JPH02200U - - Google Patents
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- JPH02200U JPH02200U JP7771988U JP7771988U JPH02200U JP H02200 U JPH02200 U JP H02200U JP 7771988 U JP7771988 U JP 7771988U JP 7771988 U JP7771988 U JP 7771988U JP H02200 U JPH02200 U JP H02200U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cylindrical tube
- plasma
- sprayed
- plasma spraying
- gas
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Nozzles (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例に係るプラズマ溶射
装置の概略図、第２図は従来例に係るプラズマ溶
射装置の概略図を示す。 図面中、４はプラズマ、７は粉末材料、８は被
溶射物、１１は誘導コイル、１２はプラズマ管、
１６はプルーブ、２１は加速トーチ、２３は噴射
ノズル、２４は加速力が与えられた溶射粒子であ
る。
装置の概略図、第２図は従来例に係るプラズマ溶
射装置の概略図を示す。 図面中、４はプラズマ、７は粉末材料、８は被
溶射物、１１は誘導コイル、１２はプラズマ管、
１６はプルーブ、２１は加速トーチ、２３は噴射
ノズル、２４は加速力が与えられた溶射粒子であ
る。
Claims (1)
- 被溶射物と対向する円筒管と、この円筒管の囲
りを囲む誘導コイルと、該円筒管内にプラズマ化
させる作動ガスを供給するガス供給口と、このプ
ラズマ内に粉末材料を供給するプルーブとを有す
るプラズマ溶射装置であつて、上記円筒管の被溶
射物側の端部に設けられるとともに発生したプラ
ズマの下流側で高圧ガスをスパイラル状に噴射す
る噴射ノズルを有する加速トーチを具備すること
を特徴とするプラズマ溶射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7771988U JPH02200U (ja) | 1988-06-14 | 1988-06-14 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7771988U JPH02200U (ja) | 1988-06-14 | 1988-06-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02200U true JPH02200U (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=31302684
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7771988U Pending JPH02200U (ja) | 1988-06-14 | 1988-06-14 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02200U (ja) |
-
1988
- 1988-06-14 JP JP7771988U patent/JPH02200U/ja active Pending
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