JPH0220281B2 - - Google Patents

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JPH0220281B2
JPH0220281B2 JP8647385A JP8647385A JPH0220281B2 JP H0220281 B2 JPH0220281 B2 JP H0220281B2 JP 8647385 A JP8647385 A JP 8647385A JP 8647385 A JP8647385 A JP 8647385A JP H0220281 B2 JPH0220281 B2 JP H0220281B2
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JP
Japan
Prior art keywords
particles
hot air
center
short cylindrical
diameter
Prior art date
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Expired
Application number
JP8647385A
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English (en)
Other versions
JPS61246578A (ja
Inventor
Masaaki Ookawara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OGAWARA KAKOKI KK
Original Assignee
OGAWARA KAKOKI KK
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Publication date
Application filed by OGAWARA KAKOKI KK filed Critical OGAWARA KAKOKI KK
Priority to JP8647385A priority Critical patent/JPS61246578A/ja
Publication of JPS61246578A publication Critical patent/JPS61246578A/ja
Publication of JPH0220281B2 publication Critical patent/JPH0220281B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Drying Of Solid Materials (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は大径粒子用短円筒型容器を用いて比較
的大径の粒子を製品として得る噴霧乾燥方法およ
び該方法を実施する短円筒型噴霧乾燥装置に関す
る。
〔従来の技術〕
回転円盤型アトマイザーを使用した比較的大き
な粒子の製品を得る場合、従来は第4図のように
上部は直径の大きな円筒型で、下部は逆円錐型の
背の高いスプレードライヤーを用いていた。そし
てこのような背の高いスプレードライではスプレ
ードライヤー101の天井にとりつけたアトマイ
ザー102の外周に熱風入口103と場合によつ
ては冷風入口104とを設けている。この場合粒
子G,gと熱風h冷風cとが並流して流れるの
で、後述する本願発明のように向流する場合に比
べ、大きい粒子径の製品を希望する程、噴霧粒子
の飛行距離が大きくなりその結果乾燥効率が低
く、ドライヤー101の径も大きく、しかも背も
高くならざるを得ない。
〔解決しようとする問題点〕
本発明は従来の大径粒子の噴霧乾燥に用いるス
プレードライヤー101の熱風hと粒子G,gが
並流のために、乾燥効率が低く、その結果ドライ
ヤー1が大型になる問題点を解決しようとするも
のである。
〔解決しようとする手段〕
従来回転デイスク型アトマイザーを使用したセ
ラミツクス原料などの比較的大径の粒子の製品を
得る場合、乾燥室の直径と高さが大きくなつてい
た。
そこで、本発明者は原料の乾燥性が良い、液状
原料を乾燥して、大径粒子の製品を得る場合を主
対象として乾燥方法を考え、従来の回転円盤型ス
プレードライヤーでは不可能であつた液状粒子
G,gと熱風hとの向流接触によつて乾燥が行な
われ、かつある程度の分級が可能なものとするこ
とを試みた。
前記の場合では原液粒子G,gと熱風hとが向
流的に接触するため、乾燥効率が良く、かつ乾燥
が比較的緩やかに進行する。
すなわち、本発明の大径粒子用短円筒型容器1
はスプレードライヤーと分級器の機能を兼ね備え
たもので、サイクロンに発生する渦流と同様な固
定壁半自由渦を形成させる構造を備える。
〔作用〕
本発明の大径粒子用短円筒型容器1においてア
トマイザー2から噴霧された粒子G,gは、慣性
力で乾燥室の外周壁に向つて飛ぼうとするが、一
方円筒型乾燥室1の外周壁に接線方向から導入さ
れた熱風hは渦巻状に回転しながら、中心に向つ
て移動する。この結果粒子G,gと熱風hは向流
的に接触し、粒子G,gの外周方向への飛距離は
小さくなる。また、大流子Gは外周近くまで飛散
するが、そこで外周からの高温熱風にてすみやか
に乾燥し、製品となる。
〔構成の説明〕
まづ図面の部材について説明する。
1…本発明短円筒型容器の乾燥室で短円筒型であ
る。
2…回転円盤型アトマイザー、 3…乾燥室1の外周壁に接線方向に取付けられる
熱風入口で1ケ所又は複数個設けられ熱風hを
乾燥室1内に渦巻状に送り込む。
4…アトマイザー2周縁に設けた低温空気入口
で、アトマイザー2を冷却する。
5…排気と小径粒子の出口、 6…大径粒子の出口、 7…排気と小径粒子導入口、 8…円筒底面で中央部の小径粒子導入口7に向つ
て上向きに傾斜している。
以下その作用について説明する。
アトマイザー2の回転円盤から慣性力によりド
ライヤー周壁に向つて飛散する粒子G,gはドラ
イヤーの外周から渦巻状に投入され、旋回しなが
ら内側に向う熱風hと向流的に接触し、大径粒子
Gは乾燥しながら外周壁に導かれ、大径粒子取出
口6から製品として取り出され、小径粒子gは乾
燥しながら気流に乗つてUターンして傾斜底面8
の中央部の小径粒子導入口7から気流と共に排出
される。
これは傾斜底面8の角度を適切に選定すること
により粒子G,gは熱風hに対する粒子G,gの
遠心力と中央に向う熱風の抗力の相対的差異によ
り分級されるからである。
以上のように特に大粒子Gと熱風hとは向流的
に接触することにより大粒子Gの乾燥効率が従来
の装置に比べ飛躍的に上昇する。そして大粒子G
の飛距離が格段に減少する。したがつて、処理さ
れる乾燥性の良い原料の大径粒子Gを製品として
回収しようとする場合例えばアルミナスラリーの
乾燥等を主対象として乾燥方法を考えるならば本
発明のような短円筒型スプレードライヤーが最適
で充分にその機能を果すことができる。
また、アトマイザー2の周囲からアトマイザー
2の冷却および、噴霧の巻き上がりを押えるため
に冷風hを入れることは一般に行なわれているが
この乾燥方法、装置の場合も同様に冷風hが冷風
入口4から導入される。
〔効果〕 同じ大きさの製品粒子を得る場合スプレード
ライヤーの直径が小さく、また高さが低くなり
コンパクトになる。なぜならば大径粒子を製品
として得る場合、特に大粒子Gは熱風hとは向
流的に移動し、高温熱風域に達して後に回収さ
れるので乾燥効率が良く、また滞留時間が長く
とれ第5図に示すような大径のスプレードライ
ヤーを用いなくても充分に製造することができ
る。
さらに傾斜底面8を設け遠心力による分級効
果が出るようにしたので従来の長く大きな逆円
錐形部が不用であり、スプレードライヤーはそ
れだけ高さを低くすることができる。
熱風hと粒子Gが向流的に接触するため、嵩
比重の大きい充実球が得られ製品の質が向上す
る。
実際の装置では傾斜底面8の傾斜は緩いの
で、洗滌、確認が容易である。
傾斜底面8上での分級により製品の本体下収
率が向上する。
熱風hが外周から入り、回転円盤型アトマイ
ザー2と離れており、高温ガスの使用が容易と
なる。
実施例 1 被乾燥物:電子材料用フエライト原料の噴霧乾燥 乾燥室の寸法:短円筒容器で、直径2.5m、高さ
1m 原液:フエライトスラリー 固形分40% 原液供給量:210Kg/H 入口熱風温度:300℃ 冷風量:60Kg/H 出口温度:100℃ 上記諸元により試験した結果次のような結果を
得た。
製品取出口からの製品の平均粒子径 80ミクロン 排気で回収された小径粒子の平均粒子径
30ミクロン 製品回収率 87% 実施例 2 被乾燥物:フアインセラミツクス用アルミナ原料 乾燥室の寸法:直径5m×高さ2m 熱風量:20000Kg/H 熱風の入口温度:250℃ 排気温度(出口の温度):100℃ 冷風量:120Kg/H 原液:アルミナスラリー 固形分50% 原液供給量:180oKg/H 上記諸元により試験した結果次のような結果を
得た。
製品の平均粒子径 110ミクロン 小径粒子の平均粒子径 40ミクロン 製品の収率 92%
【図面の簡単な説明】
第1図:本発明スプレードライヤーの断面図、
第2図:第1図−断面図、第3図:同じく作
用説明図、第4図:従来装置の作用説明図。 1……短円筒型容器、2……回転円盤型アトマ
イザー、3……熱風入口、4……冷風入口、5…
…排気導管、6……製品取出口、7……小径粒子
導入口、8……傾斜底面、G……大粒子、g……
小粒子、h……熱風、c……冷風。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 中高の底面を持つ短円筒型容器1の中央か
    ら、回転円盤型アトマイザー2によつて外側に向
    つて放出された液状粒子が、短円筒型容器1の外
    周接線方向に導入され、中央底部より排出される
    旋回する熱風hにより乾燥されるとともに、旋回
    する熱風hに同伴して旋回する粒子の遠心力と、
    外側から内側に流れる熱風hの粒子に対する抵抗
    力との関係で定まる粒子径で分級され、大粒子G
    は遠心力により外壁側に移動し、外周に設けた回
    収ゾーンで回収され、小粒子gは熱風hの流れに
    乗つて中央に移動し、熱風hと共に排気される、 ことを特徴とする大径粒子用短円筒型容器を用い
    た噴霧乾燥方法。 2 全体の形状が短円筒型であつて、その天井9
    中央に回転円盤型アトマイザー2を取付け、外周
    面には円筒に接線方向に熱風入口3を設け、外周
    面下部には大径粒子取出6とを設け、中央に向つ
    て上向き中高の傾斜底面8の中央には小径粒子及
    び排風出口7を設けた、 ことを特徴とする大径粒子用短円筒型噴霧乾燥装
    置。
JP8647385A 1985-04-24 1985-04-24 短円筒型容器を用いた大径粒子用噴霧乾燥方法および該方法を実施する装置 Granted JPS61246578A (ja)

Priority Applications (1)

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JP8647385A JPS61246578A (ja) 1985-04-24 1985-04-24 短円筒型容器を用いた大径粒子用噴霧乾燥方法および該方法を実施する装置

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JP8647385A JPS61246578A (ja) 1985-04-24 1985-04-24 短円筒型容器を用いた大径粒子用噴霧乾燥方法および該方法を実施する装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61246578A JPS61246578A (ja) 1986-11-01
JPH0220281B2 true JPH0220281B2 (ja) 1990-05-08

Family

ID=13887932

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8647385A Granted JPS61246578A (ja) 1985-04-24 1985-04-24 短円筒型容器を用いた大径粒子用噴霧乾燥方法および該方法を実施する装置

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JPS61246578A (ja) 1986-11-01

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