JPH02207890A - 塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法 - Google Patents

塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法

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JPH02207890A
JPH02207890A JP2695689A JP2695689A JPH02207890A JP H02207890 A JPH02207890 A JP H02207890A JP 2695689 A JP2695689 A JP 2695689A JP 2695689 A JP2695689 A JP 2695689A JP H02207890 A JPH02207890 A JP H02207890A
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JP
Japan
Prior art keywords
arsenic
alkaline earth
earth metal
soln
iron chloride
Prior art date
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Pending
Application number
JP2695689A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumio Mitsuyama
光山 文夫
Kunihiko Suzuki
邦彦 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH02207890A publication Critical patent/JPH02207890A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00Nature of the contaminant
    • C02F2101/10Inorganic compounds
    • C02F2101/103Arsenic compounds

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は例えば鉄、銅、ニッケル、あるいはそれらを主
体とする合金を塩化第二鉄水溶液を用いてエツチングす
る際に生ずる廃液、あるいは該廃液から再往される再生
液等のヒ素を含有する塩化鉄水溶液からヒ素を除去する
゛方法に関するものである。
〔発明の背景〕
電子機器に用いられるプリント基板、リードフレーム、
シャドウマスク等は鉄、銅、ニッケル、あるいはそれら
の合金を塩化第二鉄水溶液にょうてエツチングすること
により製造される。このようなエツチング工程において
はエツチング廃液が生ずる。このようなエツチング廃液
は塩化第二鉄、あるいは塩化第一鉄と塩化第二鉄とを含
む水溶液であり、この廃液は通常廃棄されるかあるいは
含有する塩化第一鉄を酸化して塩化第二鉄とし、このよ
うにして処理された液は再びエツチング液としてエツチ
ングに用いるか、または排水処理における沈降剤として
再利用する。しかしながら上記エツチング廃液にはエツ
チングの際に金属または合金から溶出するヒ素が多く含
まれるようになり、該廃液をそのまま廃棄あるいは再生
することは出来なくなってきた。
〔従来の技術〕
このようなヒ素を含むエツチング廃液からヒ素を除去す
る手段としては、塩化第一鉄に還元した後、金属鉄を添
加することにより重金属を除去する公知の方法(特公昭
56−36127号公報)を利用してエツチング廃液中
の塩化第二鉄を還元剤で処理して塩化第一鉄に還元し、
これを上記の方法によって処理する方法が考えられる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら上記従来技術においては還元と金属鉄との
反応という二段階の工程が必要であり処理時間が長くな
るし、還元剤も必要である。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は上記従来の課題を解決する手段として。
ヒ素を含有する塩化鉄水溶液を固体状のアルカリ土類金
属酸化物と接触させ、ついで該アルカリ土類金属酸化物
を分離する塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法を提供する
ものである。
上記本発明を更に詳しく述べれば、本発明の対象である
塩化鉄水溶液とは例えばエツチング廃液または再生エツ
チング液であり、塩化第二鉄あるいは塩化第一鉄と塩化
第二鉄とを含む水溶液であり、該水溶液にはヒ素が含有
される。また該水溶液に鉱酸が存在すると、添加するア
ルカリ土類金属酸化物と反応を起すので、鉱酸は含有さ
れないことが望ましい、該水溶液中に多量の鉱酸を含ん
でいる場合は鉄材を予め加え反応除去する。エツチング
廃液の場合は該水溶液中に含まれる塩化第二鉄の濃度は
略20〜40重量%、塩化第一鉄の濃度は略5〜20重
量%、ヒ素の濃度は略2〜Spp園程度で、PHは1以
下である。
上記塩化鉄水溶液に添加されるアルカリ土類金属酸化物
としては、酸化ベリリウム、酸化カルシウム、酸化マグ
ネシウム、酸化ストロンチウム。
酸化バリウム等がある。上記アルカリ土類金属酸化物の
うち、酸化マグネシウムがヒ素の除去効果が大きく好ま
しい。
上記アルカリ土類金属酸化物は通常粉末状1粒状やフレ
ーク状の形状で用いられるが、特に表面積の大きい粉末
状は望ましい形状である。しかしながら粒状、フレーク
状のものでも上記塩化鉄水溶液に添加し攪拌混合すれば
部分的には粉末状となる。
上記アルカリ土類金属酸化物の上記塩化鉄水溶液に対す
る添加量は該塩化鉄水溶液中に含まれるヒ素の含有量に
依存するが、上記エツチング廃液のようにヒ素が数pp
−含有される場合には該アルカリ土類金属酸化物は通常
0.1重量%以上、望ましくは0.3〜2重量%、更に
望ましくは0.5〜2重量%の範囲で添加される。0.
1重量%未満ではヒ素を十分に除去できず、2重量%を
超えても添加の効果はこれ以上増加しない。
上記アルカリ土類金属酸化物を上記塩化鉄水溶液に添加
し処理する場合、望ましくは処理温度は10℃以上、更
に望ましくは40〜90℃の範囲とする。上記温度範囲
においては処理は短時間にかつ円滑に進行する。しかし
て処理時間はヒ素の含有量にもよるが、エツチング廃液
のようなヒ素を数pp■含有する塩化鉄水溶液の場合に
は通常2時間以上、望ましくは3〜10時間を要する。
処理後上記塩化鉄水溶液に含まれるアルカリ土類金属酸
化物は$濾過、あるいは遠心分離等の適当な固液分離手
段によって分離されるが、特に望ましいのはフィルター
プレスによる圧濾過法の適用である。この場合、フィル
タープレスのヂ布としては通常200メツシユのものを
用いる。このようにして得られたヂ液または上澄液は実
質的にヒ素を含有しない塩化鉄水溶液である。この水溶
液は、そのまN、もしくは塩化第一鉄が含まれる場合は
塩素等と反応させ塩化第二鉄とした上で、再生エツチン
グ液または排水処理用の沈降剤として再利用出来る。
〔作用〕
塩化鉄水溶液中のヒ素がどのような機構によってアルカ
リ土類金属酸化物により除去されるのかは明らかではな
いが、アルカリ土類金属酸化物がヒ素と反応するか、あ
るいはヒ素を吸着するかいずれかと思われるが、多分、
アルカリ土類金属酸化物がヒ素化合物と反応するものと
思われる。
〔発明の効果〕 したがって本発明においては還元剤を用いることなくア
ルカリ土類金属酸化物のみにて一段階の工程により塩化
鉄水溶液中に含まれるヒ素を効率良く除去する事が出来
る。
〔実施例〕
以下に本発明を更に具体的に説明するための実施例を挙
げる。
実施例1 塩化第二鉄を43.7重量%、ヒ素を2 、5 ppm
含有する塩化第二鉄水溶液1000kgに粉末状の酸化
マグネシウム(MgO)を第1表に示す量添加し。
同表に示す条件で攪拌しつ一処理した。処理後は定量ヂ
紙5Bを用いてS濾過し、得られた5戸液のヒ素濃度は
第1表に示される。
加し、攪拌しつつ処理温度60℃、処理時間4時間の条
件で処理を行い、処理後は定量5戸紙5Bを用いて濾過
し、得られたf液のヒ素濃度は第2表に示される。
第1表によれば処理温度が30℃より60℃に上昇する
とヒ素除去効率が向上し、またMgOの0.6重量%以
上の添加量でヒ素除去効率が段階的に向上していること
が理解される。
実施例2

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ヒ素を含有する塩化鉄水溶液を固体状のアルカリ土類金
    属酸化物と接触させ、ついで該アルカリ土類金属酸化物
    を分離することを特徴とする塩化鉄水溶液中のヒ素の除
    去方法
JP2695689A 1989-02-03 1989-02-03 塩化鉄水溶液中のヒ素の除去方法 Pending JPH02207890A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5840194A (en) * 1996-01-16 1998-11-24 Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha Process for treating arsenic-containing waste water
JP2007125536A (ja) * 2005-01-31 2007-05-24 Egs:Kk 有害成分の固定化薬剤および固定化方法
CN102328982A (zh) * 2011-09-01 2012-01-25 上海新禹固废处理有限公司 一种氯化铁废液再生并回收有价金属的方法

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JP2007125536A (ja) * 2005-01-31 2007-05-24 Egs:Kk 有害成分の固定化薬剤および固定化方法
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