JPH02214740A - プリプレグおよびそれを用いた配線基板 - Google Patents
プリプレグおよびそれを用いた配線基板Info
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- JPH02214740A JPH02214740A JP1036679A JP3667989A JPH02214740A JP H02214740 A JPH02214740 A JP H02214740A JP 1036679 A JP1036679 A JP 1036679A JP 3667989 A JP3667989 A JP 3667989A JP H02214740 A JPH02214740 A JP H02214740A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
- C08J5/241—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres
- C08J5/244—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs using inorganic fibres using glass fibres
-
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- C08J5/24—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs
- C08J5/249—Impregnating materials with prepolymers which can be polymerised in situ, e.g. manufacture of prepregs characterised by the additives used in the prepolymer mixture
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/0353—Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Inorganic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子機器、電気機器、コンピューター、通信機
器等に用いられる高周波用配線基板およびそれに用いる
プリプレグに関するものである。
器等に用いられる高周波用配線基板およびそれに用いる
プリプレグに関するものである。
従来、電子機器、電気機器等に用すられる配線基板およ
びプリプレグはフェノール樹脂やエポキシ樹脂を紙、布
基材に含浸、乾燥したプリプレグおよびそれを用いた配
線基板であるがits、誘電正接が大きく高周波用には
問題がありな。この為ポリ芳香族シアネートと触媒とか
らなる樹脂ワニスを用りたプリプレグ、配線基板が試用
されたが難燃性が悪すという問題があった。
びプリプレグはフェノール樹脂やエポキシ樹脂を紙、布
基材に含浸、乾燥したプリプレグおよびそれを用いた配
線基板であるがits、誘電正接が大きく高周波用には
問題がありな。この為ポリ芳香族シアネートと触媒とか
らなる樹脂ワニスを用りたプリプレグ、配線基板が試用
されたが難燃性が悪すという問題があった。
従来の技術で述べたようにフェノール樹脂、エポキシ樹
脂を用すたプリプレグ、配線基板の高周波性は悪く、芳
香族シアネートと触媒とからなるものは難燃性が悪い。
脂を用すたプリプレグ、配線基板の高周波性は悪く、芳
香族シアネートと触媒とからなるものは難燃性が悪い。
本発明は従来の技術における上述の問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは難燃性、高周波性
に優れたブリプレグ、配線基板を提供することにある。
れたもので、その目的とするところは難燃性、高周波性
に優れたブリプレグ、配線基板を提供することにある。
本発明はポリ芳香族シアネート、含臭素ビスフェノール
A′!1−ボネートオリゴマー、含臭素ビスフェノール
A1ポリアミノビスマレイミド樹脂、触媒からなる樹脂
ワニスを基材に含浸、乾燥してなるプリプレグおよび該
プリプレグを所貴枚数重ね、必要に応じて該プリプレグ
間の所要位置に内層回路材を介在せしめてから、桑外層
に外層回路材を配設した積層体を積I−一体化してなる
ことを特徴とする配線基板のため、上記目的を達成する
ことができたもので、以下本発明の詳細な説明する。
A′!1−ボネートオリゴマー、含臭素ビスフェノール
A1ポリアミノビスマレイミド樹脂、触媒からなる樹脂
ワニスを基材に含浸、乾燥してなるプリプレグおよび該
プリプレグを所貴枚数重ね、必要に応じて該プリプレグ
間の所要位置に内層回路材を介在せしめてから、桑外層
に外層回路材を配設した積層体を積I−一体化してなる
ことを特徴とする配線基板のため、上記目的を達成する
ことができたもので、以下本発明の詳細な説明する。
本発明に用いるポリ芳香族シアネートとしては好ましく
は下記−数式〔1〕で示されるものであることが高周波
性向上のために望ましいことである。
は下記−数式〔1〕で示されるものであることが高周波
性向上のために望ましいことである。
式〔1〕
但し Ar は芳香族
BはCy〜20の多環式脂肪族置換基
りは各々独立に活性水素を含まない置換基q @ r
e Iは独立に0.、2.又は3の整数 Xは0〜5の数 含臭素ビスフェノールAカーボネートオリゴマーとして
は好ましくは下記−数式〔2〕で示されるものであるこ
とが難燃性向上のために望ましいことである。
e Iは独立に0.、2.又は3の整数 Xは0〜5の数 含臭素ビスフェノールAカーボネートオリゴマーとして
は好ましくは下記−数式〔2〕で示されるものであるこ
とが難燃性向上のために望ましいことである。
式〔2〕
Br
但し R,R’は 0 又はBr O(Rs)m
Br R1は活性水素を含まない置換基でm =o〜3の整数
例えばCHs 、 CzHs等n = 10〜20 含臭素ビスフェノールAとしては下記−数式〔3〕で示
されるものであることが難熱性向上のために望才しいこ
とである。
Br R1は活性水素を含まない置換基でm =o〜3の整数
例えばCHs 、 CzHs等n = 10〜20 含臭素ビスフェノールAとしては下記−数式〔3〕で示
されるものであることが難熱性向上のために望才しいこ
とである。
式〔3〕
但しくH==0.、又は2の整、数)
ポリアミノビスマレイミド樹脂としては下記ジアミン等
と、 下記ビスイミド等と をモル比でジアミン1に対しビスイミド2前後で配合、
合成された過剰に存在する二重結合の付加反応で硬化す
るポリアミノビスマレイミド樹脂であることが望ましb
o 上記ポリ芳香族シアネート、含臭素ビスフェノールAカ
ーボネートオリゴマー、含臭素ビスフェノールA、ポリ
アミノビスマレイミド樹脂の北本はポリ芳香族シアネー
ト30〜75重量部(以下単に部ト記ス)、含臭素ビス
フェノールAカーボネート、t IJ :l’マーto
−30部、含臭素ビスフェノールA′2〜20部、ポリ
アミノビスマレイミド樹脂10〜30部が好ましb0触
媒としてはナフテン酸コバルトオクチル酸コバルト等の
有機金属塩類、イミダゾール類、第3級アミン等を用い
ることができる。基材としてはガラス、アスベスト等の
無機繊維やポリエステル、ポリアクリル、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリル、ポリアラミド等の有機合成繊
維や木綿等の天然繊維からなる織布、不織布マット或は
紙又はこれらの組合せ基材である。
と、 下記ビスイミド等と をモル比でジアミン1に対しビスイミド2前後で配合、
合成された過剰に存在する二重結合の付加反応で硬化す
るポリアミノビスマレイミド樹脂であることが望ましb
o 上記ポリ芳香族シアネート、含臭素ビスフェノールAカ
ーボネートオリゴマー、含臭素ビスフェノールA、ポリ
アミノビスマレイミド樹脂の北本はポリ芳香族シアネー
ト30〜75重量部(以下単に部ト記ス)、含臭素ビス
フェノールAカーボネート、t IJ :l’マーto
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アミノビスマレイミド樹脂10〜30部が好ましb0触
媒としてはナフテン酸コバルトオクチル酸コバルト等の
有機金属塩類、イミダゾール類、第3級アミン等を用い
ることができる。基材としてはガラス、アスベスト等の
無機繊維やポリエステル、ポリアクリル、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリル、ポリアラミド等の有機合成繊
維や木綿等の天然繊維からなる織布、不織布マット或は
紙又はこれらの組合せ基材である。
必要に応じて用いる内層材としては両面又は片面金属張
積層板の金属面に電気回路を形成したもので必要に応じ
プリプレグ間に所要枚数−入し多層配線基板とするもの
である。外層回路材としては片面金属張積層板や銅、ア
ルミニウム、ニッケル、亜鉛等の単独、合金、複合から
なる金属箔が用りられるが好ましくは厚さ18〜105
ミクロンの両面粗化銅箔、更に好ましくは、アルミキャ
リア付銅箔であることが望まし−ことである。上記樹脂
ワニスを基材に含浸、乾燥してなるプリプレグを所要枚
数重ね、必要に応じて該プリプレグ間の所要位置に内層
回路材を介在せしめてから、最外層に外層回路材を配設
した積層体を多段プレス法、ダブルベルト法、マルチロ
ール法、ドラム法等で170〜230℃で積層一体化す
るが必要に応じて積層一体化後、更に60〜120分間
アフターキューすることもできる。なお樹脂ワニスには
必要に応じてメチル二チルケトン、ジメ千ルホルム了ミ
ド等を粘度調整として用いることができる。
積層板の金属面に電気回路を形成したもので必要に応じ
プリプレグ間に所要枚数−入し多層配線基板とするもの
である。外層回路材としては片面金属張積層板や銅、ア
ルミニウム、ニッケル、亜鉛等の単独、合金、複合から
なる金属箔が用りられるが好ましくは厚さ18〜105
ミクロンの両面粗化銅箔、更に好ましくは、アルミキャ
リア付銅箔であることが望まし−ことである。上記樹脂
ワニスを基材に含浸、乾燥してなるプリプレグを所要枚
数重ね、必要に応じて該プリプレグ間の所要位置に内層
回路材を介在せしめてから、最外層に外層回路材を配設
した積層体を多段プレス法、ダブルベルト法、マルチロ
ール法、ドラム法等で170〜230℃で積層一体化す
るが必要に応じて積層一体化後、更に60〜120分間
アフターキューすることもできる。なお樹脂ワニスには
必要に応じてメチル二チルケトン、ジメ千ルホルム了ミ
ド等を粘度調整として用いることができる。
以下本発明を実施例にもとづいて説明する。
実施例
ポリ芳香族シアネート(ダウケミカル社製)70部に対
シ、フエノキシターミネーデッドテトラブロムビスフェ
ノールAカーボネートオクゴマー(グレートレーク社製
)25部、テトラブロムビスフェノールA5部、ポリア
ミノビスマレイミド樹脂5部、ナフテン酸コバルト1部
、メチルエチルケトン35部からなる樹脂ワニスに厚さ
Q、l&flのガラス布を乾燥後樹脂量が50重量4(
以下単に憾と記す)になるように含浸、乾燥してプリプ
レグを得た。°次に該プリプレグ8枚を重ねた上下面に
厚さ9ミクロンのアルミキャリア付銅箔を夫々配設した
積層体を成形圧力50にq/d、 170℃で90分間
加熱加圧成形後、更に220℃で60分間無圧下アフタ
ーキュアーして厚さ、6Mの配線基板を得た。
シ、フエノキシターミネーデッドテトラブロムビスフェ
ノールAカーボネートオクゴマー(グレートレーク社製
)25部、テトラブロムビスフェノールA5部、ポリア
ミノビスマレイミド樹脂5部、ナフテン酸コバルト1部
、メチルエチルケトン35部からなる樹脂ワニスに厚さ
Q、l&flのガラス布を乾燥後樹脂量が50重量4(
以下単に憾と記す)になるように含浸、乾燥してプリプ
レグを得た。°次に該プリプレグ8枚を重ねた上下面に
厚さ9ミクロンのアルミキャリア付銅箔を夫々配設した
積層体を成形圧力50にq/d、 170℃で90分間
加熱加圧成形後、更に220℃で60分間無圧下アフタ
ーキュアーして厚さ、6Mの配線基板を得た。
比較例1
厚さ161EIIの紙基材フェノール樹脂両面銅張積層
板を比較例1とした。
板を比較例1とした。
比較例2
厚さ、6鰭のガラス基材エポキシ樹脂両面鋼張積層板を
比較例2とした。
比較例2とした。
実施例及び比較例1と2の配線基板の性能は第1表のよ
うである。
うである。
本発明は上述した如く構成されてbる。特許請求の範囲
に記載した構成を有するプリプレグおよびそれを用いた
配線基板においては難燃性、同周波性が向上する効果が
ある。
に記載した構成を有するプリプレグおよびそれを用いた
配線基板においては難燃性、同周波性が向上する効果が
ある。
Claims (3)
- (1)ポリ芳香族シアネート、含臭素ビスフェノールA
カーボネートオリゴマー、含臭素ビスフェノールA、ポ
リアミノビスマレイミド樹脂、触媒からなる樹脂ワニス
を基材に含浸、乾燥してなることを特徴とするプリプレ
グ。 - (2)ポリ芳香族シアネート、含臭素ビスフェノールA
カーボネートオリゴマー、含臭素ビスフェノールA、ポ
リアミノビスマレイミド樹脂、触媒からなる樹脂ワニス
を基材に含浸、乾燥してなるプリプレグを所要枚数重ね
、必要に応じて該プリプレグ間の所要位置に内層回路材
を介在せしめてから、最外層に外層回路材を配設した積
層体を積層一体化してなることを特徴とする配線基板。 - (3)外層回路材が金属箔であることを特徴とする特許
請求の範囲第2項記載の配線基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1036679A JPH02214740A (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | プリプレグおよびそれを用いた配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1036679A JPH02214740A (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | プリプレグおよびそれを用いた配線基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02214740A true JPH02214740A (ja) | 1990-08-27 |
Family
ID=12476541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1036679A Pending JPH02214740A (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | プリプレグおよびそれを用いた配線基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02214740A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007110660A1 (en) * | 2006-03-25 | 2007-10-04 | Building Research Establishment Ltd | Process for making composite products |
JP2008075012A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 樹脂組成物、プリプレグおよび金属箔張積層板 |
-
1989
- 1989-02-15 JP JP1036679A patent/JPH02214740A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007110660A1 (en) * | 2006-03-25 | 2007-10-04 | Building Research Establishment Ltd | Process for making composite products |
GB2449833A (en) * | 2006-03-25 | 2008-12-03 | Building Res Establishment Ltd | Process for making composite products |
GB2449833B (en) * | 2006-03-25 | 2010-11-24 | Building Res Establishment Ltd | Process for making composite products |
JP2008075012A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-04-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 樹脂組成物、プリプレグおよび金属箔張積層板 |
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