JPH02210629A - Optical disk and production thereof - Google Patents

Optical disk and production thereof

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JPH02210629A
JPH02210629A JP1032338A JP3233889A JPH02210629A JP H02210629 A JPH02210629 A JP H02210629A JP 1032338 A JP1032338 A JP 1032338A JP 3233889 A JP3233889 A JP 3233889A JP H02210629 A JPH02210629 A JP H02210629A
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JP
Japan
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film
optical disk
phase change
crystal film
rom
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Application number
JP1032338A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuyuki Goto
康之 後藤
Kenichi Uchiumi
研一 内海
Iwao Tsugawa
津川 岩雄
Masahiro Nakada
正弘 中田
Akira Ishida
明 石田
Nagaaki Etsuno
越野 長明
Seiichi Iwasa
誠一 岩佐
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To form a reproduced disk plate in a short period of time and to reduce the cost thereof by converting the phase change film of a rewriting type phase change optical disk exclusive of either of the film part corresponding to the record 1 or 0 of the above-mentioned film to a ROM type optical disk, thereby forming the ROM type phase change optical disk. CONSTITUTION:A crystal film (II) 72 of an InSb layer change film is formed as a recording film on a quartz substrate 31 of the ROM type optical disk. The crystal film (I) 71 corresponding to the record 0 of the InSb layer change film is removed from this crystal film 72 and the crystal film (II) 72 correspond ing to the record 1 is made to remain. The phase change optical disk provided with the phase change film is irradiated with laser light, by which the crystal film (I) 71 state is reversibly changed to the crystal film (II) 72 state and the crystal film (II) 72 is converted to a simple cubic crystal. The crystal film (II) 72 is obtd. by rapid heating and rapid cooling. The original substrate is used as the ROM type optical disk and the master disk is produced form the sufficiently debugged original substrate and, therefore, errors are eliminated. The manhours for the processing are decreased by integral transfer and the cost of the optical disk is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 再生専用(ROM)の光ディスクとその製造方法に関し
、 複製光ディスクを安価に、且つ、受注後に素早く作製す
ることを目的とし、 書き換え型相変化光ディスクにおける相変化膜の記録“
l”または0°に相当するいずれか一方の膜部分を取り
除いて、ROM型光ディスクに変換した光ディスクを構
成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] This invention relates to a read-only (ROM) optical disk and its manufacturing method, with the aim of manufacturing a duplicate optical disk at low cost and quickly after receiving an order. Membrane record “
An optical disc converted to a ROM type optical disc is constructed by removing either one of the film portions corresponding to l'' or 0°.

且つ、その変換したROM型光ディスクを元基板として
、該元基板に密着露光してホトレジスト膜からなるピッ
トパターンを形成した原盤を作製し、該原盤によってR
OM型の複製光ディスク板を形成するようにした光ディ
スクの製造方法を特徴とする。
In addition, using the converted ROM type optical disk as a source substrate, a master disk is prepared by closely exposing the source substrate to form a pit pattern made of a photoresist film, and using the master disk, an R.
The present invention is characterized by a method for manufacturing an optical disc, in which an OM type duplicate optical disc plate is formed.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は光ディスクおよびその製造方法のうち、特に再
生専用(ROM)の光ディスクとその製造方法に関する
The present invention relates to an optical disc and a method of manufacturing the same, and particularly to a read-only (ROM) optical disc and a method of manufacturing the same.

光ディスクは他の記録媒体に比べて記録容量が大きく、
非接触で記録再生ができて長寿命である等の数々の利点
があって、急速に多品種の製品が開発され量産化されて
いるが、このような光ディスクにおいては大幅なコス゛
トダウンが要求されている。
Optical discs have a larger recording capacity than other recording media.
Optical disks have many advantages such as non-contact recording and playback and long life, and a wide variety of products are rapidly being developed and mass-produced, but such optical disks require significant cost reduction. There is.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

光ディスクには再生専用(ROM)型の他、追記型、書
き換え型などがあるが、いずれも円盤に゛多数のトラッ
クが設けられて、その1本のトラックにピットが無数に
書き込まれて、それを読み出す構成である。第4図はそ
の光ディスクのうちのCD(コンパクトディスク)−R
OMの部分断面図を図示しており、例えば直径130m
m、厚さ1.2ra11のポリカーボネート基板1に1
.6μmのピッチPで螺旋状に無数のピット2(このピ
ットが記録“loまたは“0″に相当する)が形成され
、そのピットの有無が“l“または“0゛の記録に相当
して、このピットを基板裏面から対物レンズ5を通して
光学ヘッド6で読み取るもので、また、ピットの上面に
はアルミニウム(AI)反射膜3が蒸着してあり、その
上に保護膜4が被覆しである。
Optical discs include read-only (ROM) types, write-once types, and rewritable types, but all of them have a large number of tracks on the disc, and countless pits are written on each track. It is configured to read out. Figure 4 shows CD (compact disc)-R among the optical discs.
A partial cross-sectional view of the OM is shown, for example, a diameter of 130 m.
m, thickness 1.2ra11 polycarbonate substrate 1 to 1
.. Numerous pits 2 (this pit corresponds to a record "lo" or "0") are formed spirally at a pitch P of 6 μm, and the presence or absence of the pit corresponds to a record of "1" or "0". The pits are read by an optical head 6 through an objective lens 5 from the back surface of the substrate, and an aluminum (AI) reflective film 3 is deposited on the top surface of the pit, and a protective film 4 is coated on top of the aluminum (AI) reflective film 3.

なお、第4図はCD−ROMの部分断面の模型的な図で
あるが、本発明は以下にいずれも同様の模型的な断面図
によって説明する。
Although FIG. 4 is a schematic partial cross-sectional view of a CD-ROM, the present invention will be explained below using similar schematic cross-sectional views.

第5図(a) 〜(f)は従来のCD−ROMの製造方
法の工程順断面図を示している。順次に説明すると、第
5図(a)参照;ガラス基板11上にホトレジスト膜1
2(膜厚1000人)を塗布し、その上からレーザ光を
照射して露光する。このとき、レーザ光の光路に光路変
更素子や光量変調器などの光変調器を配置し、外部信号
によってその光変調器を制御して露光を0N10FFす
ると部分的に露光することができる。
FIGS. 5(a) to 5(f) show step-by-step cross-sectional views of a conventional CD-ROM manufacturing method. Referring to FIG. 5(a), a photoresist film 1 is formed on a glass substrate 11.
2 (thickness: 1000), and exposed by irradiating laser light from above. At this time, an optical modulator such as an optical path changing element or a light amount modulator is placed in the optical path of the laser beam, and the optical modulator is controlled by an external signal to perform exposure 0N10FF, thereby allowing partial exposure.

第5図(b)参照;次いで、これを湿式現像法で現像し
てホトレジスト膜12にピットを形成する。即ち、ホト
レジスト膜】2がポジ型の場合には露光部分が現像して
除去されるからピットが形成される。これが記録ピット
を内蔵した原盤になる。
Refer to FIG. 5(b); next, this is developed by a wet development method to form pits in the photoresist film 12. That is, if the photoresist film 2 is of positive type, pits are formed because the exposed portions are developed and removed. This becomes the master disc with a built-in recording pit.

第5図(C)参照;次いで、その上にメツキ法によって
厚さffIII+単位のニッケルメッキ膜13を形成す
る。
Refer to FIG. 5C; next, a nickel plating film 13 having a thickness of ffIII+ is formed thereon by a plating method.

第5図(d)参照;次いで、ガラス基板11およびホト
レジスト膜12を除去すると、記録ピン、トを設けたニ
ッケルメッキ膜13のみ取り出すことができる。
See FIG. 5(d); then, by removing the glass substrate 11 and the photoresist film 12, only the nickel plating film 13 provided with the recording pins can be taken out.

これが光ディスクの金型(スタンパ)である。This is the mold (stamper) for the optical disc.

第5図(e)参照;次いで、このニッルメッキ膜13か
らなる金型をモールド型14に取り付け、インジェクシ
ョンモールド法によってポリカーボネート基板1を射出
成型する。
Refer to FIG. 5(e); Next, a mold made of this nickel plating film 13 is attached to a mold 14, and a polycarbonate substrate 1 is injection molded by an injection molding method.

第5図(f)参照:そうすると、ピットを転写したポリ
カーボネート基板■が形成されて、これが複製光ディス
ク板である。
Refer to FIG. 5(f): Then, a polycarbonate substrate (2) with the pits transferred thereto is formed, which is a duplicate optical disk plate.

第5図(6)参照;次に、上記したように、ポリカーボ
ネート基板1にアルミニウム反射膜3を蒸着し、更に保
護膜4を被覆してCD−ROMが完成される。
Refer to FIG. 5(6); Next, as described above, the aluminum reflective film 3 is deposited on the polycarbonate substrate 1, and the protective film 4 is further coated to complete the CD-ROM.

他方、最近、鋭意検討されて・いる書き換え型光ディス
クに相変化光ディスクがあり、それを第6図(a)〜(
C)に示している。第6図(a)は相変化光ディスクの
斜視断面図、第6図(b)は同図(a)の0部分の拡大
図、第6図(C)は同図(b)のAA断面で、図中の記
号lはポリカーボネート基板、7はInSb (インジ
ウムアンチモン)相変化膜、71はそのうちの結晶膜1
.72は結晶膜■(記録膜)の部分である。
On the other hand, phase change optical discs are among the rewritable optical discs that have been intensively studied recently, and they are shown in Figs.
It is shown in C). FIG. 6(a) is a perspective cross-sectional view of a phase change optical disk, FIG. 6(b) is an enlarged view of the 0 part in FIG. 6(a), and FIG. , symbol l in the figure is a polycarbonate substrate, 7 is an InSb (indium antimony) phase change film, and 71 is a crystal film 1 of them.
.. 72 is a portion of the crystal film (recording film).

この例の相変化方式の光ディスクはInSb相変化膜7
を被着し、レーザ光の照射によって結晶膜I状態←→結
晶膜■状態に可逆的に変化させる書き換え型光ディスク
で、この結晶膜ia″態、結晶膜■状態が記録°1”ま
たは“0”にいずれかに相当するピットになる。このよ
うな相変化光ディスクは他に相変化膜として5bTeS
e、 In5eTe、 Ge5eTeなどの材料があり
、同様にレーザ光の照射によって非晶質状態(アモルフ
ァス状態)←→結晶状態などに可逆的に変化させるもの
である。
In this example, the phase change type optical disk has an InSb phase change film 7.
This is a rewritable optical disc in which crystal film I state ← → crystal film ■ state is reversibly changed by laser beam irradiation. ” will be a pit corresponding to either of these. Such a phase change optical disk also uses 5bTeS as a phase change film.
There are materials such as e, In5eTe, and Ge5eTe, which can be reversibly changed from an amorphous state to a crystalline state by irradiation with laser light.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで、このような光ディスクは多量のピット、例え
ば約500MBの記憶量のピットを内蔵しており、前記
した複写作製するCD−ROM型光ディスクにおいては
、第5図(5)で説明した原盤を磁気テープなどを用い
てデパックをおこなうため、多くの処理工数か必要にな
ってコストアップする欠点がある。且つ、完全にデパッ
クがおこなわれず、未だ不良箇所が残っていることも起
って、そのときに既に金型が作成されている場合に大き
な損失が生じて更に高価になり、時には金型が数百万円
の原価になる場合もあり、その場合には複製光ディスク
板の原価にその費用が加算されることになるから一層コ
ストアツブする。
By the way, such optical disks contain a large number of pits, for example, pits with a storage capacity of about 500 MB, and in the CD-ROM type optical disk for copying described above, the master disk described in FIG. 5 (5) is magnetically Since depacking is performed using tape or the like, there is a drawback that a large number of processing steps are required, which increases costs. In addition, it may happen that the depacking is not done completely and some defective parts still remain, and if the mold has already been made at that time, there will be a big loss and it will become even more expensive, and sometimes several molds will be required. The cost may be as high as 1 million yen, and in that case, the cost will be added to the cost of the duplicate optical disk, further increasing the cost.

本発明はそのような複製光ディスク板を安価に、且つ、
受注後に素早く作製して作製期間を短縮することを目的
とした光ディスクとその製造方法を提案するものである
The present invention makes such a duplicate optical disc plate inexpensive and
This paper proposes an optical disc and its manufacturing method that aims to shorten the manufacturing period by quickly manufacturing the disc after receiving an order.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

その課題は、書き換え型相変化光ディスクにおける相変
化膜の記録°1′または‘0’に相当するいずれか一方
の膜部分を取り除いて、ROM型光ディスクに変換した
ROM型相変化光ディスクを作製し、 その変換したROM型光ディスクを元基板とし、咳元基
板に密着露光してホトレジスト膜からなるピットパター
ンを形成した原盤を作製し、該原盤によってROM型の
複製光ディスク板を形成するようにした光ディスクの製
造方法によって解決される。
The task was to remove either one of the phase change film portions corresponding to recording degrees 1' or '0' in a rewritable phase change optical disc to create a ROM type phase change optical disc that was converted into a ROM type optical disc. Using the converted ROM type optical disk as a source substrate, a master disk is prepared by closely exposing the source substrate to form a pit pattern made of a photoresist film, and a ROM type duplicate optical disk plate is formed from the master disk. The problem is solved by the manufacturing method.

〔作 用〕[For production]

即ち、本発明は、従来の書き換え型組変化光ディスクi
ROM型光ディスクに変換し、これを元基板にして一括
転写露光によって原盤を作製する。
That is, the present invention can be applied to the conventional rewritable optical disc i.
The disc is converted into a ROM type optical disc, and using this as a base substrate, a master disc is produced by batch transfer exposure.

その原盤から多量の複製光ディスク板を作製するもので
、そうすれば、上記の元基板はROM型光ディスクとし
て使用でき、且つ、複製光ディスク板の原盤を別個に工
数をかけて作製する必要がなく、既に十分にデパックさ
れた元基板から原盤を作製するためにエラーがなく、し
かも、−括転写露光であるから処理工数が顕著に減少し
、複製する光ディスクを大幅にコストダウンさせること
ができる。
A large number of duplicate optical disk plates are manufactured from the original disk, and in this way, the original substrate can be used as a ROM-type optical disk, and there is no need to separately manufacture the master disk of the duplicate optical disk disk, There is no error since the master disc is produced from the original substrate which has already been sufficiently depacked, and furthermore, the number of processing steps is significantly reduced because of the -batch transfer exposure, and the cost of the optical disc to be duplicated can be significantly reduced.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下に図面を参照して実施例によって詳細に説明する。 Examples will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図(a)〜(C)は本発明にかかるROM型光ディ
スクを示す図で、第6図と同じく第1図(a)は斜視断
面図、第1図(b)は同図(a)の0部分の拡大図、第
1図(C)は同図(b)のBB断面を示している。図中
の記号31は石英基板(平面度の良い石英基板)、72
はInSb相変化膜の結晶膜■(記録膜)である。本図
は第6図に示す相変化光ディスクにおけるInSb相変
化膜7のうちの記録゛0°に相当する結晶膜Iを除去し
て、記録“1゛に相当する結晶膜■部分(記録膜部分)
を残存させたROM型光ディスクの構成である。
FIGS. 1(a) to (C) are diagrams showing a ROM type optical disk according to the present invention, in which FIG. 1(a) is a perspective sectional view like FIG. 6, and FIG. 1(b) is a ) is an enlarged view of the 0 portion of FIG. 1(C), which shows the BB cross section of FIG. 1(b). Symbol 31 in the figure is a quartz substrate (quartz substrate with good flatness), 72
is a crystal film (recording film) of an InSb phase change film. This figure shows a portion of the InSb phase change film 7 of the phase change optical disc shown in FIG. )
This is the configuration of a ROM-type optical disc that retains the following information.

ところで、このInSb相変化膜7を設けた相変化光デ
ィスクにおいては、レーザ光の照射によって結晶膜1状
態←→結晶膜■状態に可逆的に変化させることができ、
結晶膜Iは硫化亜鉛型結晶、結晶膜■は単純立方晶の準
安定膜で、この結晶膜■は急熱急冷することによって結
晶膜■状態が得られ、一方の結晶膜Iは徐冷すると形成
できる。且つ、この結晶膜Iがプラズマガスによってエ
ツチングされ易くて、結晶膜Iと結晶膜■とはエツチン
グレートが相違する性質をもっている。
By the way, in the phase change optical disk provided with this InSb phase change film 7, it is possible to reversibly change the crystal film 1 state←→crystal film ■ state by irradiation with laser light.
The crystal film I is a zinc sulfide type crystal, and the crystal film ■ is a metastable film of a simple cubic crystal.This crystal film ■ can be rapidly heated and cooled to obtain the crystal film ■ state, and when the crystal film I is slowly cooled, the crystal film ■ state can be obtained. Can be formed. In addition, the crystal film I is easily etched by plasma gas, and the crystal film I and the crystal film II have a property that their etching rates are different.

本発明はこのエツチングレートの相違を利用して、第6
図に示す書き換え型光ディスクをROM型光ディスクに
変換するもので、第2図に形成途中工程断面図を示して
いる。作製概要を説明すると、第6図に示す書き換え型
相変化光ディスクをスパッタ装置に装入して、この相変
化光ディスクと電極とを対向させて高真空に排気した後
、アルゴンガスを導入して装置内をO,1Torr〜数
Torrの減圧度として電極と光ディスクとの間に高電
圧を印加する。そうすると、アルゴンガスがプラズマ化
されて、InSb相変化膜7に衝突する。そうすると、
結晶膜■の部分がエツチングされ易いために除去されて
、結晶膜■の部分(記録膜部分)のみ残存し、このよう
にして第1図に示すROM型光ディスクが作製できる。
The present invention utilizes this difference in etching rate to
The rewritable optical disk shown in the figure is converted into a ROM type optical disk, and FIG. 2 shows a cross-sectional view of the process during formation. To explain the fabrication outline, the rewritable phase change optical disk shown in Fig. 6 is loaded into a sputtering device, the phase change optical disk and the electrodes are placed facing each other, the device is evacuated to a high vacuum, and then argon gas is introduced into the device. A high voltage is applied between the electrode and the optical disk with a reduced pressure of 1 Torr to several Torr. Then, the argon gas is turned into plasma and collides with the InSb phase change film 7. Then,
Since the crystal film (2) is easily etched, it is removed, leaving only the crystal film (2) (recording film part), and in this way the ROM type optical disk shown in FIG. 1 can be manufactured.

このROM型光ディスクはそのまま使用することができ
るが、また、これを元基板にして複製光ディスク板の原
盤を作製することができる。
This ROM type optical disk can be used as is, but it can also be used as a base substrate to produce a master for a duplicate optical disk.

次に、第3図(a)〜(d)は本°発明にかかるCD−
ROMの製造方法の工程順断面図を示しており、順を追
って説明する。
Next, FIGS. 3(a) to 3(d) show the CD-ROM according to the present invention.
It shows a step-by-step cross-sectional view of a ROM manufacturing method, and will be explained step by step.

第3図(a)参照;ポジ型のホトレジスト膜22(膜厚
1000人)を塗布したガラス基板21を配置し、その
上に第1図に示すROM型光ディスクからなる元基板を
裏返しにして、記録膜(結晶膜■)72部分をホトレジ
スト膜22に密着させ、石英基板31の裏面から一括露
光する。この露光には微細露光に適した遠紫外線やX線
を用いた露光法が望ましく、そうすると、残存した記録
膜部分72に密着したホトレジスト膜22部分が未露光
になり、他の部分が露光される。
Refer to FIG. 3(a); a glass substrate 21 coated with a positive photoresist film 22 (thickness: 1,000 yen) is placed, and the original substrate consisting of the ROM type optical disk shown in FIG. 1 is turned over on top of the glass substrate 21. The recording film (crystal film 3) 72 portion is brought into close contact with the photoresist film 22, and the quartz substrate 31 is exposed all at once from the back surface. For this exposure, it is desirable to use an exposure method that uses far ultraviolet rays or X-rays, which is suitable for fine exposure.In this case, the portion of the photoresist film 22 that is in close contact with the remaining recording film portion 72 will be left unexposed, and the other portions will be exposed. .

第3図[有])参照;次いで、これを現像するとポジ型
のホトレジスト膜22は露光部が除去され、未露光部が
残存して、ホトレジスト膜22からなるピ・ントパター
ンを形成した原盤が作製できる。
(See FIG. 3); Next, when this is developed, the exposed portion of the positive photoresist film 22 is removed, and the unexposed portion remains, and the master disk on which the focus pattern made of the photoresist film 22 is formed is formed. It can be made.

第3図(C)参照;次いで、その上にメツキ法によって
厚さlll11単位のニッルメッキ膜23を被着する。
Refer to FIG. 3(C); next, a nickel plating film 23 having a thickness of lll11 units is deposited thereon by a plating method.

第3図(d)参照;次いで、ガラス基板21およびホト
レジスト膜22を取り除いて、記録ビットを設けたニッ
ケルメッキ膜23のみを取り出す。これが光ディスクの
金型である。
Refer to FIG. 3(d); next, the glass substrate 21 and the photoresist film 22 are removed, and only the nickel plating film 23 provided with the recording bits is taken out. This is the mold for the optical disc.

以降は図示していないが、上記した従来法の第5図(e
)〜(g)の形成工程と同様に、ニッルメッキ膜23か
らなる金型をモールド型に取り付け、インジェクション
モールド法によってポリカーボネート基板1を成型して
、これが複製光ディスク板であり、その複製光ディスク
板にアルミニウム反射膜。
Although not shown hereafter, the conventional method described above is shown in Fig. 5 (e).
) to (g), a mold made of nickel plating film 23 is attached to the mold, and a polycarbonate substrate 1 is molded by the injection molding method, and this is a duplicate optical disk plate. reflective film.

保護膜を被着してCD−ROMに仕−ヒげる。A protective film is applied and a CD-ROM is prepared.

このようにしてCD−ROMを作製すれば、十分にデパ
ックされた元基板から原盤を作製するためにエラーがな
く、しかも、−括転写露光法で原盤を作製するために処
理工数が極めて少なくなる。
If a CD-ROM is manufactured in this way, there will be no error since the master disc is manufactured from a sufficiently depacked original substrate, and the number of processing steps will be extremely reduced since the master disc is manufactured using the -batch transfer exposure method. .

この例はCD−ROMを複製する製造方法であるが、本
製法は他のROM型光ディスクの複製にも適用すること
ができる。また、基板としては石英基板の他にボリカー
ボネー1−.PMMAなどの透明板が用いられるが、そ
れらの基板にも適用できる。
Although this example is a manufacturing method for duplicating a CD-ROM, this manufacturing method can also be applied to duplicating other ROM type optical discs. In addition to the quartz substrate, polycarbonate 1-. Although a transparent plate such as PMMA is used, it can also be applied to those substrates.

更に、上記の実施例は相変化膜7上に保護膜を被覆しな
い例で説明したが、選択的に除去できる保護膜を被覆し
ても問題はない。
Further, although the above embodiment has been described as an example in which the phase change film 7 is not coated with a protective film, there is no problem even if a selectively removable protective film is coated.

〔発明の効果] 以上の説明から明らかなように、本発明によれば従来は
不可能であった書き換え型相変化光ディスクをROM型
光ディスクに変換でき、更に、これを元基板として一括
転写露光によってCD−ROMなどのROM型光ディス
クを多量に複写できて、原盤を別個に工数をかけて作製
する必要がなく、既に十分にデパックされた元基板から
原盤を作製するためにエラーがなく、しかも、−括転写
露光であるから処理工数が大幅に減少しt光ディスクを
大幅にコストダウンできる効果が得られる。
[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention, it is possible to convert a rewritable phase change optical disc into a ROM type optical disc, which was previously impossible, and furthermore, it is possible to convert a rewritable phase change optical disc into a ROM type optical disc, which was previously impossible. It is possible to make a large number of copies of ROM-type optical discs such as CD-ROMs, there is no need to spend many man-hours to create master discs separately, there is no error because master discs are created from the original board that has already been sufficiently depacked, and, - Because it is a batch transfer exposure, the number of processing steps is greatly reduced, and the cost of optical disks can be significantly reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明にかかるROM型光ディスクを示す図、 第2図は本発明にかかるROM型光ディスクの工程途中
断面図、 第3図は本発明にかかるCD−ROMの製造方法の工程
順断面図、 第4図はCD−ROMの部分断面図、 第5図は従来のCD−ROMの製造方法の工程順断面図
6 第6図は従来の相変化光ディスクを示す図である。 図において、 1は石英ポリカーボネート基板、 2はビット、      3はアルミニウム反射膜、4
は保護膜、      5は対物レンズ、6は光学ヘッ
ド、    7はTnSb相変化膜、11、21はガラ
ス基板、 12.22はホトレジスト膜、13、23は
ニッケルメッキ膜、 31は石英基板、 71は結晶膜I、    72は結晶膜■を示している
。 W F。 シト発日耳1−か7P3ROM鳥r芝デ)77を束すn
り第1図 CD−ROM rl 忰ケu CIn 図第4図 8th CD−BOMiqMit;七rンi rl r
g・y* #frr m第5図(ン/10 Uし板/1cD−ROMの公達jじ1工粁ν1帳所面聞
第5m
FIG. 1 is a diagram showing a ROM-type optical disk according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of the ROM-type optical disk according to the present invention in the middle of a process, and FIG. FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a CD-ROM, and FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional CD-ROM manufacturing method in the order of steps. FIG. 6 is a diagram showing a conventional phase change optical disk. In the figure, 1 is a quartz polycarbonate substrate, 2 is a bit, 3 is an aluminum reflective film, 4
is a protective film, 5 is an objective lens, 6 is an optical head, 7 is a TnSb phase change film, 11 and 21 are glass substrates, 12.22 is a photoresist film, 13 and 23 are nickel plated films, 31 is a quartz substrate, 71 is a Crystal film I, 72 indicates crystal film ■. W.F. Shito day ear 1- or 7P3ROM bird r grass de) 77 bundle n
Figure 1 CD-ROM rl 忰KE u CIn Figure 4 Figure 8th CD-BOMiqMit;
g・y* #frr mFig.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)書き換え型相変化光ディスクにおける相変化膜の
記録‘1’または‘0’に相当するいずれか一方の膜部
分を取り除いて、ROM型光ディスクに変換したことを
特徴とする光ディスク。
(1) An optical disc characterized in that a rewritable phase change optical disc is converted into a ROM type optical disc by removing the film portion of one of the phase change films corresponding to recording '1' or '0'.
(2)書き換え型相変化光ディスクにおける相変化膜の
記録‘1’または‘0’に相当する一方の膜部分を取り
除いて変換したROM型光ディスクを元基板とし、該元
基板に密着露光してホトレジスト膜からなるピットパタ
ーンを形成した原盤を作製し、該原盤によつてROM型
の複製光ディスク板を形成するようにしたことを特徴と
する光ディスクの製造方法。
(2) Using a ROM-type optical disk converted by removing one film portion corresponding to recording '1' or '0' of the phase change film in a rewritable phase change optical disk as a source substrate, the source substrate is closely exposed to photoresist. 1. A method for manufacturing an optical disc, comprising: producing a master disc on which a pit pattern made of a film is formed; and using the master disc to form a ROM type duplicate optical disc plate.
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