JPH02210276A - Prober - Google Patents

Prober

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JPH02210276A
JPH02210276A JP1031627A JP3162789A JPH02210276A JP H02210276 A JPH02210276 A JP H02210276A JP 1031627 A JP1031627 A JP 1031627A JP 3162789 A JP3162789 A JP 3162789A JP H02210276 A JPH02210276 A JP H02210276A
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JP
Japan
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wafer
test head
wafers
prober
stage
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JP1031627A
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Tsutomu Yonebayashi
米林 勉
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Tokyo Electron Ltd
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  • Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To deal with wafers of many kinds of size by a small-sized device by enabling a test head to move on an XY stage horizontally in at least one direction. CONSTITUTION:The test head 3 is fixed to a test head driving part 5. A column 54 is moved along a support rail 55 in the X direction so that the contact stylus of a probe card 32 fixed to the head 3 is at a measurement position P1. Here, a wafer which is already mounted on a chuck top 21 and aligned is aligned with the stylus and while the XY stage 2 is driven, for example, the right half part of the wafer W is measured. Then the column 54 is moved so that the contact stylus is at a measurement position P2, thereby measuring the left half of the wafer W similarly. The interval between the positions P1 and P2 is nearly a half as large as the width of the wafer W. In this case, a probing area can be narrowed down by the overlap of the wafer W. The interval between the positions P1 and P2 is selected properly to handle wafers W of many kinds of size.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はウェハ上に形成されたチップの電気的特性を
検査するためのプローバに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a prober for testing the electrical characteristics of chips formed on a wafer.

[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]従来、
プローバは第4図に示すように検査すべきウェハWをロ
ーダ部50より搬送し、XYステージ60のチャックト
ップ61に載置した後、アライメント部でXYステージ
60のXY軸とウェハのスクラブラインとの位置合わせ
を行ない、次いでブロービング部70でXYステージ6
0を駆動しなからウェハWの各チップごとにテストヘッ
ド90側のコンタクトピン(プローブカード80)と位
置合わせ及びコンタクトを行なうものである。
[Prior art and problems to be solved by the invention] Conventionally,
As shown in FIG. 4, the prober transports the wafer W to be inspected from the loader section 50, places it on the chuck top 61 of the XY stage 60, and then aligns the XY axis of the XY stage 60 with the scrub line of the wafer in the alignment section. Then, the XY stage 6 is aligned at the brobbing section 70.
0, and then aligns and contacts each chip on the wafer W with the contact pins (probe card 80) on the test head 90 side.

ここで、テストヘッド90はプローバ本体に対し。Here, the test head 90 is attached to the prober body.

アーム91を介して取り付けられており、非測定時には
プローバ本体から離反した待機位置に移動することが可
能であるが、測定時にはプローバ本体のトッププレート
上に載置され、コンタクトピンを備えたプローブカード
、80と電気的に接続させる。
It is attached via an arm 91, and can be moved to a standby position away from the prober body when not measuring, but when measuring, it is placed on the top plate of the prober body and a probe card equipped with contact pins. , 80.

従って、測定時においてはテストヘッド90及びプロー
ブカード80はプローバ本体に対し固定されたものであ
り、もっばらウェハ側を移動することによりコンタクト
ピンとチップとのコンタクトが図られている。このため
、プローブカード80のコンタクトピンのある位置Pを
固定の状態でウェハ上のすべてのチップを測定のため移
動させるためには、プロービングエリアとして第2図に
示すように最低でもウェハサイズの4倍の面積を必要と
し、そのようにウェハを駆動するXYステ−ジとしても
大規模なものが必要であった。
Therefore, during measurement, the test head 90 and probe card 80 are fixed to the prober body, and contact between the contact pins and the chip is achieved by moving mostly on the wafer side. Therefore, in order to move all the chips on the wafer for measurement while keeping the position P of the contact pins of the probe card 80 fixed, the probing area must be at least 4 wafer-sized as shown in FIG. This required double the area and required a larger XY stage to drive the wafer.

特に、近年8インチ等の大型サイズのウェハが開発され
るに至り、このような大型サイズのウェハに対応するプ
ローバは大型にならざるを得ないし、又、従来の5.6
インチのウェハ用のプローバでは大型ウェハに対応する
ことができなかった。
In particular, as large-sized wafers such as 8-inch wafers have been developed in recent years, probers that can handle such large-sized wafers have to be large, and the conventional 5.6-inch
Probers designed for inch wafers could not handle large wafers.

特にウェハ状態での検査はクリーンルームで実行する必
要があるため、クリーンルームの有効利用の面からも1
台のプローバの占有体積の増加は極めて大きな問題とな
っている。
In particular, inspection of wafers must be carried out in a clean room, so it is important to make effective use of the clean room.
The increase in the volume occupied by the prober on the stand has become an extremely serious problem.

[発明の目的] この発明は、このような従来の問題点に鑑みなされたも
ので、多種のサイズのウェハに対応することができ、更
に、装置全体として小型化を可能にするプローバを提供
することを目的とする。
[Object of the Invention] The present invention has been made in view of such conventional problems, and provides a prober that can handle wafers of various sizes and further allows miniaturization of the entire device. The purpose is to

[課題を解決するための手段] このような問題点を解決する本発明のプローバは、XY
ステージにチャックされた被処理体にテストヘッドを電
気的に接続して前記被処理体を検査するプローバにおい
て、前記テストヘッドを前記ステージに対し少なくとも
一方向に水平移動可能にしたものである。
[Means for Solving the Problems] The prober of the present invention that solves these problems is
In a prober that electrically connects a test head to a workpiece chucked on a stage to inspect the workpiece, the test head is horizontally movable in at least one direction with respect to the stage.

[作用] テストヘッド側を少なくとも一方向の水平に移動するこ
とによってウェハ側の水平移動量は相対的に小さくなる
。従って、同サイズのウェハを測定する場合であれば、
それが従来必要であった移動面積より狭い移動面積でプ
ローブすることが可能となり、プローバを小型化するこ
とが可能である。又、あるサイズ以下のウェハを測定す
るように設計されたプローバであっても、テストヘッド
側を水平に移動することによってより大型のウェハを測
定することができる。
[Operation] By horizontally moving the test head side in at least one direction, the amount of horizontal movement on the wafer side becomes relatively small. Therefore, when measuring wafers of the same size,
This makes it possible to probe with a smaller moving area than conventionally required, and it is possible to downsize the prober. Further, even if the prober is designed to measure wafers of a certain size or less, it is possible to measure larger wafers by horizontally moving the test head side.

[実施例コ 以下1本発明の好ましい実施例を図面を参照して説明す
る。
[Embodiment] A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

プローバ(第1図)は、複数のウェハWを収納したカセ
ットから一枚ずつウェハを取り出して搬送するとともに
測定後のウェハをカセットに戻すためローダ部1、ウェ
ハを搭載したチャックトップ21を水平方向に駆動する
XYステージ2、ウェハのスクラブラインをXYステー
ジ2のXY軸と整合するためのアライメント部(図示せ
ず)。
The prober (Fig. 1) takes out wafers one by one from a cassette containing a plurality of wafers W, transports them, and returns the wafers to the cassette after measurement. an alignment section (not shown) for aligning the scrub line of the wafer with the XY axes of the XY stage 2;

アライメント後のウェハをテストヘッド3と位置合わせ
しながらその電気的特性を測定するためのブロービング
部4及びテストヘッド3を能動するテストヘッド邸動部
5から成る。
It consists of a probing section 4 for measuring the electrical characteristics of the wafer after alignment while aligning it with the test head 3, and a test head housing section 5 for activating the test head 3.

ローダ部1及びアライメント部の構成については公知で
あるのでここでは説明を省略する。
The configurations of the loader section 1 and the alignment section are well known and will not be described here.

ブロービング部4は従来のプローバにおいて本体のトッ
ププレートに固定されているインサートリング部は備え
られていない。その代わり、インサートリング部31は
テストヘッド3に固定されている。従って、インサート
リング部31はテストヘッド3と一体に移動する。この
インサートリング部31は、ウェハWのチップと接触す
るための接触針を備えたプローブカード32が取り付け
られるもので、その他、適宜プローブカード32の回転
機構、不良チップにマークを付すためのマーキング機構
等を備える。
The probing section 4 does not include the insert ring section fixed to the top plate of the main body in the conventional prober. Instead, the insert ring part 31 is fixed to the test head 3. Therefore, the insert ring portion 31 moves together with the test head 3. This insert ring part 31 is attached with a probe card 32 equipped with a contact needle for contacting the chips of the wafer W, and also includes a rotation mechanism for the probe card 32 and a marking mechanism for marking defective chips as appropriate. Equipped with etc.

テストヘッド3はアーム51を介してテストヘッド湘動
部5に固定される。テストヘッド卵動部5は、例えば第
2図に示すようにアーム51を支承する水平軸53と、
水平軸53を両端で支える支柱54と、支柱54をX方
向に摺動可能に支持する支持レール55と図示しない駆
動手段から成る。
The test head 3 is fixed to the test head floating section 5 via an arm 51. The test head moving part 5 includes, for example, a horizontal shaft 53 that supports an arm 51 as shown in FIG.
It consists of a column 54 that supports the horizontal shaft 53 at both ends, a support rail 55 that supports the column 54 so as to be slidable in the X direction, and a drive means (not shown).

支柱54は例えばステップモータ等の即動手段によって
所定の精度で支持レール55に沿って移動することがで
き、これによりテストヘッド3及びプローブカード31
をブロービング部4のX方向に移動することができる。
The support column 54 can be moved along the support rail 55 with a predetermined accuracy by a quick-acting means such as a step motor, so that the test head 3 and the probe card 31
can be moved in the X direction of the probing section 4.

テストヘッド3は手動あるいは他の駆動手段によって水
平軸53を中心として回動させることができ、非測定時
にはブロービング部4から離反する待機位置に移動する
ことができる。この位置でプローブカード32の交換、
インサートリング31の保守、点検を行うことができる
The test head 3 can be rotated about the horizontal axis 53 manually or by other driving means, and can be moved to a standby position away from the probing section 4 when not making measurements. At this position, replace the probe card 32.
The insert ring 31 can be maintained and inspected.

又、測定時にはテストヘッド3を逆に回動させてブロー
ビング部4上の所定位置に移動する。このテストヘッド
3の即動機構として1本実施例において水平軸53は図
示しないモータ等の卵動手段及び該モータの回転を水平
軸53に伝達する回転伝達手段56を備える。この回転
伝達手段56は好ましくは特願昭62−134601号
に記載されるようなもので省スペース、省労力を可能に
するものである。
Further, during measurement, the test head 3 is rotated in the opposite direction and moved to a predetermined position above the blobbing section 4. In this embodiment, the horizontal shaft 53 is equipped with a moving means such as a motor (not shown) and a rotation transmitting means 56 for transmitting the rotation of the motor to the horizontal shaft 53 as a quick-acting mechanism of the test head 3. The rotation transmitting means 56 is preferably of the kind described in Japanese Patent Application No. 134601/1983, which saves space and labor.

このような回転伝達手段によって水平軸53を回転させ
ることにより、水平軸53に固定されたアーム51を介
してテストヘッド3を非測定時の待機位置あるいは測定
時の位置に移動することができる。更に、テストヘッド
3の測定時の位置は支柱54を支持レール55に沿って
X方向に移動することにより変えることができる。
By rotating the horizontal shaft 53 using such a rotation transmission means, the test head 3 can be moved to a standby position during non-measurement or a position during measurement via the arm 51 fixed to the horizontal shaft 53. Furthermore, the position of the test head 3 during measurement can be changed by moving the column 54 along the support rail 55 in the X direction.

以上のような構成におけるブロービング方法について説
明する。まず、テストヘッド3を回動させて測定位置に
セットする前にあるいはセットした後、支柱54を支持
レール55に沿ってX方向に移動させ、ステトヘッド3
に固定されたプローブカード31の接触針が第1の測定
位Hp工(第3図)となるように゛する。
A blobbing method in the above configuration will be explained. First, before or after the test head 3 is rotated and set at the measurement position, the column 54 is moved in the X direction along the support rail 55, and the test head 3 is moved in the X direction along the support rail 55.
The contact needle of the probe card 31 fixed to the probe card 31 is placed at the first measurement position Hp (FIG. 3).

この位置でチャックトップに搭載されてアライメントの
済んだウェハWを針合わせし、XYステージ2を駆動し
ながら、例えばウェハWの右半分について通常の測定を
行う。次いで、支柱54を移動させてプローブカード3
1の接触針が第2の測定位置P2となるようにする。P
工とP2との間隔はほぼ測定するウェハの幅の半分が好
ましい。
At this position, the aligned wafer W mounted on the chuck top is aligned, and while the XY stage 2 is being driven, a normal measurement is performed on, for example, the right half of the wafer W. Next, move the support column 54 to attach the probe card 3.
The first contact needle is placed at the second measurement position P2. P
It is preferable that the distance between P2 and P2 be approximately half the width of the wafer to be measured.

測定位置P2で同じウェハについて針合わせを行ない、
その左半分について同様の測定を行う。尚、接触針とチ
ップとの針合わせは通常マイクロスコープ又はTVカメ
ラで行うが、これら装置についても移動可能にしておく
ことが必要である。
Perform needle alignment on the same wafer at measurement position P2,
Similar measurements are made on the left half. Note that alignment of the contact needle and the chip is usually performed using a microscope or a TV camera, but these devices also need to be movable.

この場合、第3図からも明らかなように、ウェハの重な
り分だけブロービングエリアを狭くすることが可能であ
る。
In this case, as is clear from FIG. 3, it is possible to narrow the blobbing area by the amount of overlap between the wafers.

又、比較的サイズの小さいウェハを測定する場合は2つ
の測定位置P、・P2のいずれかの位置あるいは中間の
位置で測定を行い、次により大型のウェハを測定する場
合は、例えば2つの測定位置で測定することとし各測定
位置間の間隔を適宜選択することによって、多種のサイ
ズのウェハに対応することが可能である。
In addition, when measuring a relatively small wafer, the measurement is performed at one of the two measurement positions P, P2, or at an intermediate position, and when measuring a larger wafer, for example, two measurement positions are used. By measuring at different positions and appropriately selecting the interval between each measuring position, it is possible to handle wafers of various sizes.

尚、本実施例においては、テストヘッド3をX方向のみ
に水平移動する構成について述べたが、Y方向に移動で
きる構成とすることも可能である。
In this embodiment, a configuration in which the test head 3 is horizontally moved only in the X direction has been described, but a configuration in which the test head 3 can be moved in the Y direction is also possible.

この場合1通常のXYレールと同様に支柱54をY方向
の支持レールに摺動可能に取付けると共に、Y方向の支
持レールをX方向の支持レール55によって支持する構
成とすればよい。
In this case 1, the support column 54 may be slidably attached to the support rail in the Y direction as in the case of a normal XY rail, and the support rail in the Y direction may be supported by the support rail 55 in the X direction.

これによって、ブロービングエリアの幅と奥行の両方向
の調整が可能となる。又、テストヘッド3をY方向のみ
に移動する構成とすることも可能であることはいうまで
もない。
This allows adjustment of both the width and depth of the blobbing area. It goes without saying that it is also possible to configure the test head 3 to move only in the Y direction.

更に、上述したプローバにおいてはテストヘッド3とイ
ンサートリング31(プローブカード32)を一体にし
であるが、インサートリングをテストヘッドと連動しで
あるいは独自に移動可能な状態でトッププレー1・側に
取り付けてもよい。
Furthermore, in the above-mentioned prober, the test head 3 and the insert ring 31 (probe card 32) are integrated, but the insert ring can be attached to the top play 1 side in a state where it can move in conjunction with the test head or independently. You can.

[発明の効果コ 以上の説明からも明らかなように1本発明においては従
来、固定的であったテストヘッド及びプローブカードを
ブロービングエリアに対し水平移動する構成としたので
、相対的にウェハの移動量を減らすことができる。従っ
てブロービングエリアの面積を狭くしプローバを小型化
することが可能であり、又、多種サイズのウェハに対応
することが可能である、更に、独自のテストヘッド駆動
機構を備えているのでテストヘッドの駆動が容易である
[Effects of the Invention] As is clear from the above explanation, in the present invention, the test head and probe card, which were conventionally fixed, are moved horizontally with respect to the blowing area, so that the wafer can be moved relative to the wafer. The amount of movement can be reduced. Therefore, it is possible to reduce the size of the prober by narrowing the area of the probing area, and it is possible to handle wafers of various sizes.Furthermore, since it is equipped with a unique test head drive mechanism, the test head Easy to drive.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のプローバの一実施例を示す図、第2図
はテストヘッド駆動機構の実施例を示す図、第3図は本
発明のプローバによるブロービング方法の一実施例を示
す説明図、第4図は従来のプローバを示す図である。 2・・・・・・・XYステージ 3・・・・・・・テストヘッド 32・・・・・ブローブ力−ド 5・・・・・・・テストヘッド駆動機構W・・・・・・
・ウェハ(被処理体)
Fig. 1 is a diagram showing an embodiment of the prober of the present invention, Fig. 2 is a diagram showing an embodiment of the test head drive mechanism, and Fig. 3 is an illustration showing an embodiment of the probing method using the prober of the present invention. 4 are diagrams showing a conventional prober. 2...XY stage 3...Test head 32...Brobe force 5...Test head drive mechanism W...
・Wafer (object to be processed)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] XYステージにチャックされた被処理体にテストヘッド
を電気的に接続して前記被処理体を検査するプローバに
おいて、前記テストヘッドを前記ステージに対し水平移
動可能にしたことを特徴とするプローバ。
A prober that electrically connects a test head to a workpiece chucked on an XY stage to inspect the workpiece, characterized in that the test head is movable horizontally with respect to the stage.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005521066A (en) * 2002-03-22 2005-07-14 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド Test probe alignment device
JP2009528511A (en) * 2006-04-03 2009-08-06 ムルティテスト・エレクトロニッシェ・ジステーメ・ゲーエムベーハー Electronic component testing equipment
JP2013201390A (en) * 2012-03-26 2013-10-03 Tokyo Electron Ltd Probe device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60249344A (en) * 1984-05-24 1985-12-10 Nec Corp Inspecting device for semiconductor device
JPS6350034A (en) * 1986-08-20 1988-03-02 Tokyo Electron Ltd Prober device
JPH02119156A (en) * 1988-10-27 1990-05-07 Nec Yamagata Ltd Testing method for wafer

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60249344A (en) * 1984-05-24 1985-12-10 Nec Corp Inspecting device for semiconductor device
JPS6350034A (en) * 1986-08-20 1988-03-02 Tokyo Electron Ltd Prober device
JPH02119156A (en) * 1988-10-27 1990-05-07 Nec Yamagata Ltd Testing method for wafer

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005521066A (en) * 2002-03-22 2005-07-14 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド Test probe alignment device
JP4803959B2 (en) * 2002-03-22 2011-10-26 エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド Test probe alignment device
JP2009528511A (en) * 2006-04-03 2009-08-06 ムルティテスト・エレクトロニッシェ・ジステーメ・ゲーエムベーハー Electronic component testing equipment
JP2013201390A (en) * 2012-03-26 2013-10-03 Tokyo Electron Ltd Probe device
KR20130109063A (en) * 2012-03-26 2013-10-07 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Probe apparatus
TWI576589B (en) * 2012-03-26 2017-04-01 Tokyo Electron Ltd Probe device

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