JPH02206093A - Nonvolatile semiconductor storage device - Google Patents

Nonvolatile semiconductor storage device

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JPH02206093A
JPH02206093A JP1026357A JP2635789A JPH02206093A JP H02206093 A JPH02206093 A JP H02206093A JP 1026357 A JP1026357 A JP 1026357A JP 2635789 A JP2635789 A JP 2635789A JP H02206093 A JPH02206093 A JP H02206093A
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JP
Japan
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write
circuit
control means
data
input data
Prior art date
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Application number
JP1026357A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichi Maeda
幸一 前田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To contrive to shorten a write processing time by providing a write control means consisting of a storage means for storing temporarily external input data and a control means for controlling a supply of a write use power source. CONSTITUTION:A write control means 12 consisting of a storage means 13 and a control means 14 is connected to every bit line of a memory cell 21. Therefore, by internal control information SD, external input data DIN is stored temporarily in the storage means 13 of the write control means 12, and thereafter, based on the external input data DIN stored temporarily, the control means 14 can apply a write power source Vpp simultaneously to a memory transistor connected to the same word line WL. In such a way, the external input data can be written simultaneously to all bits connected to the same word line WL, and it can be contrived to execute a write processing at a high speed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 不揮発性半導体記憶装置、特にEPROM (消去再書
き込み可能読み出し専用メモリ)等のメモリセルに外部
データを書き込み処理をする書き込み制御回路に関し、 該書き込み制御回路の高電圧部の配線パターンを原因と
する寄生負荷容量の発生を抑制し、書き込み処理時間の
短縮化、併せて読み出し動作の高速化を図ることを目的
とし、 複数のメモリセルと、該メモリセルに接続されるビット
線及びワード線と、該ビット線毎に接続される書き込み
制御手段とを具備し、前記書き込み制御手段が、外部入
力データの一時記憶をする記憶手段と、前記メモリセル
への書き込み用電源の供給を制御する制御手段から成り
、前記外部入力データのメモリセルへの書き込みが内部
制御情報に基づいて、行われることを含み構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] This invention relates to a write control circuit that writes external data to a memory cell of a non-volatile semiconductor memory device, particularly an EPROM (erasable and rewritable read-only memory). The purpose is to suppress the generation of parasitic load capacitance caused by the wiring pattern of the voltage section, shorten the write processing time, and speed up the read operation. and a write control means connected to each bit line, and the write control means includes a storage means for temporarily storing external input data, and a write control means for temporarily storing external input data, and a write control means connected to each bit line. The memory cell comprises a control means for controlling the supply of power, and the external input data is written into the memory cell based on internal control information.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、不揮発性半導体記憶装置に関するものであり
、更に詳しく言えば、EPROM (消去再書き込み可
能読み出し専用メモリ)等のメモリセルに外部データを
書き込み処理をする書き込み制御回路に関するものであ
る。
The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more specifically, to a write control circuit that writes external data into a memory cell such as an EPROM (erasable and rewritable read-only memory).

近年、微細加工、高集積技術の進歩に伴って、半導体記
憶装置の大容量化が進んでいる。現在1Mビットのメモ
リ容量を有するEPROM等の不揮発性半導体記憶装置
が製造されている。
In recent years, with advances in microfabrication and high integration technology, the capacity of semiconductor memory devices has been increasing. Currently, nonvolatile semiconductor memory devices such as EPROMs having a memory capacity of 1 Mbit are being manufactured.

ところで、不揮発性半導体記憶装置にデータ書き込みを
する場合、例えば8bitX64kw。
By the way, when writing data to a nonvolatile semiconductor memory device, for example, 8 bits x 64 kW.

rd構成の512にビットのE、F ROMでは、1デ
バイス全ビツトの書き込み処理に、少なくとも1分程度
の書き込み時間を要するという問題がある。
A 512-bit E, FROM RD configuration has a problem in that it takes at least about one minute to write all the bits in one device.

そこで、同一ワード線に接続される複数ビット線に対し
て、バイト単位にデータの書き込みをする書き込み制御
回路を取り入れ、書き込み処理の短縮化を図っている。
Therefore, a write control circuit that writes data in units of bytes to multiple bit lines connected to the same word line is incorporated to shorten the write process.

しかし、バイト単位に書き込みをする回路では、データ
書き込み用の高電圧部の配線パターンと、データ出力部
の低電圧部の配線パターンとが複雑に混在し、IC回路
パターン構成上の障害となったり、該データ出力部に不
要負荷パターン等が混在し、高速読み出し処理の障害と
なるという問題がある。
However, in a circuit that writes in bytes, the wiring pattern of the high voltage section for data writing and the wiring pattern of the low voltage section of the data output section are mixed in a complicated manner, which can cause problems in the IC circuit pattern configuration. , there is a problem in that unnecessary load patterns and the like coexist in the data output section, which impedes high-speed read processing.

そこで、メモリセルの書き込み時間をさらに短縮するこ
と、及び配線パターンの簡素化して、性能向上を図るこ
とを可能とする半導体記憶装置の要望がある。
Therefore, there is a need for a semiconductor memory device that can further shorten the writing time of memory cells, simplify the wiring pattern, and improve performance.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第8.9図は、従来例に係る説明図である。 FIG. 8.9 is an explanatory diagram of a conventional example.

第8図は、従来例に係るEP’ROMの構成図を示して
いる。
FIG. 8 shows a configuration diagram of an EP'ROM according to a conventional example.

図において、従来例のEPROMは、メモリセルl、ロ
ウアドレスバッファ回路2、デコーダ回路3、コラムア
ドレスバッファ回路4、コラムデコーダ回路5、Yゲー
ト回路6、書き込み制御回路内蔵入出力回路7、センス
アンプ回路8及びデータ出力バッファ回路9から構成さ
れている。
In the figure, a conventional EPROM includes a memory cell 1, a row address buffer circuit 2, a decoder circuit 3, a column address buffer circuit 4, a column decoder circuit 5, a Y gate circuit 6, an input/output circuit with a built-in write control circuit 7, and a sense amplifier. It consists of a circuit 8 and a data output buffer circuit 9.

外部入力データDINの書き込みは、次の様になされる
。まず、書き込み用型源VPP、アドレス信号XADD
、YADD、外部入力データDINを与える。このこと
により、XADD信号はロウアドレスバッファ回路2で
増幅された後ロウデコーダ回路3に働き、WLO〜WL
nのひとつが選択される。一方、YADD信号は、コラ
ムアドレスバッファ回路4で増幅された後コラムデコー
ダ回路5に働き、YO−Ynのひとつが選択され、Yゲ
ート回路6で選択されたトランジスタ「ON」すること
により、メモリセル1のメモリトランジスタT31〜T
39のひとつが選択される。
The external input data DIN is written as follows. First, write type source VPP, address signal XADD
, YADD, and external input data DIN. As a result, the XADD signal is amplified by the row address buffer circuit 2 and then applied to the row decoder circuit 3, and
One of n is selected. On the other hand, the YADD signal is amplified by the column address buffer circuit 4 and then applied to the column decoder circuit 5, one of YO-Yn is selected, and by turning on the selected transistor in the Y gate circuit 6, the memory cell is 1 memory transistor T31-T
One of the 39 is selected.

次いで、外部制御信号として書き込み状態を与えること
により、内部信号発生回路10で内部制御信号が書き込
み状態を生成する。書き込み制御信号PGMIはrH,
から「L」になり、T2O及び書き込み制御回路内蔵デ
ータ入力回路7のゲートトランジスタT25.T26.
T27を動作させ、Yゲート回路6のビット線選択トラ
ンジスタT28〜T30に書き込み用電源vPPを供給
する。又、内部信号発生回路10で生成された内部制御
I信号は、選択されたワード線(WLO〜WLnの何れ
かひとつ)、及び選択されたコラム線(YO〜Ynの何
れかひとつ)を高電圧に制御する(詳細、図示せず)。
Next, by applying a write state as an external control signal, the internal control signal generates the write state in the internal signal generating circuit 10. The write control signal PGMI is rH,
becomes "L", and the gate transistor T25. of the data input circuit 7 with built-in T2O and write control circuit. T26.
T27 is operated and the write power supply vPP is supplied to the bit line selection transistors T28 to T30 of the Y gate circuit 6. Further, the internal control I signal generated by the internal signal generation circuit 10 connects the selected word line (any one of WLO to WLn) and the selected column line (any one of YO to Yn) to a high voltage. control (details, not shown).

これにより、選択されているメモリセルlのメモリセル
トランジスタT31〜T39の一つの、ゲート及びドレ
インに同時に書き込み用電源VPPが印加され、外部入
力データが書き込まれる。
As a result, the write power supply VPP is simultaneously applied to the gate and drain of one of the memory cell transistors T31 to T39 of the selected memory cell l, and external input data is written.

このときの、書き込み処理時間は0.1  (ms)〜
1(ms)程度あるいはそれ以上を必要とする。
At this time, the write processing time is 0.1 (ms) ~
It requires about 1 (ms) or more.

このため、例えば8ビツトX64kwordの512に
ビットのBPROMでは、1デバイス全ビツトの書き込
み処理に1〔分〕程度、あるいはそれ以上要する。
For this reason, for example, in a 512-bit BPROM of 8 bits x 64 kwords, it takes about 1 minute or more to write all the bits in one device.

第9図は、従来例のEFROMに係る問題点の説明図で
ある。
FIG. 9 is an explanatory diagram of problems related to the conventional EFROM.

図において、11は書き込み/読み出し制御回路であり
、先の書き込み制御回路内蔵データ入力回路7から、書
き込み回路のみを分離して、Yゲート回路6と、入出力
回路11aとを配置したものである。また、書き込み/
読み出し制御回路11ば、1ビット単位の書き込み処理
時間を短縮するために4バイト同時に書き込みをする機
能を設けたものである。
In the figure, 11 is a write/read control circuit, in which only the write circuit is separated from the data input circuit 7 with a built-in write control circuit, and a Y gate circuit 6 and an input/output circuit 11a are arranged. . Also, write/
The read control circuit 11 is provided with a function of writing four bytes at the same time in order to shorten the writing processing time in units of one bit.

このときの書き込み/読み出し制御回路11では、書き
込み用電源VPP系の高電圧部の配線パターンと、通常
動作電源VCC系の低電圧部の配線パターンが複雑に混
在する。時には、ワード線コラム線も高電圧となる必要
から、ロウデコーダ回路3.コラムデコーダ5は、書き
込み用電源VPP系の高電圧部配線パターンにより構成
されている。なお、高電圧部の配線パターンは、書き込
み処理時のみ必要となるものである。
In the write/read control circuit 11 at this time, the wiring pattern of the high voltage section of the write power supply VPP system and the wiring pattern of the low voltage section of the normal operation power supply VCC system are mixed in a complicated manner. Sometimes, the word line and column line also need to be at a high voltage, so the row decoder circuit 3. The column decoder 5 is constituted by a high voltage part wiring pattern of the write power supply VPP system. Note that the wiring pattern of the high voltage section is required only during write processing.

(発明が解決しようとする課題) 従って、第8図及び第9図に示すような従来例の構成の
EPROMでは、データ出力バッファ回路9に近接する
高電圧部の配線パターンにより浮遊容量が形成される。
(Problem to be Solved by the Invention) Therefore, in the EPROM of the conventional configuration as shown in FIGS. 8 and 9, stray capacitance is formed by the wiring pattern of the high voltage section near the data output buffer circuit 9. Ru.

このため、浮遊容量がデータ出力バッファ回路9に対し
て、寄生負荷容量を形成し、読み出し動作の高速化に障
害を与えるという問題がある。
Therefore, there is a problem in that the stray capacitance forms a parasitic load capacitance on the data output buffer circuit 9, impeding speeding up of the read operation.

一方、ワード線、コラム線を書き込み処理時に高電圧に
する必要から、ロウデコーダ回路3.コラムデコーダ回
路5にも、高電圧部、低電圧部の混在配線パターンが構
成されており、浮遊負荷容量の増大を招き、読み出す動
作の高速化に障害を与えている。
On the other hand, since it is necessary to apply high voltage to the word line and column line during write processing, the row decoder circuit 3. The column decoder circuit 5 also has a mixed wiring pattern of a high voltage section and a low voltage section, which causes an increase in floating load capacitance and impedes speeding up of the read operation.

本発明は、かかる従来例の問題点に鑑み創作されたもの
であり、書き込み/読み出し制御回路及びコラムデコー
ダ回路の高電圧部の配線パターンを原因とする寄生負荷
容量の発生を抑制し、書き込み処理時間の短縮化、併せ
て読み出し動作の高速化を図ることを可能とする不揮発
性半導体記憶装置の提供を目的とする。
The present invention was created in view of the problems of the conventional example, and suppresses the generation of parasitic load capacitance caused by the wiring pattern of the high voltage section of the write/read control circuit and column decoder circuit, and improves the write processing. An object of the present invention is to provide a nonvolatile semiconductor memory device that can shorten the time and also speed up the read operation.

〔課題を解決するための手段] 第1図(a)、(b)は、本発明の不揮発性半導体記憶
装置に係る原理図を示している。
[Means for Solving the Problems] FIGS. 1(a) and 1(b) show diagrams of the principle of a nonvolatile semiconductor memory device of the present invention.

その装置は、複数のメモリセル21と、該メモリセル2
1に接続されるビット線BL及びワード線WLと、該ビ
ット線BL毎に接続される書き込み制御手段12とを具
備し、前記書き込み制御手段12が、外部入力データD
INの一時記憶をする記憶手段13と、前記メモリセル
21への書き込み用電源VPPの供給を制御する制御手
段I4から成り、前記外部入力データDINのメモリセ
ル21への書き込みが内部制御情報SDに基づいて、行
われることを特徴とし、 前記書き込み制御手段12は、外部データDINの入出
力手段15から分離され、前記メモリセル21を挟間し
て、該入出力回路15と対向する位置に設けられること
を特徴とし、上記目的を達成する。
The device includes a plurality of memory cells 21 and the memory cells 2
1, and a write control means 12 connected to each bit line BL.
It consists of a storage means 13 for temporarily storing the input data IN, and a control means I4 for controlling the supply of the write power VPP to the memory cell 21. The write control means 12 is separated from the input/output means 15 for external data DIN, and is provided at a position facing the input/output circuit 15 with the memory cell 21 in between. It is characterized by this and achieves the above purpose.

〔作用] 本発明によれば、記憶手段13及び制御手段14から成
る書き込み制御手段12がメモリセル21の各ビット線
毎に接続されている。
[Operation] According to the present invention, the write control means 12 consisting of the storage means 13 and the control means 14 is connected to each bit line of the memory cell 21.

このため、内部制御情報SDにより外部入力データDI
Nが、書き込み制御手段12の記憶手段13に一時記憶
され、その後、制御手段14が一時記憶された外部入力
データDINに基づいて、同一ワード線WLに接続され
たメモリトランジスタに同時に書き込み電源VPPを印
加することができる。
Therefore, the external input data DI is controlled by the internal control information SD.
N is temporarily stored in the storage means 13 of the write control means 12, and then the control means 14 simultaneously applies the write power supply VPP to the memory transistors connected to the same word line WL based on the temporarily stored external input data DIN. can be applied.

これにより、従来のバイト単位に書き込む方法に比べて
、同一ワード線WLに接続された全ビット同時に外部入
力データを書き込むことができ、書き込み処理の高速化
を図ることが可能となる。
This makes it possible to simultaneously write external input data to all bits connected to the same word line WL, thereby increasing the speed of the write process, compared to the conventional writing method in byte units.

また、本発明によれば、書き込み制御手段12がメモリ
セル11を間に挾んで、入出力手段15と対向する位置
に設けられている。
Further, according to the present invention, the write control means 12 is provided at a position facing the input/output means 15 with the memory cell 11 in between.

このため、書き込み制御手段12の高電圧部の配線パタ
ーンと、入出力手段の低電圧部の配線パターンとが分離
される。さらに、書き込み処理時、書き込み対象メモリ
セルのドレインへの書き込み電源VPPの供給は、書き
込み制御手段12から行われるため、コラム線は高電圧
となる必要がなく、コラムデコーダ19には高電圧部配
線パターンが不要となる。
Therefore, the wiring pattern of the high voltage section of the write control means 12 and the wiring pattern of the low voltage section of the input/output means are separated. Furthermore, during the write process, the write power supply VPP is supplied to the drain of the memory cell to be written from the write control means 12, so the column line does not need to be at a high voltage, and the column decoder 19 is connected to the high voltage section wiring. Patterns are no longer needed.

従って、高電圧部の配線パターンにより形成される浮遊
容量による従来のような読み出し回路の寄生負荷容量の
影響を取り除くことができる。
Therefore, it is possible to eliminate the influence of the parasitic load capacitance of the conventional readout circuit due to the stray capacitance formed by the wiring pattern of the high voltage section.

これにより、データ読み出し動作の高速化を図ることが
可能となる。
This makes it possible to speed up data read operations.

〔実施例〕〔Example〕

次に図を参照しながら本発明の実施例について説明をす
る。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第2〜7図は、本発明の実施例に係る不揮発性半導体記
憶装置を説明する図であり、第2図は、本発明の実施例
のEPROMに係る構成図を示している。
2 to 7 are diagrams for explaining a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a configuration diagram of an EPROM according to an embodiment of the present invention.

図において、21はメモリセルであり、複数のメモリト
ランジスタTll〜T19から成る。各メモリトランジ
スタTll〜T19はワード線XO〜Xnと、ビット線
BLO〜BLnに接続されている。
In the figure, 21 is a memory cell, which is composed of a plurality of memory transistors Tll to T19. Each memory transistor Tll-T19 is connected to word lines XO-Xn and bit lines BLO-BLn.

12a〜12cは、書き込み制御手段であり、各ビット
線BLO〜BLn毎に設けられている。
Write control means 12a to 12c are provided for each bit line BLO to BLn.

また、各書き込み制御手段12a〜12cはメモリセル
11を間に挟んで、データ出力バッファ回路15aと対
向する位置に設けられている。これにより、書き込み用
型源VPP系の配線パターンと、データ人出力バッファ
回路15a  15bの通常使用電圧VCC系の配線パ
ターンの混在を回避することができる。
Further, each of the write control means 12a to 12c is provided at a position facing the data output buffer circuit 15a with the memory cell 11 in between. Thereby, it is possible to avoid mixing the wiring pattern of the write source VPP system and the wiring pattern of the normally used voltage VCC system of the data output buffer circuits 15a and 15b.

1つの書き込み制御手段12a′は、複数のトランジス
タT1〜TIOから成る。記憶手段13は、トランジス
タT5〜T8から成るフリップフロップ回路13aによ
り構成される。制御手段I4は、その他のトランジスタ
TI−T4、T9及びT10から成るゲート回路14a
により構成される。
One write control means 12a' consists of a plurality of transistors T1 to TIO. The storage means 13 is constituted by a flip-flop circuit 13a consisting of transistors T5 to T8. The control means I4 includes a gate circuit 14a comprising other transistors TI-T4, T9 and T10.
Consisted of.

トランジスタTIOは、データセット信号DSETによ
り外部入力データDINをフリップフロップ回路13a
に入力制御するものである。
Transistor TIO transfers external input data DIN to flip-flop circuit 13a by data set signal DSET.
This is to control the input.

フリップフロップ回路1.3aは、データ人力バッファ
回路15bに入力された外部入力データDINを、ゲー
トトランジスタT24、Yゲート回路18のゲートトラ
ンジスタT20〜T22及び制御手段14のゲートトラ
ンジスタTIOを経由して、一時記憶する機能を有して
いる。トランジスタT9は、データリセット信号DR3
Tを入力して、フリップフロップ回路13aに一時記憶
したデータの記憶解除をするものである。
The flip-flop circuit 1.3a receives the external input data DIN input to the data manual buffer circuit 15b via the gate transistor T24, the gate transistors T20 to T22 of the Y gate circuit 18, and the gate transistor TIO of the control means 14. It has a temporary memory function. Transistor T9 receives data reset signal DR3
By inputting T, data temporarily stored in the flip-flop circuit 13a is released.

トランジスタT2〜T4は二人力NOR論理回路を構成
し、フリップフロップ回路13aの外部入力データDI
Nと、書き込み/読み出し制御信号PGMIとを入力し
て、トランジスタT1を制御するものである。
Transistors T2 to T4 constitute a two-man NOR logic circuit, and external input data DI of the flip-flop circuit 13a
N and a write/read control signal PGMI are input to control the transistor T1.

トランジスタT1は、二人力NO’R論理回路の出力を
受けて、ビット線BLnへの書き込み電源■PPを印加
制御をするものである。
The transistor T1 receives the output of the two-way NO'R logic circuit and controls the application of the write power supply PP to the bit line BLn.

15aはデータ出力バッファ回路であり、メモリセル2
1から読み出したデータを外部出力データDOTとして
出力するものである。15bはデータ人力バッファ回路
であり、外部から入力した書き込みデータを外部入力デ
ータDINとして入力するものである。
15a is a data output buffer circuit, and memory cell 2
The data read from 1 is output as external output data DOT. 15b is a data manual buffer circuit, which inputs write data input from the outside as external input data DIN.

16はセンスアンプであり、メモリセル21の記憶内容
を検出するものである。22は、ロウアドレスバッファ
回路であり、アドレス信号XADDを増幅し、ロウデコ
ーダ回路17に供給するものである。23はコラムアド
レスバファ回路であり、アドレス信号YADDを増幅し
、コラムデコーダ回路19に供給するものである。17
は、ロウデコーダ回路であり、ロウアドレスバッファ回
路22より供給された信号に基づいてワード線(WLO
−WLnの何れかひとつ)を選択するものである。19
は、コラムデコーダ回路であり、コラムアドレスバファ
回路23により供給された信号に基づいてコラム線(Y
O−Ynの何れかひとつ)を選択するものである。18
は、Yゲート回路であり、コラムデコーダ回路の出力を
受けて、ビット線BLO−BLnを選択するものである
A sense amplifier 16 detects the contents stored in the memory cell 21. 22 is a row address buffer circuit that amplifies the address signal XADD and supplies it to the row decoder circuit 17. A column address buffer circuit 23 amplifies the address signal YADD and supplies it to the column decoder circuit 19. 17
is a row decoder circuit, which decodes the word line (WLO) based on the signal supplied from the row address buffer circuit 22.
-WLn). 19
is a column decoder circuit, which selects the column line (Y) based on the signal supplied by the column address buffer circuit 23.
(one of O-Yn) is selected. 18
is a Y gate circuit which receives the output of the column decoder circuit and selects bit lines BLO-BLn.

Yゲート回路18はT20〜T22から成る。The Y gate circuit 18 consists of T20 to T22.

T23は、Yゲート回路によって選択されたビット線と
、センスアンプ16との接続を制御するゲートトランジ
スタであり、T24は書き込みデータ転送処理を行うゲ
ートトランジスタである。
T23 is a gate transistor that controls the connection between the bit line selected by the Y gate circuit and the sense amplifier 16, and T24 is a gate transistor that performs write data transfer processing.

PGMIは書き込み/読み出し制御信号、DR3Tはデ
ータリセット信号、DSETはデータセット信号、WL
Dはワードライン全非選択制御信号、BLAは書き込み
データ転送制御信号をそれぞれ示し、内部制御情報SD
を構成する。
PGMI is a write/read control signal, DR3T is a data reset signal, DSET is a data set signal, WL
D indicates a word line all non-selection control signal, BLA indicates a write data transfer control signal, and internal control information SD
Configure.

20は内部信号発生回路であり、外部信号を受け、PG
’MI、DR3T、DSET、WLD。
20 is an internal signal generation circuit which receives external signals and generates PG
'MI, DR3T, DSET, WLD.

BLA等の、各機能回路の動作を制御する内部制御信号
を発生させる。
Generates internal control signals that control the operation of each functional circuit, such as BLA.

vPPは書き込み電源であり、通常は■CCと同値、書
き込み時に12〜25(V)程度の電圧である。■CC
は通常使用電源であり、4〜6(V)程度である。
vPP is a write power supply, and normally has the same value as CC, and is a voltage of about 12 to 25 (V) during writing. ■CC
is the normally used power source, which is about 4 to 6 (V).

これ等により、本発明の実施例に係る不揮発性半導体記
憶装置を構成する。
These constitute a nonvolatile semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

第3.4図は、本発明の実施例のEPROMに係る動作
タイムチャートであり、第3図は、1ビット単位の書き
込み処理時、第4図は、同一ワード線に接続された複数
ビット同時書き込み処理時の動作タイミングチャートを
各々示している。
Fig. 3.4 is an operation time chart related to the EPROM according to the embodiment of the present invention. Each shows an operation timing chart during write processing.

第3図において、書き込み処理は次の様に実行される。In FIG. 3, the write process is performed as follows.

まず、アドレス信号XADD、YADDをロウアドレス
バッファ回路22及びコラムアドレスバッファ回路23
に、外部入力データDINをデータ人力バッファ回路1
5bに入力し、書き送用電源VPPを書き込み用の値に
上昇させる。
First, address signals XADD and YADD are sent to the row address buffer circuit 22 and the column address buffer circuit 23.
Then, the external input data DIN is transferred to the data manual buffer circuit 1.
5b to increase the write/send power supply VPP to the write value.

このことにより、アドレス信号XADDは、ロウアドレ
スバッファ回路22で増幅された後、ロウアドレスデコ
ーダ回路17に働き、書き込み対象ワード線が選択され
る。アドレス信号YADDは、コラムアドレスバッファ
回路23で増幅された後、コラムアドレスデコーダ回路
19に働き、外部入力データ転送対象コラム線が選択さ
れ、Yゲート回路に働く。
As a result, the address signal XADD is amplified by the row address buffer circuit 22 and then acts on the row address decoder circuit 17 to select the word line to be written. After the address signal YADD is amplified by the column address buffer circuit 23, it acts on the column address decoder circuit 19, selects a column line to which external input data is to be transferred, and acts on the Y gate circuit.

しかる後に、アウトプットイネーブル信号百百。After that, the output enable signal is turned on.

チップイネーブル信号CE、外部書き込み制御信号PG
Mの、各外部制御信号を書き込み状態にすることにより
、内部信号発生回路20が内部制御信号を発生し、各機
能回路に働き、書き込み処理が実行される。
Chip enable signal CE, external write control signal PG
By setting each external control signal of M to a write state, the internal signal generation circuit 20 generates an internal control signal, which acts on each functional circuit to execute the write process.

すなわち、まず、ワード線全体非選択制御信号WLDが
「H」となり、すべてのワード線WLO〜WLnを非選
択状態にする。次いで、書き込みデータ転送制御信号B
LAが「H」になることにより、データ人力バッファ回
路15bで増幅された外部入力データDINは、ゲート
トランジスタT24を介して、Yゲート回路18に入力
され、Yゲート回路により選択されたビット線BLを経
由して、選択ビット線BL対応の書き込み制御手段12
のゲートトランジスタTIOに転送される。
That is, first, the entire word line non-selection control signal WLD becomes "H" and all word lines WLO to WLn are brought into a non-selected state. Next, write data transfer control signal B
When LA becomes "H", the external input data DIN amplified by the data manual buffer circuit 15b is input to the Y gate circuit 18 via the gate transistor T24, and the bit line BL selected by the Y gate circuit is input. The write control means 12 corresponding to the selected bit line BL
is transferred to the gate transistor TIO.

さらに、データセット信号DSETが「H」になること
により、各書き込み制御手段12のゲートトランジスタ
TIOがrol」L、、外部入力データは選択ビットB
L対応のフリップフロップ回路13aに一時記憶される
。なお、非選択ビット線BL対応の書き込み制御手段1
2のフリップフロ:シブ回路13aは、ゲートトランジ
スタT1゜が「ON」しても、対応ビット線がオープン
状態となっているため、状態変化しない。
Furthermore, when the data set signal DSET becomes "H", the gate transistor TIO of each write control means 12 becomes "rol"L, and the external input data is set to the selection bit B.
It is temporarily stored in the L-compatible flip-flop circuit 13a. Note that the write control means 1 corresponding to the unselected bit line BL
Flip flow 2: The state of the passive circuit 13a does not change even if the gate transistor T1° is "ON" because the corresponding bit line is in the open state.

この後、データセット信号DSETが「L」に、続いて
書き込みデータ転送制御信号BLAが「L」に、さらに
ワード線全非選択制御信号WLDが「L」に、各々復帰
しぐ外部入力データの書き込み制御手段12のフリップ
フロップ13aへの一時記憶操作が終了する。この一時
記憶操作に要する時間は、数〔μS〕単位である。
After that, the data set signal DSET goes to "L", then the write data transfer control signal BLA goes to "L", and then the word line all deselection control signal WLD goes to "L", and the external input data is reset to "L". The temporary storage operation in the flip-flop 13a of the write control means 12 is completed. The time required for this temporary storage operation is on the order of several [μS].

さらにこの後、書き込み制御信号PGMIが「L」とな
り、Yゲート回路18とセンスアンプ16との接続制御
トランジスタT23に働き、これをrOFFJさせ、コ
ラムデコーダ回路23にも働き、コラム線(YO〜Yn
)を全非選択状態にする。
Furthermore, after this, the write control signal PGMI becomes "L", acts on the connection control transistor T23 between the Y gate circuit 18 and the sense amplifier 16, turns it rOFFJ, acts also on the column decoder circuit 23, and acts on the column line (YO to Yn
) are all unselected.

さらに、書き込み制御手段12の二人力NORゲートに
働き、フリップフロップ回路13aの出力との論理を得
て、書き込み対象のみのゲートトランジスタT1をrO
NJさせ、書き込み用電源■PPをメモリセル21の書
き込み対象メモリセルトランジスタの接続されたビット
線BLにのみ供給する。同時に選択ワード線も高電圧に
制御され(詳細、図示せず)、書き込み対象メモリセル
トランジスタの書き込み処理が実行される。
Furthermore, it acts on the two-man NOR gate of the write control means 12, obtains the logic with the output of the flip-flop circuit 13a, and turns the gate transistor T1, which is only the write target, into rO
NJ, and the write power supply PP is supplied only to the bit line BL connected to the memory cell transistor to be written in the memory cell 21. At the same time, the selected word line is also controlled to a high voltage (details not shown), and the write process of the memory cell transistor to be written is executed.

PGMIの「LJの帰還は、書き込みに必要な時間だけ
設定されるが、これは外部制御信号PGMによって制御
され、0.1〜1(ms)程度の単位である。
The LJ feedback of PGMI is set for the time required for writing, but this is controlled by an external control signal PGM and is in units of about 0.1 to 1 (ms).

なお、PGMIの「H」への復帰直後、データリセット
信号DR3TがrH」となり、全書き込み制御手段12
のフリップフロップ回路13aの一時記憶内容をクリア
する。また、データリセット信号DR3Tは、書き込み
用電源■PPが通常電源■CCと同値の通常時には「H
」となっており、全書き込み制御手段12のフリップフ
ロップ回路13aはクリア状態にある。
Immediately after PGMI returns to "H", data reset signal DR3T becomes "rH", and all write control means 12
The temporary storage contents of the flip-flop circuit 13a are cleared. In addition, the data reset signal DR3T is "H" when the write power supply ■PP is the same value as the normal power supply ■CC.
”, and the flip-flop circuit 13a of the all write control means 12 is in a clear state.

第4図は、同一ワード線に接続された複数(全数も可能
)ビット同時書き込み処理時における、動作タイミング
チャートを示したものである。
FIG. 4 shows an operation timing chart during simultaneous write processing for a plurality of bits (or even all bits) connected to the same word line.

図において、まず、各ビット線BL対応の、書き込み制
御手段12のフリップフロップ回路13aへの、外部入
力データの一時記憶操作が行われる。これは、外部制御
信号による外部入力データの一時記憶操作指示によって
行われる。
In the figure, first, external input data is temporarily stored in the flip-flop circuit 13a of the write control means 12 corresponding to each bit line BL. This is performed by a temporary storage operation instruction for external input data using an external control signal.

アドレス信号XADD、YADDOロウアドレスバッフ
ァ回路22.コラムアドレスバッファ回路23への入力
、及び外部入力データDINのデータ人力バッファ回路
15bへの入力による準備状態の後、外部制御信号によ
る外部入力データの一時記憶操作指示によって、第3図
の動作の説明と同様に、ワード線全非選択制御信号WL
D、書き込みデータ転送制御信号BLA、及びデータセ
ット信号DSETが、内部信号発生回路で生成され、一
連の外部入力データの一時記憶操作が行われる。
Address signals XADD, YADDO row address buffer circuit 22. After the preparation state by inputting the column address buffer circuit 23 and the external input data DIN to the data manual buffer circuit 15b, the operation shown in FIG. Similarly, the word line all non-selection control signal WL
D, a write data transfer control signal BLA, and a data set signal DSET are generated by an internal signal generation circuit, and a series of external input data is temporarily stored.

次に、コラムアドレス信号YADDを変更し、対応の外
部入力データに変更の上、再び外部制御信号による外部
入力データの一時記憶操作指示を行い、対応書き込み制
御手段12のフリップフロップ回路13aへの一時記憶
操作を行う。以下、同様にしてビット線BLO〜BLn
について、対応の書き込みデータを対応の各フリップフ
ロップ回路13aに一時記憶させる。
Next, the column address signal YADD is changed to the corresponding external input data, and the external control signal is again used to instruct the temporary storage operation of the external input data to temporarily transfer the data to the flip-flop circuit 13a of the corresponding write control means 12. Perform memory operations. Thereafter, in the same way, bit lines BLO to BLn
The corresponding write data is temporarily stored in each corresponding flip-flop circuit 13a.

ビット線BLO−BLnまでの全ビット線対応のフリッ
プフロップ回路13aへの一時記憶処理が終了したの後
、外部制御信号により書き込み操作を指示する。内部信
号発生回路により、書き込み制御信号PGMIが生成さ
れる。書き込み制御信号PGMIに対する内部応答は、
第3図の動作と同様であり、メモリセルトランジスタへ
の書き込み電圧の印加が行われる。但し、第4図の動作
時は、全ての書き込み制御手段12のフリップフロップ
回路13aに書き込みデータが一時記憶されており、全
てのゲート回路14aのゲートトランジスタT1が制御
対象となる。
After the temporary storage process in the flip-flop circuit 13a corresponding to all bit lines BLO to BLn is completed, a write operation is instructed by an external control signal. A write control signal PGMI is generated by an internal signal generation circuit. The internal response to the write control signal PGMI is
The operation is similar to that shown in FIG. 3, and a write voltage is applied to the memory cell transistor. However, during the operation shown in FIG. 4, the write data is temporarily stored in the flip-flop circuits 13a of all the write control means 12, and the gate transistors T1 of all the gate circuits 14a are controlled.

従って、全てのビット線BLO〜BLnに書き込み電源
VPPの供給制御が行われるため、選択されたワード線
に接続されたメモリトランジスタ(選択ワード線がWL
Oの場合、Tll〜T13)全てに同時に書き込みを行
うことができる。
Therefore, since the write power supply VPP is controlled to be supplied to all bit lines BLO to BLn, the memory transistor connected to the selected word line (the selected word line is WL
In the case of O, writing can be performed to all Tll to T13) at the same time.

なお、書き込み制御手段12のフリップフロップ回路1
3aのクリアは、データリセット信号DR3Tによって
行われるが、DR3Tは、−旦、書き込み操作が行われ
た後の、書き込みデータの一時記憶操作時、その直前に
行われる。従って、−回で書き込みが完了しなかった場
合、書き込みデータの一時記憶を再度実施することなく
、外部制御信号により、書き込み操作指示を繰り返すこ
とができる。
Note that the flip-flop circuit 1 of the write control means 12
Clearing of 3a is performed by the data reset signal DR3T, and DR3T is performed immediately before the temporary storage operation of write data after the write operation has been performed. Therefore, if writing is not completed in - times, the write operation instruction can be repeated using the external control signal without temporarily storing the write data again.

これにより、データ書き込み処理を高速に行うことがで
きる。
Thereby, data writing processing can be performed at high speed.

第5図に本発明に係る内部信号発生回路の構成図を示し
ている。
FIG. 5 shows a configuration diagram of an internal signal generation circuit according to the present invention.

内部信号発生回路では、書き込み処理制御に必要な内部
制御情報SDが生成される。
The internal signal generation circuit generates internal control information SD necessary for write processing control.

図において、CBはチップイネーブル信号、OEはアウ
トプットイネーブル信号、PGMは外部書き込み制御信
号、VPPは書き込み用電源であり、内部信号発生回路
に与える電源及び外部制御信号である。
In the figure, CB is a chip enable signal, OE is an output enable signal, PGM is an external write control signal, and VPP is a write power supply, which is the power supply and external control signal given to the internal signal generation circuit.

内部信号発生回路では、ワード線全非選択制御信号WL
D、書き込みデータ転送制御信号BLA、データセット
信号DSET、データリセット信号DR3T及び書き込
み制御信号PGMr、高電圧センス回路反転出力信号R
が生成され、内部制御情報SDを構成する。
In the internal signal generation circuit, the word line all non-selection control signal WL
D, write data transfer control signal BLA, data set signal DSET, data reset signal DR3T and write control signal PGMr, high voltage sense circuit inverted output signal R
is generated and constitutes internal control information SD.

また、第6図、7図は、本発明の実施例に係る内部信号
発生回路の各論理回路各部の信号を示している。
Further, FIGS. 6 and 7 show signals of each part of each logic circuit of the internal signal generation circuit according to the embodiment of the present invention.

このようにして、本発明の構成例では、フリップフロッ
プ回路13a及びゲート回路14aからなる書き込み制
御手段12が、メモリセル21の各ビット線BLO〜B
Ln毎に接続されている。
In this way, in the configuration example of the present invention, the write control means 12 consisting of the flip-flop circuit 13a and the gate circuit 14a controls each bit line BLO to BLO of the memory cell 21.
It is connected for each Ln.

このため、ワード線全非選択制御信号WLD、書き込み
データ転送制御信号BLA、データセット信号DSET
、データリセット信号DSRT等により、外部入力デー
タDINが、フリップフロツブ回路13aに一時記憶さ
れ、その後、ゲート回路14aが一時記憶された外部入
力データDINに基づいて、例えば同一ワード線WLO
に接続されたメモリトランジスタTll〜T13に同時
に書き込み電源■PPを印加することが可能になる。
Therefore, all word line deselection control signal WLD, write data transfer control signal BLA, data set signal DSET
, data reset signal DSRT, etc., external input data DIN is temporarily stored in the flip-flop circuit 13a, and then, based on the temporarily stored external input data DIN, the gate circuit 14a outputs the same word line WLO, for example.
It becomes possible to simultaneously apply the write power supply PP to the memory transistors Tll to T13 connected to the memory transistors Tll to T13.

これにより、従来のバイト単位に書き込む方法に比べて
、同一ワード線に接続された全ビット同時に書き込むこ
とができ、書き込み処理の高速化を図ることが可能とな
る。
This allows all bits connected to the same word line to be written at the same time, making it possible to speed up the writing process, compared to the conventional method of writing in byte units.

また本発明によれば、書き込み制御手段12の高電圧部
の配線パターンと、入出力回路15a。
Further, according to the present invention, the wiring pattern of the high voltage section of the write control means 12 and the input/output circuit 15a.

15bの低電圧部の配線パターンとが分離される。The wiring pattern of the low voltage section 15b is separated.

さらに本発明によれば、書き込み処理時、コラム線(Y
O−Yn)を高電圧にする必要がないため、コラムデコ
ーダ回路23の高電圧部の配線パターンが不要になる。
Furthermore, according to the present invention, during the write process, the column line (Y
Since there is no need to set the voltage (O-Yn) to a high voltage, a wiring pattern for the high voltage portion of the column decoder circuit 23 is not required.

従って、高電圧部の配線パターンにより形成される浮遊
容量による従来のような読み出し回路に寄生する負荷容
量の影響を取り除くことができる。
Therefore, it is possible to eliminate the influence of parasitic load capacitance on a conventional readout circuit due to stray capacitance formed by the wiring pattern of the high voltage section.

これにより、データ読み出し動作の高速化を図ることが
可能となる。
This makes it possible to speed up data read operations.

〔発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、同一ワード線に接
続されるメモリセルへのデータの書き込みを、全ビット
線同時に行うことができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, data can be written to memory cells connected to the same word line simultaneously on all bit lines.

このため、高速に書き込み処理をすることができ、従来
に比べて、実効書き込み処理時間の大幅な短縮を図るこ
とが可能となる。
Therefore, writing processing can be performed at high speed, and the effective writing processing time can be significantly shortened compared to the conventional method.

また本発明によれば、高電圧部の配線パターンを原因と
する寄生負荷容量を低減することができる。従って、デ
ータ読み出し動作の高速化を図ることが可能となる。
Further, according to the present invention, it is possible to reduce the parasitic load capacitance caused by the wiring pattern of the high voltage section. Therefore, it is possible to speed up the data read operation.

これにより、書き込み専用装置の処理効率の向上を図る
こと、及び高性能の不揮発性半導体記憶装置を製造する
ことが可能となる。
This makes it possible to improve the processing efficiency of a write-only device and to manufacture a high-performance nonvolatile semiconductor memory device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の不揮発性半導体記憶装置に係る原理
図、 第2図は、本発明の実施例のEPROMに係る構成図、 第3図は、本発明の実施例のEPROMに係る動作タイ
ムチャート■(1ビット単位の書き込み処理時)、 第4図は、本発明の実施例のEPROMに係る動作タイ
ミングチャート■(同一ワード線に接続された複数ビッ
ト同時書き込み処理時)、第5図は、本発明の実施例に
係る内部信号発生回路の構成図、 第6図は、本発明の実施例に係る内部信号発生回路の動
作タイムチャート■、 第7図は、本発明の実施例に係る内部信号発生回路の動
作タイムチャート■、 第8図は、従来例に係るEPROMの構成図、第9図は
、従来例のEFROMに係る問題点の説明図である。 (符号の説明) 21・・・メモリセル、 12・・・書込み制御手段、 、1゛3・・・記憶手段、 14・・・制御手段、 15・・・入出力手段、 VPP・・・書き込み用電源、 WL・・・ワード線、 BL・・・ビット線、 Y・・・コラム線、 DIN・・・外部入力データ、 SD・・・内部制御情報。
FIG. 1 is a principle diagram of a nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of an EPROM according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an operation diagram of an EPROM according to an embodiment of the present invention. Timing chart (during 1-bit write processing); Figure 4 is an operation timing chart (during simultaneous writing of multiple bits connected to the same word line) of the EPROM according to the embodiment of the present invention; is a block diagram of the internal signal generation circuit according to the embodiment of the present invention, FIG. 6 is an operation time chart of the internal signal generation circuit according to the embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 8 is a block diagram of a conventional EPROM, and FIG. 9 is an explanatory diagram of problems associated with the conventional EFROM. (Explanation of symbols) 21...Memory cell, 12...Write control means, 1゛3...Storage means, 14...Control means, 15...Input/output means, VPP...Write WL...word line, BL...bit line, Y...column line, DIN...external input data, SD...internal control information.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)複数のメモリセル(21)と、該メモリセル(2
1)に接続されるビット線(BL)及びワード線(WL
)と、該ビット線(BL)毎に接続される書き込み制御
手段(12)とを具備し、前記書き込み制御手段(12
)が、外部入力データ(DIN)の一時記憶をする記憶
手段(13)と、 前記メモリセル(21)への書き込み用電源(VPP)
の供給を制御する制御手段(14)から成り、 前記外部入力データ(DIN)のメモリセル(21)へ
の書き込みが内部制御情報(SD)に基づいて、行われ
ることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
(1) A plurality of memory cells (21) and the memory cells (21)
1) bit line (BL) and word line (WL) connected to
) and a write control means (12) connected to each bit line (BL), the write control means (12) being connected to each bit line (BL).
) includes a storage means (13) for temporarily storing external input data (DIN), and a power supply (VPP) for writing to the memory cell (21).
A non-volatile semiconductor comprising a control means (14) for controlling the supply of the external input data (DIN) to the memory cell (21) based on internal control information (SD). Storage device.
(2)請求項1の書き込み制御手段(12)は、外部デ
ータ(DIN)の入出力手段(15)から分離され、前
記メモリセル(21)を挟間して、該入出力回路(15
)と対向する位置に設けられることを特徴とする不揮発
性半導体記憶装置。
(2) The write control means (12) of claim 1 is separated from the input/output means (15) for external data (DIN), and is configured to operate the input/output circuit (15) with the memory cell (21) in between.
) A nonvolatile semiconductor memory device, characterized in that it is provided at a position facing the.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6067253A (en) * 1995-05-30 2000-05-23 Nkk Corporation Nonvolatile semiconductor memory device capable of suppressing a variation of the bit line potential

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6067253A (en) * 1995-05-30 2000-05-23 Nkk Corporation Nonvolatile semiconductor memory device capable of suppressing a variation of the bit line potential
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