JPH02210458A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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JPH02210458A
JPH02210458A JP3221889A JP3221889A JPH02210458A JP H02210458 A JPH02210458 A JP H02210458A JP 3221889 A JP3221889 A JP 3221889A JP 3221889 A JP3221889 A JP 3221889A JP H02210458 A JPH02210458 A JP H02210458A
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carbon
protective layer
photosensitive layer
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the peeling and cracking of a protective layer and to obtain superior durability over a long period of time by regulating the difference in Vickers hardness between an org. photosensitive layer and a high hardness thin film made of carbon or based on carbon as the protective layer to a specified value or below. CONSTITUTION:An underlayer 2, an electric charge generating layer 3, an electric charge transferring layer 4 and a protective surface layer 5 are successively laminated on an electrically conductive support 1. The layer 5 is made of carbon or based on carbon and the difference (DELTAHv) in Vickers hardness between the layer 5 and an org. photosensitive layer consisting of the layers 3, 4 is regulated to <2,500kg/mm<2> so that the adhesive strength of the photosensitive layer to the layer 5 exceeds the mechanical stress of the layer 5. The peeling and cracking of the protective surface layer 5 are prevented, a fine copied image can be formed even after repeated use and the durability is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 本発明は有機系感光層上に表面保護層を有して成る電子
写真用感光体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor having a surface protective layer on an organic photosensitive layer.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、電子写真方式に於いて使用される感光体としては
、導電性支持体上にセレンないしセレン合金を主体とす
る光導電層を設けたもの、醜化亜鉛、硫酸カドミウムな
どの無機系光導電材料をバインダー中に分散させたもの
、ポリ−N−上ニルカルバゾールとトリニトロフルオレ
ノンあるいはアゾ顔料などの有機光導電材料を用いたも
の、及び非晶質シリコン系材料を用いたもの等が一般に
知られている。
Conventionally, photoreceptors used in electrophotography include those with a photoconductive layer mainly made of selenium or selenium alloys on a conductive support, and inorganic photoconductive materials such as oxidized zinc and cadmium sulfate. Generally known are those using organic photoconductive materials such as poly-N-onylcarbazole and trinitrofluorenone or azo pigments, and those using amorphous silicon-based materials. ing.

ところで、一般に「電子写真方式」とは、光導電性の感
光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によって帯電させ
、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸せ
しめて静電潜像を得、この潜像部を染料、顔料などの着
色材と高分子物質などの結合剤とから構成される検電微
粒子(トナー)で現像し可視化して画像を形成する様に
した画像形成法の一つである。
By the way, in general, the "electrophotographic method" means that a photoconductive photoreceptor is first charged in a dark place by, for example, corona discharge, and then imagewise exposed to selectively dissipate the charge only in the exposed area to create an electrostatic latent material. Image formation in which an image is obtained by obtaining an image, and developing and visualizing this latent image area with electrostatic fine particles (toner) made of coloring materials such as dyes and pigments and binders such as polymeric substances to form an image. It is one of the laws.

この様な電子写真法に於いて感光体に要求される基本的
な特性としては (1)暗所で適当な電位に帯電できること。
The basic characteristics required of the photoreceptor in such electrophotography are (1) the ability to be charged to an appropriate potential in a dark place;

(2)暗所において電荷の散逸が少ないこと。(2) Less charge dissipation in the dark.

(3)光照射によって速やかに電荷を散逸できること。(3) Charge can be quickly dissipated by light irradiation.

などが挙げられる。Examples include.

上記の各感光体はこれらの基本的な特性以外に実使用上
それぞれ優れた特徴及び欠点を有しているが、なかでも
近年は製造コストが安い、環境汚染が少ない、比較的自
由な感光体設計ができる等の理由により、有機系感光体
の発展が著しい。
In addition to these basic characteristics, each of the above-mentioned photoconductors has excellent features and disadvantages in practical use, but in recent years, photoconductors that have low manufacturing costs, little environmental pollution, and are relatively free have been developed. Organic photoreceptors are rapidly developing due to their ease of design.

一般に、有機系感光体とは電荷発生材料及び電荷輸送材
料を結着樹脂の中へ分散あるいは溶解して導電性支持体
上に塗布したものであり、ひとつの層で電荷保持、電荷
発生、電荷輸送の機能を有する単層型と電荷発生の機能
を有する電荷発生層(CGL)、帯電電荷の保持とCG
Lから注入された電荷の輸送機能を有する電荷輸送層(
CTL)、更には必要に応じて支持体からの電荷の注入
を阻止する、あるいは支持体での光の反射を防止する等
の機能を有した層などをM層した構成の機能分離型とが
知られている。
In general, an organic photoreceptor is a material in which a charge-generating material and a charge-transporting material are dispersed or dissolved in a binder resin and coated on a conductive support. Single layer type with transport function, charge generation layer (CGL) with charge generation function, charge retention and CG
A charge transport layer having a function of transporting charges injected from L (
CTL), and a function-separated type with an M-layer structure including layers with functions such as blocking charge injection from the support or preventing light reflection from the support as necessary. Are known.

これらの有機系感光体は前述のように優れた特徴を有し
ているが、有機材料であるがゆえに表面硬度が低く、複
写プロセスでの実使用時に現像剤、転写紙、クリーニン
グ部材等から受ける機械的な負荷によって、摩耗や傷が
発生しやすいという木質的な欠点も有している。
These organic photoreceptors have excellent characteristics as mentioned above, but because they are organic materials, their surface hardness is low and they are susceptible to damage from developer, transfer paper, cleaning materials, etc. during actual use in the copying process. Another disadvantage of wood is that it is susceptible to wear and scratches due to mechanical loads.

この感光層の摩耗は、帯電電位の減少をひきおこし、ま
た局部的な傷はコピー上でスジ状の異常画像を発生させ
る原因になり、いずれも感光体寿命を左右する重要な問
題である。
This abrasion of the photosensitive layer causes a decrease in the charging potential, and local scratches cause streak-like abnormal images to appear on copies, both of which are important problems that affect the life of the photoreceptor.

この様な欠点を解消する為に有機系感光層の表面に保護
層を設けて、複写機内外で受ける機械的負荷に対する耐
久性を改善する方法が提案されている。
In order to overcome these drawbacks, a method has been proposed in which a protective layer is provided on the surface of the organic photosensitive layer to improve its durability against mechanical loads received inside and outside the copying machine.

たとえば、感光層の表面に有機フィルムを設ける方法(
特公昭38−015446)、無機酸化物を設ける方法
(特公昭43−014517)、接着層を設けた後、絶
縁層を積層する方法(特公昭43−027591.)、
或いはプラズマCVD法・光CVD法等によってa−5
i層、5−3i :N:11層、a−8i:0:8層等
を積層する方法(特開昭57−179859、特開昭5
9−058437>などが開示されている。
For example, a method of providing an organic film on the surface of a photosensitive layer (
Japanese Patent Publication No. 38-015446), method of providing an inorganic oxide (Japanese Patent Publication No. 43-014517), method of laminating an insulating layer after providing an adhesive layer (Japanese Patent Publication No. 43-027591.),
Or a-5 by plasma CVD method, photo CVD method, etc.
Method of laminating i layer, 5-3i:N:11 layer, a-8i:0:8 layer, etc. (JP-A-57-179859, JP-A-5
9-058437> etc. are disclosed.

また、近年、高硬度ダイアモンド状カーボン膜の保護層
への応用が活発化している。
Furthermore, in recent years, the application of high-hardness diamond-like carbon films to protective layers has become active.

たとえば、感光層上に無定形炭素又は硬質炭素から成る
保護Iげを設けたもの(特開昭6O−249155)、
最表面にダイヤモンド状カーボン保護層を設けたもの(
特開昭6l−255352)、感光層」二に炭素を主成
分とする高硬度絶縁層を形成したもの(時開U(76]
264355)あるいは有機感光層上に窒素原子、酸素
原子、ハロゲン原子、アルカリ金属原子等のm(子を少
なくとも含むプラズマ有機重合膜から成る保護層を設け
たもの(特開昭63−97961〜4)、有機感光層上
にカルコゲン原子、■属原子、■属原子、■属原子等の
原子を少なくとも含むグロー放電により生成された非晶
質炭化水素膜から成る保護層を設けたもの(特開昭63
−220166〜9)などを挙げることができる。
For example, a protective layer made of amorphous carbon or hard carbon is provided on the photosensitive layer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 6O-249155),
A diamond-like carbon protective layer is provided on the outermost surface (
Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-255352), a photosensitive layer in which a high hardness insulating layer mainly composed of carbon is formed (Jikai U (76)
264355) or a protective layer formed of a plasma organic polymer film containing at least m(m) atoms such as nitrogen atoms, oxygen atoms, halogen atoms, alkali metal atoms, etc. is provided on the organic photosensitive layer (JP-A-63-97961-4). , a protective layer consisting of an amorphous hydrocarbon film generated by glow discharge containing at least chalcogen atoms, group II atoms, group II atoms, group II atoms, etc. is provided on an organic photosensitive layer (Japanese Patent Application Laid-open No. 63
-220166 to 9).

これらの提案はいずれも有機系感光層の表面にイオンプ
ロセス(スパッタリング、プラズマcvD、グロー放電
分解法、光CVD法等)により作製した炭素を主成分と
する高硬度の薄膜(i−カーボン膜あるいはダイヤモン
ド状炭素膜という総称で呼ばれるものに属する。)を形
成したものである。
In all of these proposals, a highly hard thin film (i-carbon film or It belongs to what is collectively called a diamond-like carbon film.)

このような方法で得られる感光体は有機系感光層の表面
硬度が向上し、耐久性に優れたものであるが、有機系感
光層というビッカース硬度が20Kg/mm2程度の低
硬度の層の上に過度に高硬度の表面保護層が積層された
ものにあっては、表面保護層層の剥離が生じるという難
点があることがその後の研究により明らかとなった。
The photoreceptor obtained by this method has an organic photosensitive layer with improved surface hardness and is excellent in durability. Subsequent research has revealed that if an excessively hard surface protective layer is laminated on the surface protective layer, the surface protective layer may peel off.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明は、まさにこれらの問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は有機系感光層と炭素又は
炭素を主成分とした高硬度の薄膜から成る保護層とのビ
ッカース硬度差を特定の値以下に限定することにより、
保護層の剥離やクラックの発生がなく、長期に亘り優れ
た耐久性を示す電子写真用感光体を提供することにある
The present invention was made precisely to solve these problems, and its purpose is to improve the Vickers hardness difference between an organic photosensitive layer and a protective layer consisting of carbon or a highly hard thin film mainly composed of carbon. By limiting the value to below a certain value,
It is an object of the present invention to provide an electrophotographic photoreceptor that exhibits excellent durability over a long period of time without peeling of a protective layer or generation of cracks.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明によれば、上記目的は導電性支持体上に少なくと
も有機系感光層及び表面保護層を積層した構成の電子写
真用感光体において、表面保護層は炭素又は炭素を主成
分とし、かつ該表面保護層と有機系感光層とのビッカー
ス硬度の差ΔHvが2500Kg/mm2以下であるこ
とを特徴とする電子写真用感光体によって達成される。
According to the present invention, the above-mentioned object is an electrophotographic photoreceptor having a structure in which at least an organic photosensitive layer and a surface protective layer are laminated on a conductive support, the surface protective layer containing carbon or carbon as a main component; This is achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized in that the difference in Vickers hardness between the surface protective layer and the organic photosensitive layer is 2500 Kg/mm2 or less.

一般に、有機系感光層上に表面保護層を積Jr、) し
た構成の電子写真用感光体の耐久性は、表面保護層の機
械的強度特に硬度が大きく関与するといわれている。し
たがって、通常、表面保護層の硬度はできるだけ高い値
の方が望ましいわけであるが、本発明者らの研究によれ
ば、有機系感光層の上に炭素又は炭素を主成分とした表
面保護層を積層したものは、意外にも保護層の剥離やク
ラックを生じ、必ずしもその耐久性が向上されていない
ことが判った。
Generally, it is said that the durability of an electrophotographic photoreceptor having a structure in which a surface protective layer is laminated on an organic photosensitive layer is greatly influenced by the mechanical strength, particularly the hardness, of the surface protective layer. Therefore, it is usually desirable for the hardness of the surface protective layer to be as high as possible, but according to the research of the present inventors, a surface protective layer consisting of carbon or carbon as a main component is It was found that when the protective layer was laminated, the protective layer unexpectedly peeled off and cracked, and the durability was not necessarily improved.

更に研究した結果、この原因は、ビッカース硬度が約2
0Kg/mm2という低硬度の有機系感光層上に炭素又
は炭素を主成分とする極めて高硬度の表面保護層が積層
されると、有機系感光層と表面保護層の接着力よりも表
面保護層の機械的応力の方が勝るためであることが知見
された。
Further research revealed that the cause of this was that the Vickers hardness was approximately 2.
When a surface protective layer with extremely high hardness consisting of carbon or carbon as a main component is laminated on an organic photosensitive layer with a low hardness of 0 kg/mm2, the adhesive strength between the organic photosensitive layer and the surface protective layer is stronger than the surface protective layer. It was found that this is because the mechanical stress of

この問題を解決するために、本発明者らは更に研究を進
めたところ、有機系感光J&とこの」二に積層する表面
保護層のビッカース硬度の差Δ)1νを2500Kg/
mm”以下とした場合には表面保護層の機械的応力より
も有機系感光層と表面保護層の接着力の方が勝るために
保護層の剥離やクラックを生じない、耐久性に優れた電
子写真用感光体が得られることを見い出し、本発明を完
成するに至った。
In order to solve this problem, the present inventors conducted further research and found that the difference in Vickers hardness Δ)1ν between the surface protective layer laminated on the organic photosensitive layer and this layer was 2500 kg/
mm" or less, the adhesive force between the organic photosensitive layer and the surface protective layer is stronger than the mechanical stress of the surface protective layer, so the protective layer does not peel or crack, making it a highly durable electronic film. It was discovered that a photographic photoreceptor could be obtained, and the present invention was completed.

すなわち本発明は、前記有機系感光層と表面保護層のピ
ンカース硬度の差へHνを2500Kg/mm”、好ま
しくは2000Kg/mm”以下に規定したことを特徴
とする。
That is, the present invention is characterized in that the difference in Pinkers hardness between the organic photosensitive layer and the surface protective layer, Hv, is defined to be 2500 Kg/mm'', preferably 2000 Kg/mm'' or less.

ビッカース硬度の差Hνが2500Kg/mm”を越え
ると表面保護層に細かいクラック生じたり、円周方向で
の剥離が発生するので、本発明の所期の目的を達成する
ことができない。
If the Vickers hardness difference Hv exceeds 2500 Kg/mm'', fine cracks will occur in the surface protective layer and peeling will occur in the circumferential direction, making it impossible to achieve the intended purpose of the present invention.

有機系感光層と表面保護層のビッカース硬度は前記の関
係を満たす範囲で任意に定めることができるが、通常、
有機系感光層のビッカース硬度1(v(I)は10−1
00Kg/mm2、好ましくは10−50Kg’/mm
2に、表面保護層のビッカース硬度Hv(II)は10
0−2500Kg/mm2、好ましくは500−100
0Kg/mm”の範囲に設定しておくことが望ましい。
The Vickers hardness of the organic photosensitive layer and the surface protective layer can be arbitrarily determined within the range that satisfies the above relationship, but usually,
The Vickers hardness of the organic photosensitive layer is 1 (v(I) is 10-1
00Kg/mm2, preferably 10-50Kg'/mm
2, the Vickers hardness Hv (II) of the surface protective layer is 10
0-2500Kg/mm2, preferably 500-100
It is desirable to set it within the range of 0Kg/mm''.

=8 第1図は本発明の電子写真用感光体の模式断面図であり
、導電性支持体1上に下引N2、電荷発生層3、電荷輸
送N4、及び表面保護層5を順次設けた構成のものであ
る。
=8 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the electrophotographic photoreceptor of the present invention, in which a subbing layer N2, a charge generation layer 3, a charge transport layer N4, and a surface protection layer 5 are sequentially provided on a conductive support 1. It is of composition.

第2図(a)及び第2図(b)は各々本発明の他の電子
写真用感光体の構成例を示すものであり、第2図(a)
は導電性支持体1上に下引層2を介して単層型の有機系
感光N6を設け、その」二に表面保護N5を順次設けた
ものであり、また第2図(b)は導電性支持体1に直接
電荷輸送M4を設け、更にその」二に電荷発生層3.及
び表面保護層5を順次設けたものである。
FIG. 2(a) and FIG. 2(b) respectively show structural examples of other electrophotographic photoreceptors of the present invention, and FIG. 2(a)
2(b) shows a single-layer type organic photosensitive layer N6 provided on a conductive support 1 via an undercoat layer 2, and a surface protection layer N5 sequentially provided on the second layer. A charge transport M4 is provided directly on the magnetic support 1, and a charge generation layer 3 is further provided thereon. and a surface protective layer 5 are sequentially provided.

本発明に使用される導電性支持体としては、導電体ある
いは導電処理をした絶縁体、たとえばAQ、Ni、 F
e、Cu、 Auなどの金属あるいはそれらの合金の他
、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、ガラ
ス等の絶縁性基体上にAn、 Ag、 Au等の金属あ
るいはIn、03.5ue2等の導電材料の薄膜を形成
したもの、導電処理をした紙等が使用できる。
The conductive support used in the present invention may be a conductor or an insulator treated for conductivity, such as AQ, Ni, F
In addition to metals such as E, Cu, and Au, or their alloys, thin films of metals such as An, Ag, and Au, or conductive materials such as In and 03.5ue2 are deposited on insulating substrates such as polyester, polycarbonate, polyimide, and glass. It is possible to use paper that has been formed or has been treated with electrical conductivity.

導電性支持体の形状は特に制約はなく板状、ドラム状あ
るいはベルト状のいずれのものも使用できる。
There are no particular restrictions on the shape of the conductive support, and any of the shapes of a plate, drum, or belt can be used.

導電性支持体と感光層との間に必要に応じ設けられる下
引層は本発明の効果をいっそう向上すると共に、接着性
を向上する目的で設けられ、その材料としてはSS10
1AQ20、シランカップリング剤、チタンカップリン
グ剤、クロムカップリング剤等の無機材料やポリアミド
樹脂、アルコール可溶性ポリアミド樹脂、水溶性ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルブチラール、PVA等の接
着性の良いバインダー樹脂などが使用される。その他、
前記接着性の良い樹脂にZnO,Ti、0□、ZnS等
を分散したものも使用できる。下引層の形成法としては
無機材料単独の場合はスパッタリング、蒸着等の方法が
、また有機材料を用いた場合は通常の塗布法が採用され
る。なお下引層の厚さは5μm以下が適当である。
An undercoat layer provided between the conductive support and the photosensitive layer as necessary is provided for the purpose of further improving the effects of the present invention and improving adhesion, and its material is SS10.
Inorganic materials such as 1AQ20, silane coupling agents, titanium coupling agents, chromium coupling agents, and binder resins with good adhesive properties such as polyamide resins, alcohol-soluble polyamide resins, water-soluble polyvinyl butyral, polyvinyl butyral, and PVA are used. Ru. others,
It is also possible to use a resin in which ZnO, Ti, 0□, ZnS, etc. are dispersed in the resin with good adhesive properties. As a method for forming the undercoat layer, methods such as sputtering and vapor deposition are used when an inorganic material alone is used, and when an organic material is used, a normal coating method is used. Note that the thickness of the undercoat layer is suitably 5 μm or less.

この導電性支持体」二に直接あるいは下引き層を介して
設けられる有機系感光層としては、前記したピーカース
硬度Hv(1,)を満たすものであれば、単層型あるい
は機能分離型のいずれもが適用できる。
The organic photosensitive layer provided directly or via an undercoat layer on this conductive support may be either a single layer type or a functionally separated type as long as it satisfies the above-mentioned Peakers hardness Hv (1,). Also applicable.

単層型感光層の例としては、色素増感された酸化亜鉛、
酸化チタン、硫酸亜鉛等の光導電性粉体、セレン粉体、
無定形シリコン粉体、スクアリック塩顔料、フタロシア
ニン顔料、アズレニウム塩顔料、アゾ顔料等を必要に応
して結着剤樹脂及び/又は後述する電子供与性化合物と
共に塗布形成されたもの、またビリリウム系染料とビス
フェノールA系のポリカーボネートとから形成される共
晶錯体に電子供与性化合物を添加した組成物を用いたも
の等が挙げられる。結着樹脂としては後述する機能分離
型感光層と同様のものを使用することができる。この単
層型感光層の厚さは5〜30μmが適当である。
Examples of single-layer photosensitive layers include dye-sensitized zinc oxide,
Photoconductive powder such as titanium oxide and zinc sulfate, selenium powder,
Amorphous silicon powder, Squaric salt pigment, phthalocyanine pigment, azulenium salt pigment, azo pigment, etc. are coated together with a binder resin and/or an electron-donating compound as described below, as required, and biryllium dyes. Examples include those using a composition in which an electron-donating compound is added to a eutectic complex formed from a bisphenol A-based polycarbonate and a bisphenol A-based polycarbonate. As the binder resin, the same resin as that used in the functionally separated photosensitive layer described later can be used. The thickness of this single-layer type photosensitive layer is suitably 5 to 30 μm.

一方、機能分離型感光層の例としては電荷発生層(CG
L)と電荷輸送層(CTL)を積層したものが例示され
る。
On the other hand, an example of a functionally separated photosensitive layer is a charge generation layer (CG
An example is a structure in which a charge transport layer (CTL) and a charge transport layer (CTL) are laminated.

画像霧光により潜像電荷を発生分離させるための電荷発
生層(CGL)としては、結晶セレン、セレン化ヒ素等
の無機光導電性粉体あるいは有機系染顔料を結着M樹脂
に分散もしくは溶解させたものが用いられる。
As a charge generation layer (CGL) for generating and separating latent image charges by image mist light, an inorganic photoconductive powder such as crystalline selenium or arsenic selenide or an organic dye or pigment is dispersed or dissolved in a binder M resin. The one that was made is used.

電荷発生物質としての有機系染顔料としては、例えば、
シーアイピグメントブルー25〔カラーインデックス(
CI)21180)、シーアイピグメントレッド41(
CI 21200)、シーアイアシッドレッド52(C
I451.00)、シーアイベーシックレッド3(CI
 45210)、さらに、ポリフィリン骨格を有するフ
タロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スクアリッ
ク塩顔料、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭
53−95033号公報に記載)、スチリルスチルベン
骨格を有するアゾ顔料(特開昭53−138229号公
報に記載)、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料
(特開昭53−132547号公報に記載)、ジベンゾ
チオフェン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−217
28号公報に記載)、オキサジアゾール骨格を有するア
ゾ顔料(特開昭54−12742号公報に記載)、フル
オレノン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−2283
4号公報に記載)、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔
料(特開昭54−17733号公報に記載)、ジスチリ
ルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54
−2129号公報に記載)、ジスチリルカルバゾール骨
格を有するアゾ顔料(特開昭54−17734号公報に
記載)、カルバゾール骨格を有するトリアゾ顔料(特開
昭57−195767号公報、同57−195768号
公報に記載)等、さらに、シーアイピグメントブルー1
6((A 74100)等のフタロシアニン系顔料、シ
ーアイパッドブラウン5(CI73410)、シーアイ
バッドダイ(CI 73030)等のインジゴ系顔料、
アルゴスカーレットB(バイオレット社製)、インダス
レンスカーレットR(バイエル社製)等のペリレン系顔
料等を使用することができる。
Examples of organic dyes and pigments as charge-generating substances include:
CI Pigment Blue 25 [Color Index (
CI) 21180), CI Pigment Red 41 (
CI 21200), Sea Eye Acid Red 52 (C
I451.00), CI Basic Red 3 (CI
45210), phthalocyanine pigments having a porphyrin skeleton, azulenium salt pigments, squalic salt pigments, azo pigments having a carbazole skeleton (described in JP-A-53-95033), and azo pigments having a styrylstilbene skeleton (described in JP-A-53-95033). Azo pigments having a triphenylamine skeleton (described in JP-A-53-132547), azo pigments having a dibenzothiophene skeleton (described in JP-A-54-217)
28), an azo pigment having an oxadiazole skeleton (described in JP-A No. 54-12742), an azo pigment having a fluorenone skeleton (described in JP-A-54-2283)
4), azo pigments having a bisstilbene skeleton (described in JP-A-54-17733), azo pigments having a distyryloxadiazole skeleton (described in JP-A-54-17733),
-2129), azo pigments with a distyrylcarbazole skeleton (described in JP-A-54-17734), triazo pigments with a carbazole skeleton (JP-A-57-195767, JP-A-57-195768). In addition, CI Pigment Blue 1
Phthalocyanine pigments such as 6 ((A 74100), indigo pigments such as C.I. Pad Brown 5 (CI73410) and C.I. Bud Dye (CI 73030),
Perylene pigments such as Argo Scarlet B (manufactured by Violet) and Indus Thread Scarlet R (manufactured by Bayer) can be used.

これらの電荷発生物質は単独であるいは2種以上併用し
て用いられる。
These charge generating substances may be used alone or in combination of two or more.

結着剤樹脂は、電荷発生物質100重量部に対して0〜
100重量部用いるのが適当であり、好ましくは0〜5
0重量部である。
The amount of the binder resin is 0 to 100 parts by weight of the charge generating substance.
It is appropriate to use 100 parts by weight, preferably 0 to 5 parts by weight.
It is 0 parts by weight.

これら有機染顔料と併用される結着剤樹脂としてはポリ
アミド、ポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、
ポリエーテル−1−、ポリエーテルなどの縮合系樹脂並
びにポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメタクリレ
ート、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチ
ラール、スチレンブタジェン共重合体、スチレン−アク
リロニトリル共重合体等の重合体および共重合体等の接
着性、絶縁性樹脂が挙げられる。
Binding resins used in combination with these organic dyes and pigments include polyamide, polyurethane, polyester, epoxy resin,
Condensation resins such as polyether-1-, polyether, and polymers such as polystyrene, polyacrylate, polymethacrylate, poly-N-vinylcarbazole, polyvinyl butyral, styrene-butadiene copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer, and Examples include adhesive and insulating resins such as copolymers.

電荷発生層は、電荷発生物質を必要ならばバインダー樹
脂とともに、テトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、
ジオキサン、ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミ
ル、アトライター、サンドミルなどにより分散し、分散
液を過度に希釈して塗布することにより形成できる。塗
布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法な
どを用いて行なうことができる。
The charge generation layer contains a charge generation substance, along with a binder resin if necessary, tetrahydrofuran, cyclohexanone,
It can be formed by dispersing using a ball mill, attritor, sand mill, etc. using a solvent such as dioxane or dichloroethane, diluting the dispersion excessively, and applying the dispersion. Application can be performed using a dip coating method, a spray coating method, a bead coating method, or the like.

電荷発生層の膜厚は、0.01〜5声程度が適当であり
、好ましくは0.1〜2/j111である。
The thickness of the charge generation layer is suitably about 0.01 to 5 tones, preferably 0.1 to 2/j111.

また、本発明において、電荷発生物質として結晶セレン
又はセレン化ヒ素合金等の粒子を用いる場合には、電子
供与性結着剤及び/又は電子供与性有機化合物とが併用
される。このような電子供与性物質としてはポリビニル
カルバゾールおよびその誘導体(例えばカルバゾール骨
格に塩素、臭素などのハロゲン、メチル基、アミノ基な
どの置換基を有するもの)、ポリビニルピレン、オキサ
ジアゾール、ピラゾリン、ヒドラゾン、ジアリールメタ
ン、α−フェニルスチルベン、トリフェニルアミン系化
合物などの窒素含有化合物およびジアリールメタン系化
合物等があるが、特にポリビニルカルバゾールおよびそ
の誘導体が好ましい。
Further, in the present invention, when particles of crystalline selenium or arsenic selenide alloy are used as the charge generating substance, an electron-donating binder and/or an electron-donating organic compound are used together. Examples of such electron-donating substances include polyvinylcarbazole and its derivatives (for example, those having a halogen such as chlorine or bromine, or a substituent such as a methyl group or an amino group in the carbazole skeleton), polyvinylpyrene, oxadiazole, pyrazoline, and hydrazone. , diarylmethane, α-phenylstilbene, and triphenylamine compounds, and diarylmethane compounds, among which polyvinylcarbazole and its derivatives are particularly preferred.

またこれらの物質は混合しても用いられるが、この場合
にはポリビニルカルバゾールおよびその誘導体に他の電
子供与性有機化合物を添加しておくことが好ましい。こ
の種の無機系電荷発生物質の含有量は層全体の30〜9
0重景%が重量である。また無機系電荷発生物質を用い
た場合の電荷発生層の厚さは0.2〜5μmが適当であ
る。
These substances can also be used as a mixture, but in this case it is preferable to add another electron-donating organic compound to polyvinylcarbazole and its derivatives. The content of this type of inorganic charge generating substance is 30 to 9 in the entire layer.
0% weight is the weight. Further, when an inorganic charge generating material is used, the thickness of the charge generating layer is suitably 0.2 to 5 .mu.m.

電荷輸送層(CTL)は帯電電荷を保持させ、かつ露光
により電荷発生層で発生分離した電荷を移動させて保持
していた帯電電荷と結合させることを目的とする層であ
る。帯電電荷を保持させる目的達成のために電気抵抗が
高いことが要求され、また保持した帯電電荷で高い表面
電位を得る目的を達成するためには、誘電率が小さくか
つ電荷移動性が良いことが要求される。
The charge transport layer (CTL) is a layer whose purpose is to hold electric charges and to move the electric charges generated and separated in the charge generation layer by exposure and combine them with the held electric charges. In order to achieve the purpose of retaining charged charges, it is required to have high electrical resistance, and in order to achieve the purpose of obtaining a high surface potential from the retained charges, it is necessary to have a low dielectric constant and good charge mobility. required.

これらの要件を満足させるための電荷輸送層は、電荷輸
送物質および必要に応じて用いられるバインダー樹脂よ
り構成される。すなわち、以上の物質を適当な溶剤に溶
解ないし分散してこれを塗布乾燥することにより電荷輸
送層を形成することができる。
A charge transport layer that satisfies these requirements is composed of a charge transport substance and a binder resin used as necessary. That is, the charge transport layer can be formed by dissolving or dispersing the above-mentioned substances in a suitable solvent and applying and drying the solution.

電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質とがあ
る。
Charge transport materials include hole transport materials and electron transport materials.

正孔輸送物質としては、ポリ−N−ビニルカルバゾール
およびその誘導体、ポリ−チーカルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド
縮金物およびその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニ
ルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾ
ール誘導体、イミダゾール誘導体、トリフェニルアミン
誘導体、9−(p−ジエチルアミノスチリル)アントラ
セン、■、1ビス−(4−ジベンジルアミノフェニル)
プロパン、ゴ5 スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニル
ヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体等の電子
供与性物質が挙げられる。
As hole transport substances, poly-N-vinylcarbazole and its derivatives, poly-carbazolylethyl glutamate and its derivatives, pyrene-formaldehyde condensate and its derivatives, polyvinylpyrene, polyvinylphenanthrene, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, triphenylamine derivatives, 9-(p-diethylaminostyryl)anthracene, 1, 1bis-(4-dibenzylaminophenyl)
Examples include electron-donating substances such as propane, styryl anthracene, styryl pyrazoline, phenylhydrazones, and α-phenylstilbene derivatives.

電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル、ブロ
ムアニル、テトラシアノエチレン、テ1〜ラシアノキノ
ンジメタン、2,4.7−トリニ1〜ロー9フルオレノ
ン、2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン
、2,4,5.7−チトラニトロキサントン、2,4゜
8−トリニドロチオキサントン、 2,6.8−トリニ
トロ−4H−インデノl:1,2−b)チオフェノン−
4−オン、1,3゜7−トリニトロジベンゾチオフエノ
ンー5,5−ジオキサイドなどの電子受容物質が挙げら
れる。
Examples of the electron transport substance include chloranil, bromoanil, tetracyanoethylene, te-1-lacyanoquinone dimethane, 2,4.7-tri-1-rho-9 fluorenone, 2,4,5.7-tetranitro-9- Fluorenone, 2,4,5.7-titranitroxanthone, 2,4°8-trinidrothioxanthone, 2,6.8-trinitro-4H-indenol:1,2-b) Thiophenone-
Examples include electron accepting substances such as 4-one, 1,3°7-trinitrodibenzothiophenone-5,5-dioxide.

これらの電荷輸送物質は、単独又は2種以」−混合して
用いられる。
These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more.

また、必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては
、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体
、スチレン−ブタジェン共重合体、スチレン−無水マレ
イン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリアクリレート樹脂、フェノキシ樹脂
、ポリカーボネー1−1酢酸セルロース樹脂、エチルセ
ルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホル
マール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバ
ゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂
、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アル
キッド樹脂等の熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂が挙げら
れる。
Binder resins that may be used as necessary include polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Polymer, polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyacrylate resin, phenoxy resin, polycarbonate 1-1 cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyltoluene, poly-N-vinylcarbazole, acrylic resin, silicone Examples include thermoplastic resins or thermosetting resins such as resins, epoxy resins, melamine resins, urethane resins, phenol resins, and alkyd resins.

溶剤としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、1−
ルエン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メ
チレンなどが用いられる。
As a solvent, tetrahydrofuran, dioxane, 1-
Luene, monochlorobenzene, dichloroethane, methylene chloride, etc. are used.

電荷輸送層の厚さは5〜100μm程度が適当である。The appropriate thickness of the charge transport layer is about 5 to 100 μm.

また電荷輸送層中に可塑剤やレベリング剤を添加しても
よい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチ
ルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤として使用されて
いるものがそのまま使用でき、その使用量は、バインダ
ー樹脂に対して0〜30重量2程度が適当である。レベ
リング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチル
フェニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル類が
使用され、その使用量はバインダー樹脂に対して、()
−1重星%程度が適当である。
Furthermore, a plasticizer or a leveling agent may be added to the charge transport layer. As the plasticizer, those used as plasticizers for general resins such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate can be used as they are, and the appropriate amount to be used is about 0 to 30 parts by weight based on the binder resin. Silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil are used as leveling agents, and the amount used is () relative to the binder resin.
-1 double star% is appropriate.

これらのCGLとCTLは支持体上に支持体側からCG
L、C:TLの順に積層しても、(:TL、 CGLの
順に積層してもかまわない。
These CGL and CTL are placed on the support from the support side.
They may be laminated in the order of L, C:TL, or (:TL, CGL).

本発明において、最表面に設けられる保護/Wは、炭素
または炭素を主成分としたもので、前述したように、ビ
ッカース硬度Hv(II)を100−2500Kg/m
m、好ましくは500〜2000Kg/mm”に規定し
たものであれば、いかなるものでもよいが、好ましくは
SP″軌道を有するダイヤモンドと類似のC−C結合を
有すると共に比抵抗(固有抵抗)IX]、07〜IX]
、013Ω・σ及び光学的エネルギーバンド巾(Egと
いう)]−、(leV以上である、赤外または可視領域
で透光性を有する薄膜で形成される。
In the present invention, the protection /W provided on the outermost surface is carbon or carbon-based as a main component, and has a Vickers hardness Hv (II) of 100-2500 kg/m as described above.
m, preferably 500 to 2000 Kg/mm", but preferably has a C-C bond similar to that of diamond having an SP" orbit and a specific resistance (specific resistance) IX] , 07-IX]
, 013Ω·σ and optical energy band width (referred to as Eg)]−, (LeV or more, and is formed of a thin film that is transparent in the infrared or visible region.

この様な膜は一般的にスパッタリング、プラズマCVD
、グロー放電分解法、光CVD法などにより形成され、
特にその製膜法は限定されるものではないが、プラズマ
CVD法でありながらスパッタ効果を伴わせつつ成膜さ
せる方法によって良好な特性を有する保護層を得ること
ができる。この代表例としては、本発明人の出願になる
特許願「炭素被膜を有する複合体及びその製造方法」(
特願昭56−146929昭和56年9月17日出願、
特開昭58−49609)が挙げられる。
Such films are generally produced by sputtering or plasma CVD.
, formed by glow discharge decomposition method, photo-CVD method, etc.
Although the film forming method is not particularly limited, a protective layer having good properties can be obtained by forming the film using a plasma CVD method with a sputtering effect. A representative example of this is the patent application filed by the present inventor titled “Composite with Carbon Coating and Method for Manufacturing the Same” (
Patent application 1982-146929, filed on September 17, 1981,
JP-A-58-49609).

この方法は、平行平板型プラズマCVD装置の一方の電
極(カソード側)に基板を配設し、セルフバイアスを用
いて平坦面の上面に堆積させる製膜法であり、マイクロ
波励起方法により活性種を強く励起することによって高
硬度の炭素膜を得ることができる。
This method is a film forming method in which a substrate is placed on one electrode (cathode side) of a parallel plate plasma CVD device, and the active species are deposited on the top surface of the flat surface using a self-bias method. By strongly exciting the carbon film, a carbon film with high hardness can be obtained.

上記方法の場合は基体がシート形状のものの場合に好ま
しく適用されるが、たとえば第3図に示すようなプラズ
マCVD装置によれば、同様の保護層を支持体形状にと
られれることなく製膜することが可能である。
The above method is preferably applied when the substrate is in the form of a sheet, but for example, if a plasma CVD apparatus as shown in FIG. It is possible to do so.

図中(7)はプラズマCVD装置の真空槽であり、グー
1〜弁(9)によりロード/アンロード用予備室(7°
)と仕切られている。真空槽(7)内は排気系(20)
[圧力調整バルブ(21)、ターボ分子ポンプ(22)
、=20= ロータリーポンプ(23)より成る]により真空排気さ
れ、また一定圧力に保たれる様になっている。
In the figure, (7) is the vacuum chamber of the plasma CVD equipment, and the loading/unloading preliminary chamber (7°
). Inside the vacuum chamber (7) is the exhaust system (20)
[Pressure adjustment valve (21), turbo molecular pump (22)
, =20= rotary pump (23)] to evacuate and maintain a constant pressure.

真空槽(7)内には反応槽(50)が設けられている。A reaction tank (50) is provided within the vacuum tank (7).

反応槽は第4図(A)(B)に示す様な枠構造体(2)
(電極側より見て四角または六角形状を有している)と
、この両端の開口部を覆う様にしたフート(8)(8′
)、さらにこのフード(8) (8’ )に配設された
一対の同一形状を有する第−及び第二の電極(3)(3
’)(アルミニウム等の金属メツシュを用いている)よ
り構成されている。(30)は反応槽(50)内へ導入
するガスラインを示しており、下記に示す様な各種ガス
容器が接続されておりそれぞれ流量計(29)を経てノ
ズル(25)より反応槽(50)の中へ導入される。
The reaction tank has a frame structure (2) as shown in Figure 4 (A) and (B).
(has a square or hexagonal shape when viewed from the electrode side) and a foot (8) (8') that covers the openings at both ends.
), furthermore, a pair of first and second electrodes (3) (3) having the same shape are disposed on this hood (8) (8').
') (using metal mesh such as aluminum). (30) indicates a gas line introduced into the reaction tank (50), to which various gas containers as shown below are connected, each passing through a flow meter (29) and passing through a nozzle (25) into the reaction tank (50). ).

キャリアガス:l(2,Ar等 材料ガス:炭化水素気体(メタン、エ チレン等) 添加物ガス: Nli、 、N)13.pH3,+3.
+1.等エツチング用ガス二〇□等 枠構造体(2)中には、有機光導電層を形成した支持体
m ((1−1)、(1,−2)、・−(1−n))が
第3図(A)(B)の様に配置される。なおこのそれぞ
れの支持体は、後述するように第三の電極として配置さ
れる。
Carrier gas: 1 (2, Ar, etc. Material gas: Hydrocarbon gas (methane, ethylene, etc.) Additive gas: Nli, , N) 13. pH3, +3.
+1. Etching gas 20□ In the frame structure (2), a support m ((1-1), (1,-2), -(1-n)) on which an organic photoconductive layer is formed is contained. are arranged as shown in FIGS. 3(A) and 3(B). Note that each of these supports is arranged as a third electrode as described later.

電極(3)(3’)にはそれぞれ第一の交番電圧を印加
するための一対の電源(15) C(15−1,)、(
15−2)]が用意されている。第一の交番電圧の周波
数は1〜100MIlzである。
A pair of power supplies (15) C (15-1,), (
15-2)] are available. The frequency of the first alternating voltage is 1 to 100 MIlz.

これらの電源はそれぞれマツチングトランス(16−1
,) (+ 6−2)とつながる。このマツチングトラ
ンスでの位相は位相調整器により調整し、互いに180
゜または0°ずれて供給できる。すなわち対称型又は同
相型の出力を有している。
These power supplies each have a matching transformer (16-1
, ) (+6-2). The phase in this matching transformer is adjusted by a phase adjuster, and the phase is 180 degrees from each other.
Can be supplied with a deviation of 0° or 0°. That is, it has a symmetrical or in-phase output.

マツチングトランスの一端(4)及び他端(4′)それ
ぞれ第−及び第二の電極(3) (3’ )に連結され
ている。またトランスの出力側中点(5)は接地レベル
に保持されている。更にこの中点(5)と第三の電極す
なわち支持体(1) [(1−1)、(1−2)、= 
(1−n))またはそれらに電気的に連結するホルダ(
2)の間しこ第二の交番電圧を印加するための電源(1
7)が配設されている。この第二の交番電圧の周波数は
1〜500KHzである。
One end (4) and the other end (4') of the matching transformer are connected to the first and second electrodes (3) (3'), respectively. Further, the midpoint (5) on the output side of the transformer is held at the ground level. Further, between this midpoint (5) and the third electrode, that is, the support (1) [(1-1), (1-2), =
(1-n)) or a holder electrically connected to them (
2) Power supply (1) for applying the second alternating voltage
7) is provided. The frequency of this second alternating voltage is 1 to 500 KHz.

2] このようにして第一の交番電圧により、第一第二の電極
(3)(3’)間にプラズマが発生する。このプラズマ
は上下のフード(8) (8’ )、枠構造体(2)に
より取り囲まれているため、外側の外部空間(6)には
放出せず、また反応空間内でのプラズマ電位が均質にな
っている。ノズル(25)を通してこの反応空間に導入
された反応用ガスはプラズマのエネルギーにより分解さ
れ、第二の交番電圧により支持体に印加されている負自
己バイアス(−1,0〜600V)によって加速され、
支持体上にスパッタしつつ成膜するので緻密な構造を有
する被膜が得られる。
2] In this way, plasma is generated between the first and second electrodes (3) (3') by the first alternating voltage. Since this plasma is surrounded by the upper and lower hoods (8) (8') and the frame structure (2), it is not released into the external space (6), and the plasma potential within the reaction space is homogeneous. It has become. The reaction gas introduced into this reaction space through the nozzle (25) is decomposed by the energy of the plasma and accelerated by the negative self-bias (-1.0 to 600V) applied to the support by the second alternating voltage. ,
Since the film is formed on the support while sputtering, a film having a dense structure can be obtained.

この第一、第二の電極に印加する第一の交番電圧の出力
は13.56MHzの周波数の場合0.1〜IKWであ
り、第三の電極すなわち支持体に印加する第二の交番電
圧の出力は150KHzの周波数の場合約100Wであ
る。
The output of the first alternating voltage applied to the first and second electrodes is 0.1 to IKW at a frequency of 13.56 MHz, and the output of the second alternating voltage applied to the third electrode, that is, the support The output power is approximately 100W at a frequency of 150KHz.

また代表的に用いる反応用ガスはエチレンとNF3であ
りその割合はNF3/C2H4=1/20〜4/1であ
り、反応時の真空槽内圧力は0.001〜1.0tor
rである。
The reaction gases typically used are ethylene and NF3, the ratio of which is NF3/C2H4 = 1/20 to 4/1, and the pressure inside the vacuum chamber during the reaction is 0.001 to 1.0 torr.
It is r.

このような方法によりエチレンやNF3がプラズマ中で
分解させて支持体」二にNとFが添加されたダイヤモン
ド状薄膜(D L C:とも□いうが、添加物が添加さ
れたDLCを含めて本発明では炭素または炭素を主成分
とする被膜という。)が得られる。
By this method, ethylene and NF3 are decomposed in plasma to form a diamond-like thin film (also called DLC) containing N and F added to the support. In the present invention, a film (referred to as carbon or a film mainly composed of carbon) is obtained.

また、この製膜法は反応圧力、反応ガスの混合比等の製
膜条件を変えることによって得られる被膜の物性(硬度
、光透過率、比抵抗等)を比較的自由に変化させること
ができる。特に硬度は支持体に印加される負自己バイア
ス及び反応圧力によって大きく変化させることができる
。加えてこの方法では支持体を特に加熱する必要はなく
、150℃以下の低温で炭素または炭素を主成分とする
被膜を形成できるため、耐熱性の低い有機系感光層上に
も何ら支障なく保護層を製膜することが可能である。
Additionally, this film-forming method allows the physical properties (hardness, light transmittance, specific resistance, etc.) of the resulting film to be relatively freely changed by changing film-forming conditions such as reaction pressure and reaction gas mixture ratio. . In particular, the hardness can be greatly varied by the negative self-bias and reaction pressure applied to the support. In addition, this method does not require any particular heating of the support, and can form carbon or carbon-based films at low temperatures below 150°C, so it can protect organic photosensitive layers with low heat resistance without any problems. It is possible to deposit layers.

この炭素または炭素を主成分とした保護層の膜厚は10
0人〜10μmであり、好ましくは1000人〜2μm
である。
The film thickness of this carbon or carbon-based protective layer is 10
0 to 10 μm, preferably 1000 to 2 μm
It is.

炭素または炭素を主成分とした保護層にはフッ素のごと
きハロゲン元素、窒素、リン、ホウ素などの添加物を必
要に応じて添加することもでき、その濃度は膜の深さ方
向に対し、均一であっても勾配を設けてもかまわない。
Additives such as halogen elements such as fluorine, nitrogen, phosphorus, and boron can be added to carbon or a protective layer mainly composed of carbon, and the concentration is uniform in the depth direction of the film. However, a gradient may be provided.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例及び比較例によって本発明を更に詳細に説
明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例1 アルミニウム製シリンダー状支持体(外径4.0nmφ
、長さ250mm)に下記組成比の混合物をボールミル
で12時間分散し調製した下引層形成液を乾燥後の膜厚
が!/:J2戸になる様に浸漬法で塗工し下引層を形成
した。
Example 1 Aluminum cylindrical support (outer diameter 4.0 nmφ
, length 250 mm) by dispersing a mixture with the following composition ratio in a ball mill for 12 hours, and then drying the undercoat layer forming liquid. /: A subbing layer was formed by applying the coating using a dipping method so as to form J2 units.

〔下引層形成液〕[Subbing layer forming liquid]

TiO2(6原産業社製タイベーク)   1重量部ポ
リアミド樹脂(東し社製CM−8000)  1メタノ
ール            25この下引層上に下記
処方の電荷発生層塗工液を浸漬塗工し、120℃で10
分間乾燥させ、膜厚約0.15μmの電荷発生層を形成
した。
TiO2 (Tie Bake manufactured by 6 Hara Sangyo Co., Ltd.) 1 part by weight Polyamide resin (CM-8000 manufactured by Toshisha Co., Ltd.) 1 Methanol 25 A charge generation layer coating solution having the following formulation was dip coated on this subbing layer and heated at 120°C. 10
It was dried for a minute to form a charge generation layer with a thickness of about 0.15 μm.

〔電荷発生層塗工液〕[Charge generation layer coating liquid]

下記構造のトリスアゾ顔料     30重量部シクロ
へキサノン         360上記混合物をボー
ルミルで72時間分散した後、さらにシクロへキサノン
:メチルエチルケトン−1=1(重量比)の混合溶媒5
00重量部で希釈調製する。
Trisazo pigment with the following structure: 30 parts by weight cyclohexanone 360 After dispersing the above mixture in a ball mill for 72 hours, a mixed solvent of cyclohexanone:methyl ethyl ketone-1=1 (weight ratio) 5
00 parts by weight.

ついで、この電荷発生J容土に下記処方の電荷輸送層塗
工液を乾燥後の膜厚が約20μmになる様に浸漬塗工し
て電荷輸送層を設けた。
Next, a charge transport layer was provided by dip coating a charge transport layer coating solution having the following formulation on this charge generating J-containing soil so that the film thickness after drying was approximately 20 μm.

〔電荷輸送層塗工液〕[Charge transport layer coating liquid]

テトラヒドロフラン        80このようにし
て作製した電荷輸送層のビッカース硬度Hv(I )を
測定したところ約20Kg/mm2であった。
Tetrahydrofuran 80 The Vickers hardness Hv (I) of the charge transport layer thus prepared was measured and found to be approximately 20 Kg/mm2.

更にこの電荷輸送層上に第3図に示す前述のプラズマC
VD装置を用いて下記条件により炭素または炭素を主成
分とする保護層を製膜した。
Further, on this charge transport layer, the above-mentioned plasma C shown in FIG.
A protective layer containing carbon or carbon as a main component was formed using a VD apparatus under the following conditions.

〔保護層製膜条件〕[Protective layer forming conditions]

NF3流量       :  50 SCCMC,H
4流量      : 150 SCCM反応圧力  
    : 0.02torr第一の交番電圧出力 :
 4001113.56阿Hzバイアス電圧(直流分)
 : −80Vこのようにして得た炭素または炭素を主
成分とした保護層のビッカース硬度Hv(II)は50
0kg/mm”、膜厚は1μmであった。
NF3 flow rate: 50 SCCMC,H
4 Flow rate: 150 SCCM reaction pressure
: 0.02torr first alternating voltage output :
4001113.56 AHz bias voltage (DC component)
: -80V The Vickers hardness Hv (II) of carbon or a protective layer mainly composed of carbon thus obtained is 50.
The film thickness was 1 μm.

以上の操作により実施例1の電子写真用感光体を作製し
た。
The electrophotographic photoreceptor of Example 1 was produced by the above operations.

実施例2 炭素または炭素を主成分とする保護層の製膜条件を下記
のものに変更した以外は実施例1と全く同様にして実施
例2の電子写真用感光体を作製した。
Example 2 An electrophotographic photoreceptor of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1, except that the film forming conditions for carbon or a protective layer containing carbon as a main component were changed to the following.

〔保護層製膜条件〕[Protective layer forming conditions]

NF3流量      :50SC,C阿C2■14流
量      : 150 SCCMCC性     
  : 0 、05torr第一の交番電圧出力 : 
400W(1,3,56MHz)バイアス電圧(直流分
)ニー150V この製膜条件による保護層のビッカース硬度)1v(■
)は約1500Kg/mm2であり、膜厚は約1μmで
あった。
NF3 flow rate: 50SC, CAC2■14 flow rate: 150 SCCMCC property
: 0,05torr first alternating voltage output:
400W (1, 3, 56MHz) Bias voltage (DC component) knee 150V Vickers hardness of the protective layer under these film forming conditions) 1V (■
) was about 1500 Kg/mm2, and the film thickness was about 1 μm.

8一 実施例3 炭素または炭素を主成分とする保護層の製膜条件を下記
のものに変更した以外は実施例1と全く同様にして実施
例3の電子写真用感光体を作製した。
81 Example 3 An electrophotographic photoreceptor of Example 3 was produced in exactly the same manner as in Example 1, except that the film forming conditions for carbon or a protective layer containing carbon as a main component were changed to the following.

〔保護M製膜条件〕[Protection M film forming conditions]

NF3流量      :  50 SCCMC2■1
4流量      : 150 SCCMCC性   
    :0,03torr第一の交番電圧出力 : 
400u(13,56Mtlz)バイアス電圧(直流分
)ニー300V この製膜条件による保護層のビッカース硬度1(v(I
I)は約2000Kg/mm”であり、膜厚は約1μm
であった。
NF3 flow rate: 50 SCCMC2■1
4 Flow rate: 150 SCCMCC property
: 0.03 torr first alternating voltage output :
400u (13,56Mtlz) bias voltage (DC) knee 300V Vickers hardness of the protective layer 1 (v (I
I) is approximately 2000Kg/mm'', and the film thickness is approximately 1μm
Met.

実施例4 炭素または炭素を主成分とする保護層の製膜条件を下記
のものに変更した以外は実施例1と全く同様にして実施
例4の電子写真用感光体を作製した。
Example 4 An electrophotographic photoreceptor of Example 4 was produced in exactly the same manner as in Example 1, except that the film forming conditions for carbon or a protective layer containing carbon as a main component were changed to the following.

〔保護層製膜条件〕[Protective layer forming conditions]

NF3流量      :  50 SCCMC,、H
4流量      : 150 SCCMCC性   
    :O,O]、torr第一の交番電圧出力 :
 400W(13,56M1(z)バイアス電圧(直流
分)ニー500V この製膜条件による保護層のビッカース硬度Hv(n)
は約2500Kg/mm2であり、膜厚は約1μmであ
った。
NF3 flow rate: 50 SCCMC,,H
4 Flow rate: 150 SCCMCC property
:O, O], torr first alternating voltage output:
400W (13,56M1(z) bias voltage (DC component) knee 500V Vickers hardness of the protective layer under these film forming conditions Hv(n)
was about 2500 Kg/mm2, and the film thickness was about 1 μm.

比較例上 炭素または炭素を主成分とする保護層の製膜条件を下記
のものに変更した以外は実施例1と全く同様にして比較
例1の電子写真用感光体を作製した。
Comparative Example An electrophotographic photoreceptor of Comparative Example 1 was prepared in exactly the same manner as in Example 1, except that the film forming conditions for carbon or a protective layer containing carbon as a main component were changed to the following.

〔保護層製膜条件〕[Protective layer forming conditions]

NF3流量      :  50 SCCMC,H4
流量      : 150 SCCMCC性    
   :0.05torr第一の交番型圧出カニ 40
0W(13,56M)Iz)バイアス電圧(直流分)二
〜600V この製膜条件による保護層のビッカース硬度Hv(II
)は約3000Kg/mm2であり、II!A厚は約1
μmであった。
NF3 flow rate: 50 SCCMC, H4
Flow rate: 150 SCCMCC
:0.05torr first alternating type extrusion crab 40
0W (13,56M) Iz) bias voltage (DC component) 2 to 600V Vickers hardness Hv (II
) is about 3000Kg/mm2, and II! A thickness is approximately 1
It was μm.

この様にして作製した感光体の表面保護層の接着強度を
次の方法(テープ剥離テス1〜)で評価した。
The adhesive strength of the surface protective layer of the photoreceptor thus produced was evaluated by the following method (tape peel test 1~).

すなわち、粘着テープ(住人スリーエム社製、スコッチ
メンディングテープ810)を感光体表面に貼りつけた
後、ひきはがし、表面保護層が剥離するかどうかを評価
した。その結果を表−]に示す。
That is, an adhesive tape (Scotch Mending Tape 810, manufactured by Jujutsu 3M Co., Ltd.) was applied to the surface of the photoreceptor and then peeled off to evaluate whether the surface protective layer would peel off. The results are shown in Table-].

以上の結果から明らかなように、有機系感光層と表面保
護層とのビッカース硬度差Δltvが2500Kg/m
m2を越えると表面保護層の接着性が低下してくること
がわかる。
As is clear from the above results, the Vickers hardness difference Δltv between the organic photosensitive layer and the surface protective layer is 2500 kg/m.
It can be seen that when the thickness exceeds m2, the adhesiveness of the surface protective layer decreases.

更に、これらの感光体を実際の複写プロセス(レーザー
プリンター)に塔載し、繰り返し画像を採取した結果、
比較例1の感光体は2000枚の時点で保護層に細かい
クラックを生じ、次第に円周方向で剥離が認められるよ
うになった。また黒スジ状の異常画像の発生を伴うよう
になり、実用に耐えなくなった。
Furthermore, as a result of mounting these photoreceptors in an actual copying process (laser printer) and repeatedly taking images,
In the photoreceptor of Comparative Example 1, fine cracks appeared in the protective layer after 2000 sheets were printed, and peeling gradually became observed in the circumferential direction. In addition, abnormal images such as black stripes began to appear, making it unsuitable for practical use.

一方、実施例工〜4の感光体には剥離、クラックは全く
認められず、2万枚を越えても良好な画像品質を維持し
た。
On the other hand, no peeling or cracking was observed in the photoreceptors of Examples 4 to 4, and good image quality was maintained even after more than 20,000 sheets were printed.

なお、2万枚時点での表面保護層の膜厚減少量を精密段
差計で評価した結果、表−2のようになった。
The amount of decrease in the thickness of the surface protective layer after 20,000 sheets was evaluated using a precision level difference meter, and the results are shown in Table 2.

表−2 〔発明の効果〕 本発明の電子写真用感光体は、有機系感光層と炭素また
は炭素を主成分とする保護層とのビッカース硬度の差を
2500Kg/mm2′以下に限定したことから、従来
品のように保護層の剥離やクラックの発生がないため繰
り返し使用しても良好な複写画像を形成でき、その耐久
性が著しく向上させたものである。
Table 2 [Effects of the Invention] The electrophotographic photoreceptor of the present invention is characterized by the fact that the difference in Vickers hardness between the organic photosensitive layer and the carbon or carbon-based protective layer is limited to 2500 Kg/mm2' or less. Unlike conventional products, the protective layer does not peel off or cracks occur, so good copy images can be formed even after repeated use, and its durability is significantly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の電子写真用感光体の構成を示す模式断
面図であり、第2図(a)及び(b)は他の実施態様の
構成を示す模式断面図である。第3図は表面保護層の形
成の際に用いるプラズマCVD装置の1例の説明図であ
り、第4図はプラズマCVD装置の枠構造体(2)の平
面図である。 1・・・支持体、 2・・・下引層、 3・ 電荷発生層、 4・・・電 荷輸送層、 5・ 表面保護層、 6・・感光層(単層型)。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing the structure of the electrophotographic photoreceptor of the present invention, and FIGS. 2(a) and 2(b) are schematic sectional views showing the structure of another embodiment. FIG. 3 is an explanatory diagram of an example of a plasma CVD apparatus used in forming a surface protective layer, and FIG. 4 is a plan view of a frame structure (2) of the plasma CVD apparatus. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Support, 2... Undercoat layer, 3. Charge generation layer, 4... Charge transport layer, 5. Surface protective layer, 6. Photosensitive layer (single layer type).

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)導電性支持体上に少なくとも有機系感光層及び表
面保護層を積層した構成の電子写真用感光体において、
表面保護層は炭素又は炭素を主成分とし、かつ該表面保
護層と有機系感光層とのビッカース硬度の差ΔHvが2
500Kg/mm^2以下であることを特徴とする電子
写真用感光体。
(1) In an electrophotographic photoreceptor having a structure in which at least an organic photosensitive layer and a surface protective layer are laminated on a conductive support,
The surface protective layer contains carbon or carbon as a main component, and the difference in Vickers hardness between the surface protective layer and the organic photosensitive layer ΔHv is 2.
A photoreceptor for electrophotography, characterized in that it is 500Kg/mm^2 or less.
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