線システムが
市販されている。

汎用の給紙印刷機の排出部におけるスペースは限られて
おり、通常印刷シートを運ぶのに使われるチェーンの底
部と上部の経路間の距離は短い。

従って、目下一般に提供されている印刷機においては、
かかる排出部に内装すべき備品は小さく、しかもその機
能を十分に果たすものでなければならないのである。も
し、大きい備品が用いられるならば、そのチェーンの通
過経路は広げられ、排出部の大きく、費用の掛かる変更
を強いられる。

加つるに、印刷機を高速で作動させるためには一般の電
圧では時折多段印刷機の段の間に付加的乾燥装置を設置
することでのみ達成され、その取り付けのためのスペー
スもまたプレミアム付きとなる。

第７図には、上述の好ましいシステムのランプ反射器ア
センブリ２０がチェーン２の底部経路Ｂと上部経路Ｃ間
に設置しうる方法を描いている。

多くの印刷機においてはかかる経路間の寸法りは、約７
．６ｃｍ（３インチ）　＝１５．　２ｃｍ　（６インチ
）である。ランプ反射器アセンブリ２０の空気及び水冷
却によってそれは高さＨが約７〜８．２８ｃｍ間に亘り
、幅Ｗが約５〜８．９０■で製造できる。

かかる寸法でのランプ反射器アセンブリ２０においては
、溝４０は幅を約０．１２〜０．３８ｃ嘗、好ましくは
約０．１８ｃｍとし、水導管４１及び空気導管４２は直
径を約０．９５〜１．９ｃｍとしうる。ランプ２１の直
径は１．９〜３ｃｍとじつる。

ランプ２１の長さは反射器ブロック３０１　溝４０及び
出口４３の長さを統べる。すなわち、溝４０の長さは少
なくともランプ２１の中央部２２と等しくして、該中央
部の適切な冷却を確実なものとすることが重要である。

好ましくは、細長溝４０は少なくともランプ２１の全長
すなわち、ランプ端部２３、中央部２２及び端部２４を
含んで、ランプ端部が適切な冷却を確実に受けるように
すべきである。細長溝４０の利点の一つはそこからくる
圧搾空気がランプ２１上及び周囲に流れて均一にその表
面を冷却することである。第７図中の矢印Ｆは、光線が
パラボラ状樋溝の反射面３４から平行に反射する仕方を
描いている。

送風機６１及び６２は、中圧送風機である。中圧送風機
は約０．０３５〜０．　２８ｋｇ／Ｃ＋／の圧力、約１
．４〜１１．７８ｍ”／分の出力で作動するものである
。かかる要求に適合する送風機としては、ミシガン州、
ベントンハーバ−のガストマニフＴクチャリング社（Ｇ
ａｓｔ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ　Ｃｏｒｐ、）製
の回虫式送風機がある。この送風機は羽根車の周囲にの
みブレードを有し、その羽根車が回転すると、遠心力が
ブレードの根元からブレード先端方向に空気を動かす。

ブレード先端を離れた空気は羽根車ハウジング周囲を流
れ、次のブレードの根元に戻って同様の流れのパターン
を繰り返される。

この動きは圧力作動性能を増大させる舞台効果を提供す
る。上述の実施例におけるコンピュータ制御装置９０と
しては、マサチューセッツ州、ノーウッドのアナログデ
バイス社（Ａｎａｌｏｇ　Ｄｅｖｌｃｅ＋Ｉｎｃ、）製
のオープンボード形式コンピュータがある。冷却装置８
０はオハイオ州、シトニーのコープランド社（Ｃｏｐｅ
ｌａｎｄ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）製の圧搾ユニット
を用いるものである。熱交換器７０は、■ＴＴ社トラン
タディビジロン（ＩＴＴ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｌｏｎ。

Ｔｒａｎｔｏｒ　ＤＩｖｌｓｌｏｎ）製の棚管式熱交換
器である。

紫外線ランプを支持する適度の強度を何するアルミニュ
ウム成形の反射器ブロック３０は、１５２．４ｃｍ近い
長さを有し、約５９３℃の温度下でランプを弱めたり、
損傷することなく作動するものである。一方、実施例の
反射器ブロック３０は、リブ４４によって隔てられた多
数の出口４３を有するが、溝４０とほぼ等しい長さを有
する単一の出口とすることもできる。リブ４４は反射器
ブロック３０を強化し、硬さを与えてランプ２１の高い
作動条件下での弱化、低下を防止している。

特に困難な条件下で作動する印刷機においては、冷却水
によってほぼ完全に冷却されるキユアリングシステム持
つことが望ましい。コーティングされた基体を照射する
放射線が、光源からの放射線（すなわち、光源からの放
射線ランプからの放射線と反射器ブロックアセンブリの
反射面からの放射線との両者）と実質的に同様であるシ
ステムを持つこともまた望ましい。他の方法については
、反射器ブロックアセンブリとコーティングした基体と
の間に１以上のフィルタを用いないほぼ完全な水冷却シ
ステムを持つことが望ましい。そのようなシステムにお
ける加熱を増大しがちであり、及び／又は、基体上の放
射線の不均一な分散を生じがちであり、個別ポイントに
おけるより急激な熱勾配をもちがちである。かかる両条
件ともにキュアリング及び／又は作動上の問題を構成す
る。

第８図にはかかるほぼ完全な水冷却システムの実施例が
示され、そこでは上述のような多段、多色、シート供給
型、の印刷機（図示せず）の端部の排出部（図示せず）
に配置された二つの紫外線ランプ反射器アセンブリ２２
０と、冷却装置２８０及び貯水槽２８１と、閉鎖水循環
システム２６０と、コントロールシステム３００とが示
すれている。

第９〜１１図に最も良く示されるように、各ランプアセ
ンブリ２２０は中央部２２２と端部２２３及び２２４を
有する細長筒状の中圧蒸気水銀紫外線ランプ２２１と、
光源ラインとを備えている。

ランプ２２１の端部２２３．２２４のライン２２５及び
２２６は、ランプ２２１の起動のためにそれぞれ適宜電
源（図示せず）に接続されている。

ランプ端部２２３．２２４は一対の細長反射器ブロック
２３０の両端に固定された耐火性の絶縁体２２７．２２
８に装着されている。アルミニュウム単一成形部材であ
る反射器ブロック２３０は、上部２３１と、底部２３２
、及び滑らかな反射面２３４を持つパラボラ状樋溝のキ
ャビティ２３３とを存している。ブロック２３０はトッ
プ２３５、側部２３６、段状側部２３７、及び端部２３
８．２３９を有する。ブロック２３０の端２３８から端
２３９へ縦に延び、間隔をおいて水導管２４１．２４２
がある。゛水導管２４１．２４２は反射面２３４とブロ
ックトツブ２３５の間、並びに、側部２３６と段状側部
２３７の間のブロック２３０の上部２３１に配置されて
いる。ランプ２２１は、光線の適切な焦点合わせ、コー
ティングされたシートを覆い、周囲を囲って光や熱洩れ
、及至は不慮のランプ破損防止のためのキャビティ２３
３内の全体に亘って装着されている。

第８．９及び１１図に示されているように、水導入管２
４５及び２４７が反射器ブロック端部２３８にある水導
管２４１及び２４２にそれぞれ接続されており、−力水
排出管２４６及び２４８はそれぞれ反射器ブロック端部
２３９に配設されている。

第８図はランプ反射器アセンブリ２２０に冷却水を供給
する閉鎖システムを示している。冷却装置２８０、配属
水容器２８１、ポンプ２８３、該ポンプへの水給送管２
８２、ポンプからの水排出管２８４、反射器ブロック２
３０の水導管２４１及び２４２に且つこれらの導管を経
て水を供給する水導入管２４５及び２４７を通る閉鎖ル
ープ状の水循環システム２８０を介して水は循環せしめ
られる。水導管２４１及び２４２からの水は反射器ブロ
ックの端部２３９から水排出管２４６及び２４８をそれ
ぞれ循環し、冷却装置の水導入管２８９を経て冷却装置
２８０に至る。必要とされる水は図示されていない供給
源から、遮断バルブ２０１を備え、た給送ライン２００
を介して冷却装置２８０に給送される。

本発明による当該実施形を包含するものであって冷却水
によりほぼ完全に冷却される反射器ブロックを使用する
キユアリングシステムは、空気−水システムに関して既
述したものと同様の態様で、即ち反射器ブロックキャビ
ティ２３３内に装着された感温装置を包含するコンピュ
ータ制御システムを用いて制御することが可能である。

しかしながら、第８　図に示されるように、好ましい制
御システム３００としては水容器２８１内に配置された
温度測定装置２４９を包含しており、この温度測定装置
はライン２９２により冷却装置２８１に接続されたコン
ピュータ２９０にライン２９１により接続されている。

温度測定装置２４９は容器２８１内の水の温度をモニタ
し、ライン２９１を介して適用可能な信号をコンピュー
タ２９０に送信する。容器２８１内の水の温度が約７〜
２４℃（４５〜７５Ｆ）である好ましい範囲内のもので
ない場合には、コンピュータ２９０は、ライン２９１を
経て冷却装置２８０に信号を送って、要求される条件に
応じて当該冷却装置を起動させ或はその稼働を停止させ
る。コンピュータ２９０は、容器２８１内の水の温度が
約１６℃（約６０Ｆ）の場合に冷却装置２８０を起動し
て水の温度を降下させ、即ち再冷却し、従って水循環シ
ステム２６０内の水の温度が、何時でも、好ましくは約
２４℃（７５Ｆ）を越えないようにプログラムされてい
ることができる。反射器ブロック２３０に送られる冷却
水が約７〜２４℃（４５〜７５Ｆ）の好ましい温度範囲
内のものであれば、種々の環境ファクタにもよるが、反
射器ブロック２３０は極めて望ましい作動温度である約
１０〜３２℃（約５０〜９０Ｆ）の範囲内の温度条件下
で作動する。

水導入導管２４１及び２４２を経て反射器ブロック２３
０に流入する水は、該ブロックの温度を約１０〜３２℃
（約５０〜９０　Ｆ）、好ましくは約１８℃（約６５Ｆ
）の規定作動温度範囲内の温度に維持するように作用す
る。ブロック端部２３８における水導管２４１及び２４
２に給送される水の圧力は約１．４〜２．　１　ｋｇ／
ｃｍ２　（約２０〜３０ｐｓｌ）であり、これらの導管
を流れる水の流量は約１００ｃｍ（約４０インチ）の反
射器ブロックに関しては毎分約３．４〜６．７￥２（約
０．７５〜１．２５ガロン）であり、約１８０ｃｍ（約
７０インチ）の反射器ブロックに関しては毎分約３．４
〜１０．２讐（約０．７５〜２．２５ガロン）である。

ポンプ２８３は約６．　３　ｋｇ／ｃｍ２　（約９０ｐ
ｓｌ）の吐出圧力を有するタービン型ポンプ又は同様の
特性を有する吐出型ポンプ（ｐｏｓｉｔｉｖｅ　ｄｌｓ
ｐｌａｃｅｍｅｎｔ　ｐｕｍｐ）であることが好ましい
。

本発明の当該実施形による反射器ブロック、即ち反射器
ブロック３０及び２３０の特異な特徴は全面がほぼ平滑
であること、即ち外面がフラットであり且つブロックキ
ャビティ部分において湾曲してはいるが、ほぼフラット
なことにある。ここで云う「ほぼ平滑」とは、周囲環境
に熱を放散するために表面積を増加させるようなリブや
フィン等の面積増加構造物を有していないことを意味し
ている。反射器ブロックに関してフィンやリブを使用す
ることは、慣用の温水型室内暖房システムにおいてコイ
ルや管にフィンを設けるのと同様に面積を増加させてブ
ロックの冷却効率を改善する常套手段である。しかしな
がら、フィンやリブによる反射器ブロックの冷却は周囲
環境への熱の放散をもたらし、これは、印刷機における
印刷インキのキュアシステムの場合に、操業上において
重大な課題を招来する。ほぼ平滑な面を有し且つ冷却目
的で閉鎖ループ型式で冷却水のみを用いる反射器ブロッ
クを使用することにより、紫外線ランプからの熱は反射
器ブロック内に留まる。即ち、当該ブロックはヒートシ
ンクとして作用し、冷却水が熱を吸収して反射器ブロッ
ク及び周囲機器の両者からの熱を運び出して作動条件を
改善する。

ほぼ完全に水冷された反射器ブロックの寸法は、既述の
好ましい実施形に関連して説明した空気−水冷却式ブロ
ックの寸法と同程度のものである。

水冷反射器ブ、ロック２３０の水導管２４１及び２４２
は約１〜２ｃｍ（約３／８〜３／４インチ）の口径を有
している。図示されている実施形においては水導管２４
１及び２４２の横断面形状が円形であるが、冷却目的に
適当であれば如何なる横断面形状であっても差し支えな
い。同様に、図示されているような２つの等径の円形な
ものでなくとも、一方の水導管が大径であったり、適当
な非円形形状を有しているものであることもできる。し
かしながら、水導管を大径にすると、大型の且つ場合に
よっては付加的な留め具が必要となり、限られた狭いス
ペース内で取り付けたり組み立てたりするのが困難にな
る可能性がある。

本明細書において言及する用語「冷却水」乃至「冷却液
体」とは、環境温度とは無関係に約７〜２４℃の間の温
度迄人為的に冷却された水を指称する。このような冷却
は、冷却装置により液体窒素、氷等で液体を冷却する熱
交換器を包含する閉鎖ループシステムで実施することが
できる。

本明細書において言及する用語「水によりほぼ完全に冷
却された」とは、反射器ブロックにおける　１つ又はそ
れ以上の導管を経て循環せしめられる冷却水のみを使用
して本システムの反射器ブロックが約１０〜３２°Ｃ（
約５０〜９０Ｆ）の温度に冷却されることを意味する。

空冷等の他の冷却手段を併用する必要性はない。併用す
れば、これに伴う追加的な設備が必要であり且つ（又は
）場合により操業的に課題を招く。

上述した本発明による実施形において採用されているポ
ンプ４６Ａ及び２８３は約６．　３　ｋｇ／ｃｍ２（約
９０ｐｓｉ）の吐出圧力を何するタービン型式のもの、
又は同様の特性を有する吐出型のものである。このよう
なポンプは、約１．４〜２．　１ｋｇ／ｃｔａ”　（約
２０〜３０ｐｓｌ）の圧力で且つ毎分約３゜４〜１０．
２￥Ｚ（約０．７５〜２．２５ガロン）の流量で、反射
器ブロックの水導管に水を搬送する。

冷却水によりほぼ完全に冷却されて約７〜２４℃（約４
５〜７５Ｆ）の適正温度範囲になされた反射器ブロック
を有する本発明装置によれば、ランプに関して単位長さ
当り（ｃｍ）のワット数を顕著に増加させることができ
る。ランプのワット数増加は、移動しつつある基体上の
コーティングに関しキュア速度において比例した増加を
もたらす。

例えば、従来技術による冷却システムを採用する場合に
、ランプはｌａｍ当り約７９〜１１８ワツト（２００〜
３００ワット／インチ）あり、この場合の基体の送り速
度は、多数の紫外線硬化型ワニスの内でバース・アンド
・スチーブンスカンパニー　（Ｐｌｅｒｃｅ　ａｎｄｓ
ｔｅｖｅｎｓ　Ｃｏｍｐａｎｙ）製の紫外線硬化型透明
ワニスを例にとり、基体上に約１７２ミルの厚さで塗布
し、このワニスをキュアする場合に毎分約６０ｍ（約２
００フイート）となる。これに対□して、冷却水により
ほぼ完全に冷却された反射器ブロックを使用し且つ空冷
を併用せず、及び／又は、フィルタを用いない本発明に
よる装置を使用すれば、１ｃＩ１１当り約１５７〜１７
７ワツト（４００〜４５０ワット／インチ）の照射強度
が高いランプを使用することができ、基体上に約ｌ／２
ミル厚さで塗布された上記と同一の紫外線硬化型透明ワ
ニスを対象としてキュアさせる場合に、基体の送り速度
は毎分約９０〜１０８ｍ（約３００〜３５０フイート）
であり、送り速度に関して６０％以上の改善をもたらす
。通常の条件の下では、パワーとキュア速度との比は１
６〜４０％増加させることができ作業効率を本質的に改
善し、これに比例して作業コストが低減する。

以上、本発明によるシステムの第２実施形及び該システ
ムの操作方法について説明したが、簡略化のために、こ
の種のシステムにおいて固有の且つ当該分野の技術者に
とって自明な配管、バルブ装置及び制御の詳細について
は説明を省いた。パラボラ伏樋溝反射面として言及した
反射面３４及び２３４は種々の形状になされ得ることに
留意され度い。水冷について説明したが、他の容認し得
る液状冷媒を使用することもできる。更に、当該分野の
技術者であれば、本発明の精神や範囲を逸脱することな
しに上記のシステムや操作方法を改変し得ることに留意
されたい。

（発明の効果） 本発明によるシステムは専−的ではないが、高速印刷機
に関連して使用されるものであり、高速で移動しつつあ
る基体即ち紙葉等の上に施された感光性コーティング例
えば感光性の印刷インキ等をキュアするために使用され
る。このキュアは紫外線照射により実施される。

高速印刷を可能ならしめるために１．照射紫外線の線量
を高めれば線源である紫外線ランプは可成りの熱を放散
する。紫外線ランプ反射器アセンブリを効率良く作動さ
せるためには、反射器ブロックを冷却する必要性があり
、従来技術によれば当該冷却は空冷方式を採用して実施
されていた。即ち、低圧で大容量の送風機又は高圧で低
容量の送風機を用いて空気を紫外線ランプ反射器アセン
ブリに送るのである。この場合に、送風機自体は系外に
設置されるので寸法に制限を受けないが、空冷では紫外
線ランプ反射器アセンブリを均斉に冷却することが困難
であり、結果として反射器ブロックにフィンやリブ等の
付加的な熱放散策を講じる必要性が生じて反射器ブロッ
クが大型化するために、合理的なスペースに収容するこ
とができず、このために紫外線ランプとして低出力のも
のを用いざるを得なかったのである。

そこで、本発明では水冷と冷空気吹き付けとの併用方式
又は純水冷方式を採用し、その結果紫外線ランプ反射器
アセンブリの均斉にして充分な冷却、該アセンブリの小
型化がもたらされ、延いては大出力紫外線ランプの使用
が可能となり、キュア速度の著しい増加、作業コストの
低減がもたらされる。

【図面の簡単な説明】

第１図は塗装基体が本発明にかかるシステム及び方法に
よってそのコーティングを乾燥するために通過するマル
チスタンド、マルチカラーのシートが供給される印刷プ
レス端部の排出部の概略縦断面図、第２図は第１図の装
置中のランプ反射器アセンブリの斜視図、第３図は第２
図のランプ反射器アセンブリの左側面図、第４図は第３
図中の４−４線矢視の縦断面図、第５図は第２図のラン
プ反射器アセンブリの平面図、第６図は空気、水、冷却
、並びにコンピュータ制御装置を含むより詳細な本発明
システムを示す第１図の拡大断面図、第７図は同システ
ムのランプ反射器アセンブリが取り付けされる特定スペ
ース、並びに紫外線が同しンプ反射器アセンブリにより
反射される手段を示す第３図と同様の拡大概略側面図、
第８図は本発明システム及び方法の他の実施例によるコ
ーティングを乾燥するために塗装基体が通過するマルチ
スタンド、マルチカラーのシートが供給される印刷プレ
ス端部の排出部の概略図、第９図は第８図に示された実
施例のランプ反射器アセンブリ、の平面図、第１０図は
第９図のランプ反射アセンブリの左側面図、第１１図は
第９図の１１−１１線矢視の縦断面図である。 １・・・排出部、２・・・チェーン、７・・・シート、
９・・・コーティング、１０・・・開口、２０．２２０
・・・ランプ反射器アセンブリ、２１．２２１・・・紫
外線ランプ、３０．２３０・・・反射器ブロック、３３
．２３３・・・キャビティ、３４．２３４・・・反射面
、４０・・・反射器ブロック溝、４Ｌ　　２４１．２４
２・・・水導管、４２・・・空気導管、４５．２４５．
２４７・・・給水管、４６．２４６．２４８・・・排水
管、４６Ａ１２８３・・・ポンプ、４８．２４９・・・
検温装置、６１．８２・・・中圧送風機、６３・・・吸
気管、６４・・・フィルタ、７０・・・熱交換器、８０
．２８０・・・冷却装置、８１・・・冷却材導管、９０
．２９０・・・コンピュータ制御装置、１０２・・・水
導管、２８１・・・貯水槽。 特許出願人　ジ日セフ　トーツス　バージオ、手続補正
書（方式） 平成２年３月９日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）移動しつつある基体上のコーティングを紫外線照
   射によりキュアする装置であって、 （Ａ）反射面を有するキャビティを有し、導管が貫通し
   てなる細長の反射器ブロックと、該反射器ブロックキャ
   ビティ内に、中央部を有する細長の紫外線ランプととを
   備えたランプ反射器アセンブリと、 （Ｂ）液体を冷却する冷却手段と、 （Ｃ）ポンプ手段と、配管とからなる、該反射器ブロッ
   ク導管と該冷却手段との間で冷却液体を循環させるため
   の閉鎖ループシステムと、 （Ｄ）該閉鎖ループシステム内を循環する冷却液体の温
   度をモニタする温度モニタ手段と、該温度モニタ手段か
   らの信号を受信するとともに、該閉鎖ループシステムを
   循環する冷却液体の温度が所定の温度範囲から逸脱した
   ことを温度モニタ手段からの信号が示す場合に該冷却手
   段に信号を発すべく、該温度モニタ手段と冷却手段とに
   接続された制御手段とからなる制御システム、 とを具備していることを特徴とする基体上コーティング
   の光化学的キュアリングシステム。 （２）上記冷却手段に接続された、冷却液体を収容する
   ための貯溜手段を更に具備するとともに、該貯溜手段内
   の冷却液体をモニタするために上記温度モニタ手段を該
   貯溜手段に接続してなる請求項１に記載の基体上コーテ
   ィングの光化学的キュアリングシステム。 （３）上記の反射器ブロックが、ほぼ平滑な外面と、放
   射線状トラフ形状反射面を有するキャビティと、長手方
   向に延びている二つの導管とを有する純アルミニウム製
   の押し出し一体成形品である請求項１に記載の基体上コ
   ーティングの光化学的キュアリングシステム。 （４）基体上のコーティングを紫外線照射によりキュア
   する装置であって、 （Ａ）ほぼ平滑な外面と、放射線状トラフ形状反射面を
   有するキャビティと、長手方向に延びる少なくとも一つ
   の導管とを有するアルミニウム製の押し出し一体成形品
   である細長の反射器ブロックと、該反射器ブロックキャ
   ビティ内にある中央部を有する細長の紫外線ランプとを
   備えたランプ反射器アセンブリと、 （Ｂ）液体を冷却する冷却手段と、 （Ｃ）該冷却手段に接続された、冷却液体を収容する貯
   溜手段と、 （Ｄ）該反射器ブロック導管と冷却手段との間で冷却液
   体を循環させる、ポンプ手段と配管とからなる閉鎖ルー
   プシステムと、 （Ｅ）該閉鎖ループシステム内を循環する冷却液体の温
   度をモニタする温度モニタ手段と、該温度モニタ手段か
   らの信号を受信するとともに、該閉鎖ループシステムを
   循環する冷却液体の温度が所定の温度範囲から逸脱した
   ことを温度モニタ手段からの信号が示す場合に該冷却手
   段に信号を発すべく、該温度モニタ手段と冷却手段とに
   接続された制御手段を有する制御システム、 とを具備していることを特徴とする基体上コーティング
   の光化学的キュアリングシステム。 （５）移動しつつある基体上のコーティングを指向性の
   与えられた紫外線照射によりキュアする装置であって、 （Ａ）反射面を有するキャビティを有し、導管が貫通し
   てなる細長の反射器ブロックと、該反射器ブロックキャ
   ビティ内に、中央部を有する細長の紫外線ランプととを
   備えたランプ反射器アセンブリと、 （Ｂ）液体を冷却する冷却手段と、 （Ｃ）ポンプ手段と、配管とからなる、該反射器ブロッ
   ク導管と該冷却手段との間で冷却液体を循環させるため
   の閉鎖ループシステムと、 （Ｄ）該閉鎖ループシステム内を循環する冷却液体の温
   度をモニタする温度モニタ手段と、該温度モニタ手段か
   らの信号を受信するとともに、該閉鎖ループシステムを
   循環する冷却液体の温度が所定の温度範囲から逸脱した
   ことを温度モニタ手段からの信号が示す場合に該冷却手
   段に信号を発すべく、該温度モニタ手段と冷却手段とに
   接続された制御手段とからなる制御システム、 とを具備していることを特徴とする基体上コーティング
   の光化学的キュアリングシステム。 （６）上記冷却手段に接続された、冷却液体を収容する
   ための貯溜手段を更に具備するとともに、該貯溜手段内
   の冷却液体をモニタするために上記温度モニタ手段を該
   貯溜手段に接続してなる請求項５に記載の基体上コーテ
   ィングの光化学的キュアリングシステム。 （７）上記の反射器ブロックが、ほぼ平滑な外面と、放
   射線状トラフ形状反射面を有するキャビティと、長手方
   向に延びている二つの導管とを有するアルミニウム製の
   押し出し一体成形品である請求項５に記載の基体上コー
   ティングの光化学的キュアリングシステム。 （８）移動しつつある基体上のコーティングを指向性を
   有する紫外線照射によりキュアする装置であって、 （Ａ）ほぼ平滑な外面と、放射線状トラフ形状反射面を
   有するキャビティと、長手方向に延びる少なくとも一つ
   の導管とを有するアルミニウム製の押し出し一体成形品
   である細長の反射器ブロックと、該反射器ブロックキャ
   ビティ内にある中央部を有する細長の紫外線ランプとを
   備えたランプ反射器アセンブリと、 （Ｂ）液体を冷却する冷却手段と、 （Ｃ）該冷却手段に接続された、冷却液体を収容する貯
   溜手段と、 （Ｄ）該反射器ブロック導管と冷却手段との間で冷却液
   体を循環させる、ポンプ手段と配管とからなる閉鎖ルー
   プシステムと、 （Ｅ）該閉鎖ループシステム内を循環する冷却液体の温
   度をモニタする温度モニタ手段と、該温度モニタ手段か
   らの信号を受信するとともに、該閉鎖ループシステムを
   循環する冷却液体の温度が所定の温度範囲から逸脱した
   ことを温度モニタ手段からの信号が示す場合に該冷却手
   段に信号を発すべく、該温度モニタ手段と冷却手段とに
   接続された制御手段を有する制御システム、 とを具備していることを特徴とする基体上コーティング
   の光化学的キュアリングシステム。 （３）貫通する導管を有する反射器ブロックのキャビテ
   ィ内に中央部が装着されている細長の紫外線ランプによ
   り基体上のコーティングをキュアする方法において、 （Ａ）冷却手段により液体を冷却する工程と、（Ｂ）該
   冷却手段と、ポンプ手段と、配管とからなる閉鎖ループ
   循環システムにより該反射器ブロックの導管を経て上記
   の冷却液体を循環させる工程と、 （Ｃ）冷却循環液体の温度をモニタする手段と、該温度
   モニタ手段と冷却部材とに接続された制御手段とを備え
   た制御システムを用いて液体の温度をモニタすることに
   より約７〜２４℃（約４５〜７５Ｆ）の範囲内の温度に
   冷却循環液体の温度を制御し、その温度が約７〜２４℃
   の範囲内である規定パラメータを超える場合には上記冷
   却手段を起動して液体を再冷却する工程、 とを具備していることを特徴とする基体上コーティング
   の光化学的キュアリング方法。 （１０）毎分約２．９〜８．６リットル（約０．７５〜
   ２．２５ガロン）の流量で、冷却液体が冷却材導管を経
   て循環せしめられる、請求項９に記載の基体上コーティ
   ングの光化学的キュアリング方法。 （１１）反射器ブロックにおける導管を経て循環せしめ
   られる冷却液体が、上記のブロックをほぼ確実に約１０
   〜３２℃（約５０〜９０Ｆ）の範囲内の温度に冷却する
   請求項９に記載の基体上コーティングの光化学的キュア
   リング方法。 （１２）貫通している二つの導管を有する反射器ブロッ
   クのキャビティ内に全体が装着された、中央部を有する
   細長の紫外線ランプを用いる紫外線照射により基体上の
   コーティングをキュアする方法において、 （Ａ）冷却手段により液体を冷却する工程と、（Ｂ）冷
   却手段と、ポンプ手段と、配管とを備えてなる閉鎖ルー
   プ循環システムにより、毎分約２．９〜８．６リットル
   （約０．７５〜２．２５ガロン）の流量で、該冷却液体
   を反射器ブロックの導管を経て循環させ、上記のブロッ
   クをほぼ確実に約１０〜３２℃（約５０〜９０Ｆ）の範
   囲内の温度に冷却する工程と、 （Ｃ）冷却循環液体の温度をモニタする手段と、該温度
   モニタ手段と上記の冷却手段とに接続された制御手段と
   を備えた制御システムを用いて液体の温度をモニタする
   ことにより約７〜２４℃（約４５〜７５Ｆ）の範囲内の
   温度に冷却循環液体の温度を制御し、その温度が約７〜
   ２４℃の範囲内である規定パラメータを超える場合には
   上記の冷却手段を起動して液体を再冷却する工程と、を
   具備していることを特徴とする基体上コーティングの光
   化学的キュアリング方法。 （１３）貫通している導管を有し且つアルミニウム製の
   押し出し一体成形体である反射器ブロックのキャビティ
   内に装着された、中央部を有する細長の紫外線ランプを
   用いて指向性の与えられた紫外線照射により、基体上の
   コーティングをキュアする方法において、 （Ａ）冷却手段により液体を冷却する工程と、 （Ｂ）該冷却手段と、ポンプ手段と、配管とからなる閉
   鎖ループ循環システムにより該反射器ブロックの導管を
   経て上記の冷却液体を循環させる工程と、 （Ｃ）冷却循環液体の温度をモニタする手段と、該温度
   モニタ手段と冷却部材とに接続された制御手段とを備え
   た制御システムを用いて液体の温度をモニタすることに
   より約７〜２４℃（約４５〜７５Ｆ）の範囲内の温度に
   冷却循環液体の温度を制御し、その温度が約７〜２４℃
   の範囲内である規定パラメータを超える場合には上記冷
   却手段を起動して液体を再冷却する工程、 とを具備していることを特徴とする基体上コーティング
   の光化学的キュアリング方法。 （１４）毎分約２．９〜８．６リットル（約０．７５〜
   ２．２５ガロ）の流量で、冷却液体が冷却材導管を経て
   循環せしめられる請求項１３に記載の基体上コーティン
   グの光化学的キュアリング方法。 （１５）反射器ブロックにおける導管を経て循環せしめ
   られる冷却液体が、上記のブロックをほぼ確実に約１０
   〜３２℃（約５０〜９０Ｆ）の範囲内の温度に冷却する
   請求項１３に記載の基体上コーティングの光化学的キュ
   アリング方法。 （１６）貫通している二つの導管を有する反射器ブロッ
   クのキャビティ内に全体が装着された中央部を有する細
   長の紫外線ランプを用いて指向性の与えられた紫外線照
   射により、基体上コーティングをキュアする方法におい
   て、 （Ａ）冷却手段により液体を冷却する工程と、 （Ｂ）該冷却手段と、ポンプ手段と、配管とからなる閉
   鎖ループ循環システムにより該反射器ブロックの導管を
   経て上記の冷却液体を循環させる工程と、 （Ｃ）冷却循環液体の温度をモニタする手段と、該温度
   モニタ手段と冷却部材とに接続された制御手段とを備え
   た制御システムを用いて液体の温度をモニタすることに
   より約７〜２４℃（約４５〜７５Ｆ）の範囲内の温度に
   冷却循環液体の温度を制御し、その温度が約７〜２４℃
   の範囲内である規定パラメータを超える場合には上記冷
   却手段を起動して液体を再冷却する工程、 とを具備していることを特徴とする基体上コーティング
   の光化学的キュアリング方法。