JPH022104A - Mask holder - Google Patents

Mask holder

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JPH022104A
JPH022104A JP63147090A JP14709088A JPH022104A JP H022104 A JPH022104 A JP H022104A JP 63147090 A JP63147090 A JP 63147090A JP 14709088 A JP14709088 A JP 14709088A JP H022104 A JPH022104 A JP H022104A
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JP
Japan
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mask
chuck
signal
holding
permanent magnet
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JP63147090A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takuo Kariya
刈谷 卓夫
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH022104A publication Critical patent/JPH022104A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Abstract

PURPOSE:To prevent damages to masks due to the collision of a mask with a mask chuck by a method wherein a means for detecting the positions of a mask and a mask holder carried is provided, and an attraction force is exerted or not according to the result of the detection by the means and a carry means is controlled. CONSTITUTION:After a mask 8 is grasped by a hand 11 at a lower position, the motor 13 of an up-and-down movement apparatus 14 is driven and the mask 8 is moved toward the bottom surface of a mask chuck 9. At this juncture, a current for demagnetization flows through a coil 3 and the attraction force of a permanent is 0 or substantially negligible seemingly. While the mask 8 is rising, a light sensor detects the position of the mask. When the mask contacts the chuck, a circuit 19 generates a contact signal. The demagnetization current is cut out by this signal and a mask frame is attracted by the permanent magnet. The mask is held by the permanent magnet in this manner after the fact that the mask and the mask chuck are very close to each other or in contact with each other is confirmed. Therefore, strong impacts due to collision are not given to the mask at chucking.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体露光装置でマスクをマスク保持手段に保
持する時衝突等によってマスクに破損を与えない様に、
安全に保持できるようにしたマスク保持手段に関するも
のである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention provides a method for preventing damage to the mask due to collisions, etc. when holding the mask in a mask holding means in a semiconductor exposure apparatus.
This invention relates to a mask holding means that allows the mask to be held safely.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

半導体露光装置で、ウェハ上にパターンを形成する時に
は、マスクは露光投影上の決められた位置に位置決めさ
れる。
When a semiconductor exposure apparatus forms a pattern on a wafer, a mask is positioned at a predetermined position on the exposure projection.

マスクは、マスクカセット内もしくはマスクホルダー等
に装着され、これらが複数枚、例えばマスクキャリアボ
ックス内に収納されている。マスクを露光投影上の位置
に位置決めする場合の搬送は、マスクキャリアボックス
内に収められた所望のマスクカセット或はマスクホルダ
ーがマスク取出位置まで移動する。そして搬送部となる
マスクハンド等がマスク取出し位置にあるマスクカセッ
ト内或はマスクホルダーのマスクを、機械的に保持して
露光投影上に搬送される。そして、搬送されたマスクは
、マスクホルダーに受は渡され、吸着保持されるが、従
来この様な装置に於いては、マスクのマスクホルダーへ
の受は渡し時に以下の様な問題があった。従来の装置に
は、マスクホルダーとマスクとの接触を検知する手段が
なく、マスクハンドは制御手段によって、移動量によっ
てマスクの搬送をコントロールされていて、通常マスク
をマスクチャックに対して近接若しくは、接触位置で止
まる様に設定されているが、あらかじめ移動量は決って
いるためマスクの厚さが変った場合などは、マスクをマ
スクチャックに対して衝突させてしまい、マスクに損傷
を与えてしまうなどの問題があった。
The masks are mounted in a mask cassette or a mask holder, and a plurality of masks are stored in a mask carrier box, for example. When transporting a mask to position it on an exposure projection, a desired mask cassette or mask holder housed in a mask carrier box is moved to a mask take-out position. A mask hand or the like serving as a transport unit mechanically holds the mask in the mask cassette or on the mask holder at the mask take-out position and transports it onto the exposure projection. Then, the transported mask is passed to a mask holder and held by suction.However, in conventional devices like this, there were the following problems when passing the mask to the mask holder. . Conventional devices do not have a means for detecting contact between the mask holder and the mask, and the mask hand is controlled by a control means according to the amount of movement of the mask, and usually the mask is brought close to the mask chuck or Although it is set to stop at the contact position, the amount of movement is determined in advance, so if the thickness of the mask changes, the mask may collide with the mask chuck, causing damage to the mask. There were other problems.

〔問題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は上述した従来の問題点を解決するため、搬送さ
れて来たマスクとマスクホルダーとの位置を検出する手
段を設け、その手段の検出結果に応じて、吸着力のON
、OFFおよび搬送手段の制御を行うことによって、マ
スクとマスクホルダーとの衝突等の問題を解決している
。詳しくは、以下の実施例で述べる。
In order to solve the above-mentioned conventional problems, the present invention provides a means for detecting the position of the transported mask and the mask holder, and turns on the suction force according to the detection result of the means.
, OFF and control of the transport means, problems such as collision between the mask and the mask holder are solved. Details will be described in the following examples.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は従来のマグネチャックの吸着ユニットの構成を
示すもので、5はマスクチャック、1は吸着磁気ユニッ
トを示す。ユニットの詳しい構成については後述する。
FIG. 1 shows the configuration of a conventional magnetic chuck attraction unit, where 5 is a mask chuck and 1 is an attraction magnetic unit. The detailed configuration of the unit will be described later.

磁気ユニット1はマスクチャック5の下面に円周方向に
90°間隔で配置されている。
The magnetic units 1 are arranged on the lower surface of the mask chuck 5 at intervals of 90° in the circumferential direction.

3は消磁用のコイル、4はマスクを吸着保持する永久磁
石、6は前記コイルの端子であり、マスクを離脱する際
には消磁用の電流が加えられる。
3 is a demagnetizing coil, 4 is a permanent magnet that attracts and holds the mask, and 6 is a terminal of the coil, to which a demagnetizing current is applied when the mask is removed.

第2図は、上記磁気ユニットの構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of the magnetic unit.

前記第1図と同番号のものについては、同一のものを示
す。2はヨークである。ヨークは永久磁石をはさむ形で
コの字状をしている。永久磁石は、マスクを保持するの
に十分な吸着力を持ち、且っ消磁時に多くの電流を必要
としない程度の大きさである。
Components with the same numbers as in FIG. 1 above refer to the same components. 2 is a yoke. The yoke is U-shaped and holds a permanent magnet in between. The permanent magnet has a sufficient attracting force to hold the mask, and is of a size that does not require a large amount of current during demagnetization.

以上が従来に於けるマスクチャックの構成である。この
様なマスクチャックにマスクを保持するとき、上述した
様な問題があった。
The above is the configuration of a conventional mask chuck. When holding a mask on such a mask chuck, there are problems as described above.

本発明に於けるマスクチャックの構成の説明と、そのマ
スクチャックを使ってマスクの吸着及び離脱する際の作
動を第3図を使って説明する。
The structure of the mask chuck according to the present invention will be explained, and the operation of attracting and detaching a mask using the mask chuck will be explained with reference to FIG.

11はマスクをつかむハンドである。このハンド11は
図面の左右方向にハンドを移動させ、右方向に移動した
際、該ハンドによってマスクフレーム7をつかませ、又
左方向に移動した際、マスクをはなすための駆動装置で
ある。又、このハンド11はモータ13を有する上下移
動装置14によって上下し、チャック5の下面に対して
マスク8の上面を近接若しくは接触させたり、遠ざから
したりする。1は磁気ユニットであり、マスクチャック
下面での配置及び構成は先で述べた従来例と特に変わる
所はない。2はヨーク、3は消磁用コイル、4は永久磁
石である。21はマスクチャック9に設けられた光源で
、マスクフレーム6の上面に光を投光する。マスクフレ
ームからの反射光量は、光センサ−20によって受光さ
れる。この光センサーの出力は、信号処理回路19に入
力され、マスク8の上面とマスクチャック9の下面が接
触した際得られるであろう光量基準信号と比較される。
11 is a hand that grasps the mask. This hand 11 is a driving device that moves the hand in the left-right direction in the drawing, causes the hand to grasp the mask frame 7 when moving to the right, and releases the mask when moving to the left. Further, this hand 11 is moved up and down by a vertical moving device 14 having a motor 13 to bring the top surface of the mask 8 close to or in contact with the bottom surface of the chuck 5, or to move it away from the bottom surface of the chuck 5. Reference numeral 1 denotes a magnetic unit, and its arrangement and configuration on the lower surface of the mask chuck are not particularly different from the conventional example described above. 2 is a yoke, 3 is a demagnetizing coil, and 4 is a permanent magnet. A light source 21 is provided on the mask chuck 9 and projects light onto the upper surface of the mask frame 6. The amount of light reflected from the mask frame is received by the optical sensor 20. The output of this optical sensor is input to the signal processing circuit 19 and compared with a light amount reference signal that would be obtained when the upper surface of the mask 8 and the lower surface of the mask chuck 9 come into contact.

光センサーの出力と上記基準信号とが一致した場合、回
路19はマスクとチャックが接触した旨の信号を出す。
When the output of the optical sensor and the reference signal match, the circuit 19 outputs a signal indicating that the mask and the chuck have contacted each other.

尚、光センサーを光点位置検出器として、マスクフレー
ムから反射した光点の位置によって接触信号を得ても良
い。
Note that a contact signal may be obtained based on the position of the light spot reflected from the mask frame by using the optical sensor as a light spot position detector.

又、光センサーのかわりにエアセンサーや静電容量セン
サーを用いても良い。又、特別に上述した様な位置検出
センサーを設けなくても、マスクチャック内の磁気ユニ
ットを使っても検出できる。
Also, an air sensor or a capacitance sensor may be used instead of the optical sensor. Further, the detection can be performed using a magnetic unit in the mask chuck without providing a special position detection sensor as described above.

つまりは、磁気ユニット内のコイルに電流を流した時生
じるインダクタンスの変化を検出する事によっても可能
である。
In other words, this is also possible by detecting the change in inductance that occurs when current is passed through the coil in the magnetic unit.

更に詳しく述べれば、−船釣に磁性体に巻いたコイルに
電流を流した時に発生するインダクタンスは次の様に与
えられる。
More specifically, the inductance generated when a current is passed through a coil wound around a magnetic material during boat fishing is given as follows.

ここで、■はコイルに流す電流、nはコイルの巻数、φ
はコイルに発生する磁束、Sは磁性体の断面積、lは磁
性体の平均磁路長、μ。は真空中での透磁率。
Here, ■ is the current flowing through the coil, n is the number of turns of the coil, and φ
is the magnetic flux generated in the coil, S is the cross-sectional area of the magnetic material, l is the average magnetic path length of the magnetic material, and μ. is the magnetic permeability in vacuum.

マスクとチャックが接触時のインダクタンスの値を基準
信号として、非接触時のインダクタンスの検出値とマス
クとマスクチャックとの距離の関係をあらかじめ求めて
おき、信号回路18に入力しておけば、マスク位置並び
にマスクの接触、非接触を検知する事ができる。
Using the inductance value when the mask and the chuck are in contact as a reference signal, the relationship between the detected inductance value when there is no contact and the distance between the mask and the mask chuck is determined in advance and inputted to the signal circuit 18. It can detect the position and whether the mask is in contact or not.

15は電源で、電流調整回路16を介して、コイル3に
消磁用の電流を流す。そして、電流調整回路16は、回
路19の出力によって消磁用電流の流れをOFFする。
Reference numeral 15 denotes a power source that supplies a demagnetizing current to the coil 3 via a current adjustment circuit 16. Then, the current adjustment circuit 16 turns off the flow of the demagnetizing current based on the output of the circuit 19.

116,117はモーター制御回路である。116 and 117 are motor control circuits.

次に、第3図の装置の作動を第4図のフローチャートに
従って説明すると、マスク8をハンド11で下方位置で
つかんだ後、上下移動装置14のモーター13を駆動さ
せ、マスク8をマスクチャック9の下面方向に移動する
。この際コイル3には消磁用の電流が流れ、永久磁石は
見かけ上、マスクを吸着する力は0若しくはほとんどな
い。マスク8が上昇している間、光センサーはマスクの
位置を検出している。マスクがチャックに接触した際、
回路19は接触信号を発生する。この信号によって、消
磁用電流はOFFされ、永久磁石によってマスクフレー
ムは吸着される。これと共にモーター13が停止する。
Next, the operation of the device shown in FIG. 3 will be explained according to the flowchart shown in FIG. 4. After gripping the mask 8 in the lower position with the hand 11, the motor 13 of the vertical movement device 14 is driven, and the mask 8 is moved into the mask chuck 9. Move toward the bottom of the screen. At this time, a demagnetizing current flows through the coil 3, and the permanent magnet apparently has zero or almost no force to attract the mask. While the mask 8 is being raised, the optical sensor is detecting the position of the mask. When the mask comes into contact with the chuck,
Circuit 19 generates a touch signal. In response to this signal, the demagnetizing current is turned off, and the mask frame is attracted by the permanent magnet. At the same time, the motor 13 stops.

これによってマスクは強固にチャックに吸着される。次
でハンド11が左方向に移動し、チャッキング動作は終
了する。
As a result, the mask is firmly attracted to the chuck. Next, the hand 11 moves to the left, and the chucking operation ends.

尚、以上の説明では、マスクがチャックに接触した際、
消磁用の電流をOFFしたか、極狭に一定の間隔にマス
クとチャックの間隔があった際に消磁用電流を流しても
良い。この様にマスクとマスクチャックが極近接若しく
は接触したことを確認した後に、永久磁石でマスクを保
持しているため、チャッキングに際してマスクに衝突に
よる強い衝激を与えない。
In addition, in the above explanation, when the mask contacts the chuck,
The degaussing current may be turned off, or the degaussing current may be caused to flow when the mask and chuck are spaced at a very narrow and constant interval. After confirming that the mask and mask chuck are in close proximity or in contact with each other in this way, the mask is held by a permanent magnet, so that the mask is not subjected to strong impact due to collision during chucking.

特にマスクが薄い膜で形成されているX線露光用のマス
クの場合、この衝激によってマスクが破損される場合が
有るが、この方法によれば、この破損が取り除かれる。
Particularly in the case of an X-ray exposure mask in which the mask is formed of a thin film, the mask may be damaged by this impact, but this method eliminates this damage.

次で、第5図を使って、マスクの離脱を説明すると、移
動装置12を作動させ、ハンド11を右方向に移動させ
る。不図示のセンサーによって、マスクフレーム7をグ
リップしたグリップ完了信号を得る。この信号は処理回
路19に入力される。回路19からの信号によってコイ
ル3には電流が流され、磁気ユニット1は吸着力を失う
。次で、上下移動装置14が作動してマスクを下方向に
移動させる。
Next, using FIG. 5 to explain how to remove the mask, the moving device 12 is activated and the hand 11 is moved to the right. A grip completion signal for gripping the mask frame 7 is obtained by a sensor (not shown). This signal is input to the processing circuit 19. A current is applied to the coil 3 by a signal from the circuit 19, and the magnetic unit 1 loses its attraction force. Next, the vertical movement device 14 is activated to move the mask downward.

尚、以上の説明では、吸着力として永久磁石の磁力を使
ったものを使って説明したが、これは静電チャックでも
エアーによる真空吸着であってもかまわない。
In the above explanation, the magnetic force of a permanent magnet is used as the attraction force, but this may be an electrostatic chuck or vacuum attraction using air.

又、上記実施例で説明したマグネチャックの場合は、マ
スクの保持時まで吸着力つまり磁力をコイルに通電する
ことによって消磁しているが、これは発熱等の問題を生
じるため、マスクがマスクチャックの近傍にある時はマ
スクに急激な吸着力が働かないために消磁させておく必
要があるが、マスクがマスクチャックより全く下方にあ
る場合などは、コイルに通電してない方がマスクに吸着
力は働かないのだから、発熱の問題を考慮するとより良
い。つまりは、マスクがマスクハンドによって搬送され
る上で、マスクチャックに対してマスクに吸着力が働か
ない位置まではコイルに通電して消磁するのをやめ、マ
スクに吸着力が及ぶ範囲内にマスクの位置が達したら、
コイルに通電して消磁する様にする。吸着力の及ぶ範囲
はあらかじめわかっているから、その位置に於ける検出
値をメモリーしておけば、前記位置検知の出力に応じて
、上述した様な保持時以外のコイルへの通電のON、O
FFも制御をする事ができる。
In addition, in the case of the magnetic chuck described in the above embodiment, demagnetization is performed by applying an attractive force, that is, magnetic force, to the coil until the mask is held, but this causes problems such as heat generation, so the mask is not held in the mask chuck. When the mask is near the mask chuck, it is necessary to demagnetize the mask so that the sudden attraction force does not act on the mask, but if the mask is completely below the mask chuck, it is better to not energize the coil so that the mask will attract the mask. Since no force is applied, it is better to consider the issue of heat generation. In other words, when the mask is being transported by the mask hand, the coil is not energized to demagnetize until the mask chuck reaches a position where the mask does not have any attraction force, and the mask is demagnetized within the range where the attraction force is applied to the mask. When the position of is reached,
Energize the coil to demagnetize it. Since the range of the adsorption force is known in advance, if the detected value at that position is stored in memory, then depending on the output of the position detection, it is possible to turn on the current to the coil other than when holding, as described above. O
FF can also be controlled.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明した様に、本発明によればマスクがマスクハン
ド等の搬送機構によってマスクチャックに搬送される時
、マスクとマスクチャックとの接触、非接触を検知する
手段を設けているため、マスクとマスクチャックとの衝
突によるマスクへの損傷を防ぐことができる。
As explained above, according to the present invention, when a mask is conveyed to a mask chuck by a conveyance mechanism such as a mask hand, a means for detecting contact or non-contact between the mask and the mask chuck is provided. Damage to the mask due to collision with the mask chuck can be prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、従来に於けるマスク保持装置(マスクチャッ
ク)の構成図。 第2図は、第1図のマスク保持装置に於ける磁気ユニッ
ト構成図。 第3図は、本発明の実施例1を説明するためのマスク保
持装置及びマスク搬送機構図。 第4図は、本発明の実施例1を説明するためのマスクの
保持動作を示すフローチャート。 第5図は、本発明の実施例1を説明するためのマスクの
離脱動作を示すフローチャート。
FIG. 1 is a configuration diagram of a conventional mask holding device (mask chuck). FIG. 2 is a configuration diagram of a magnetic unit in the mask holding device of FIG. 1. FIG. 3 is a diagram of a mask holding device and a mask transport mechanism for explaining Embodiment 1 of the present invention. FIG. 4 is a flowchart showing a mask holding operation for explaining Embodiment 1 of the present invention. FIG. 5 is a flowchart showing the mask removal operation for explaining the first embodiment of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、照射エネルギーをマスクを透して感応体上に照射し
、該マスクに形成されたパターンを該感応体上に転写す
る転写装置のマスク保持装置は以下のものを含む。 該マスクを吸着手段によって保持面に保持 する手段と、該マスクを上記保持面方向に移動させる手
段と、 該マスクの上記マスクと上記保持面とが接 触若しくは一定の極近接間隔になった際、その旨の信号
を発する位置検出手段と、 該位置検出手段の上記信号に対応して、前 記吸着手段の吸着力を生じさせる制御手段。 2、前記移動手段は、前記信号に対応して保持面方向の
移動を停止させることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載のマスク保持装 置。 3、前記吸着手段は、保持力を発生する永久磁石と前記
永久磁石の磁力を解く相殺コイルの組み合せであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のマスク保持装
置。 4、前記吸着手段が複数に設置されていることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のマスク保持装置。 5、前記位置検出手段は、光センサーであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のマスク保持装置。 6、前記位置検出手段は、前記相殺コイルのインダクタ
ンスを検知するものである特許請求の範囲第3項記載の
マスク保持装置。
[Claims] 1. A mask holding device of a transfer device that irradiates irradiation energy onto a sensitive body through a mask and transfers a pattern formed on the mask onto the sensitive body includes the following: . means for holding the mask on a holding surface by suction means; means for moving the mask in the direction of the holding surface; when the mask and the holding surface of the mask come into contact or are in a certain close distance; a position detection means for emitting a signal to that effect; and a control means for generating an adsorption force of the adsorption means in response to the signal from the position detection means. 2. Claim 1, wherein the moving means stops moving in the direction of the holding surface in response to the signal.
Mask holding device as described in section. 3. The mask holding device according to claim 1, wherein the attraction means is a combination of a permanent magnet that generates a holding force and a canceling coil that releases the magnetic force of the permanent magnet. 4. The mask holding device according to claim 1, wherein a plurality of said suction means are installed. 5. The mask holding device according to claim 1, wherein the position detection means is an optical sensor. 6. The mask holding device according to claim 3, wherein the position detection means detects the inductance of the cancellation coil.
JP63147090A 1988-06-15 1988-06-15 Mask holder Pending JPH022104A (en)

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