JPH02197389A - レーザービーム走査で表面を処理する装置 - Google Patents

レーザービーム走査で表面を処理する装置

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JPH02197389A
JPH02197389A JP1315118A JP31511889A JPH02197389A JP H02197389 A JPH02197389 A JP H02197389A JP 1315118 A JP1315118 A JP 1315118A JP 31511889 A JP31511889 A JP 31511889A JP H02197389 A JPH02197389 A JP H02197389A
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cylindrical
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アシヤル　エルヴェ
Hubert Bono
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Jean-Pierre Joly
ジョリ　ジャン―ピエール
Jean-Luc Mermet
メルメ　ジャン―リュク
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はレーザービーム走査で表面を処理する装置に係
わり、特に冶金学並びに超小型電気工業の分野に適用さ
れる。
従来技術、および発明が解決しようとする課題幾つかの
知られている装置は、例えば表面を溶融し或いは再結晶
させるような表面処理に際してレーザービームを使用し
ている、最良の結果を得るためにレーザー（光発振器）
の伝搬モード（通常はＴＥＭ００とされる）は、最大可
能な波長で且つ高出力密度を保持した状態で、細長いス
ポットを得るように変調される。
このようなスポットを得るために、円筒形のアフォーカ
ル系即ち無限焦点系の拡大鏡を使用する第１の装置が知
られている。伝搬モードがＴＥＭ００のビーム、即ち断
面にてエネルギーが正規分布されているビームをレーザ
ーが与える。
円筒形の無限焦点系拡大鏡を通る光路は、このガウスビ
ームを円形断面から楕円形断面に変換するのである。
変換されたビームは平行であり、このビームが対物鏡に
よって処理されるべき表面上に収束される。対物鏡の焦
点面に於いてビームの像は楕円形のスポットを形成する
ので″あり、この楕円比率は円筒形の無限焦点系拡大鏡
の倍率に等しい。
回折のみによって決定されるスポットの直径は次式によ
って与えられる。即ち、 ｄ＝　（４λＦ）／　（πｋｗ） Ｄ−（４λＦ）／　（πＷ） ここで、 ｄ　は楕円の短軸 Ｄ　は楕円の長軸 λ　はレーザーの波長 Ｆ　は対物鏡の焦点距離 ｋ　は円筒形の無限焦点系の倍率 Ｗ　はレーザービームの直径 楕円比率（Ｄ／ｄ）は円筒形の無限焦点系の倍率（ｋ）
に等しい。従って、この楕円比率は対物鏡の入射口径に
よって制限される。何故ならば、その直径を超える寸法
にまでビームを拡大することは無意味となるからである
。成る是の光は対物鏡によって収束されずに失われるこ
とになる。
従って、最大で約１０の楕円比率が得られ、これがこの
装置の第１の欠点となるのである。更に、上述の装置は
使用上の広い汎用性を有していない。
楕円比率の変更（前述にて述べた範囲内での変更）のた
めには、表面を処理するために使用されている無限焦点
系拡大鏡の交換並びに光学チェーン全体の再配置が必要
となる。
この装置の他の欠点は、楕円の長軸を係数Ｘで倍加する
ためには同じ係数で入射ビームの直径Ｗを縮小するとと
もに係数×２でその面積を縮小することが必要となるこ
とである。更に、拡大された楕円（Ｗを縮小することで
拡大された）に於いて同じ出力密度を保持するためには
、入射出力を係数Ｘで倍加することが必要となる。
従って、円筒形の無限焦点系拡大鏡の入射位置に於いて
単位面積当りの出力は係数×３を有することになる。必
要な高出力密度の作用の下で、使用された光学装置は急
激な劣化を受けることになるのである。
この装置の他の欠点は、円筒形の無限焦点系拡大鏡の光
学的な収差の補正、特に楕円の短軸に影響を及ぼすよう
な収差の補正にある。
色収差の補正が困難なこと、並びに円筒形の無限焦点系
拡大鏡のレンズに於いて同様に収差の補正が困難なこと
は良く知られており、このようなレンズもまた高出力密
度に耐えるように処理されるのである。
この装置のその他の欠点は前述にて説明したことの全て
の結果として生じるのであり、即ちこのような装置を製
造する上で課せられる全ての制約がコストをかなり高い
ものとしてしまうのである。
細長い光のスポットを得ることを可能とし、表面を処理
するのに適当な出力密度を使用する第２の装置が知られ
ている。この装置は、伝搬モードがＴＥＭＯＩであるレ
ーザーを含んでいる。このために、レーザーの空洞共振
器を形成する反射鏡の配列が適用されるのである。
第１図は、得られたいんげん豆の形状に似た即ち変形楕
円形のスポット形状を図解的に示している。この形状は
軸線（ａ）に沿って長い寸法を有している。
第２図は、この装置によって得られたビームの軸線（ａ
）に沿う強さの輪郭を図解的に示している。座標軸Ｉは
任意の単位当たりの光の強さを表している。軸線（ａ）
に沿う強さ分布は２つの極欠点を有し、その輪郭はラク
ダの背中のような形状をしている。このスポラ１−は処
理されるべき表面上に対物鏡によって収束するようにな
され、又この作動がこの強さの輪郭を保持するのである
。
この装置は多くの欠点を有している。スポットに於Ｃプ
る光の強さ分布が２つの極大点を有し、このことは可能
な限り強さの分布が均一であることを要求する成る種の
応用例（例えば、焼鈍）に対して不利となる。
得られたスポット形状を楕円と見做して計算できる楕円
比率は、２に等しいか又は２よりも小ざいのであり、こ
のことは装置に対する重大な制約となる。
更に、レーザーは基本モードのときよりも安定生の少な
いモードで作動する。このような不安定生が出力変動を
引き起こし、これは表面の処理に対して不利となる。
最後に、スポット形状に関する何れの変更も光学的チェ
ーンに於ける少なくとも１つの要素（例えば、レーザー
の空洞共振器に於ける反射鏡）を変更させることになる
。
ミックスされた２つのレーザービームを使用して、１つ
の細長いスポットだけを形成するようになされた第３の
装置が知られている。このスポットは２つのビームによ
るそれぞれの円形のスポットによって形成される。長軸
に沿うその強さの分布は第２図に示され且つ先に説明さ
れたものと同様である。
この装置は、強さの輪郭がラクダの背中のような形状と
なる固有の欠点を有している。更に、２つのレーザーの
使用が必要とされ、これは調整を特徴とする特に２つの
ビームの出力が同じで極めて正確に制御されるべき場合
には、調整が困難となる。それ故に、この装置は制御が
困難でしかも高価なものとなる。
本発明の目的はこれらの欠点を排除することであり、即
ち格円スポッ′トを得ることであって、その楕円比率が
装置の光学的チェーンを操作せずに望まれるように調整
でき且つその比率が一層大きな値にすることができるよ
うになすことである。
本発明の他の目的は、装置に於ける様々な光学要素を高
出力密度に曝す必要性を無くすことである。このために
本発明は、円筒形のアナモルフオド系即ち歪像系のアタ
ッチメントに連結された球面形の無限焦点系拡大鏡の使
用を推奨するのである。
課題を達成するだめの手段 更に詳しくは本発明は、レーザーと、レーザービーム変
換チェーンと、レーザービーム走査装置と、収束光学装
置とによって表面を処理するＩＣめの装置に関する。こ
の変換チェーンは球面形の無限焦点系拡大鏡並びに円筒
形の歪像系アタッチメントを有して構成される。
ガウスビームを与えるレーザーの出口に配置された球面
形の無限焦点系拡大鏡は、ビームを実質的に平行に保持
したまま該ビームの断面の直径を拡大できる。これによ
り、この拡大鏡に続いて配置された全ての光学要素が高
出力密度に耐えねばならないということはなくなるので
ある。
円筒形の歪像系アタッチメントは、レーザーからのガウ
スビームを１つの軸線上で変調可能な傾き方向（ｖｅｒ
ｇｅｎｃｅ）を有するビームに変換することができるよ
うになす。
構造上の変形例によれば、円筒形の歪像系アタッチメン
トは１つの軸線に沿って様々な倍率を有する。これによ
り、短軸を変化させることなく長袖を変化させることに
よって、基体上に収束された光のスポットの楕円率を調
整することが可能となる。従ってこのことは、光のスポ
ットの直径を変化させることが望まれたとぎに、光学要
素の重大な操作や置換を避けられるようになすのである
。
好ましい実施例に於いては、円筒形の歪像系アタッチメ
ントは円筒形の平凸レンズおよび円筒形の平凹レンズを
有しで構成される。
別の構成によれば、円筒形の歪像系アタッチメントは円
筒形の凹面鏡および円筒形の凸面鏡を有して構成される
。
更に他の構成によれば、円筒形の歪像系アタッチメント
は円筒形の凹面鏡および円筒形の平凹レンズを有して構
成される。
更に他の構成によれば、円筒形の歪像系アタッチメント
は円筒形の平凸レンズおよび円筒形の凸面鏡を有して構
成される。
好ましい実施例によれば、変換チェーン、走査装置およ
び収束光学装置は使用されたレーザービームの波長に対
して色消しされる。
好ましい実施例によれば、円筒形の歪像系アタッチメン
ト形成する２つの光学要素は一方が収束要素、他方が発
散要素とされ、それらの収束度および発散度が補完関係
となるようにされる。
好ましい実施例によれば、走査装置は少なくとも１つの
振動鏡を組み込んでいる。
好ましい実施例によれば、本発明による装置はまた、意
図する表面処理に応じて反応性或いは化学的に不活性の
ガスを封入された収納体を含んでいて、該収納体はレー
ザービームに対して透明なシールド窓を備えているとと
もに、前記収納体の内部では加熱支持体が表面処理すべ
き材料を受け止めることができるようになされており、
又、バルブで閉じられている開口を通して収納体に連結
された取り付けロック装置を含んでいて、該ロック装置
は内部に可動アームを備えており、該アームは前記材料
を受け止めることができるとともにロック装置の外側か
ら作動されることができるようになされており、前記ア
ームは材料を収納体内へ導いて該材料を支持体上に位置
決めすることができるようになされて構成される。
この装置の構造上の変形例によれば、加熱支持体は第１
の方向Ｄ１に移動づ“る第１のプレートに固定され、こ
の第１のプレートは第１の方向と直角な第２の方向Ｄ２
に移動する第２のプレー１〜と組み合わされるのである
。
本発明は、以下に、限定例ではない実施例並びに添付図
面を参照して詳細に説明される。
実施例 第３図は本発明による装置を図解的に示している。レー
ザー１０はガウスビームを与える。このレーザーは連続
する２０Ｗビーム（例えば、多数ラインの形態とされる
）を与えるイオン化アルゴンレーザーとづ゛ることがで
きる。望まれる表面処理並びに使用される出力レベルに
応じて、例えばＣＯ２レーザーを使用することもできる
。ビームは変換チェーン１１（変換手段の連鎖）を伝搬
される。この変換チェーン１１は球面形の無限焦点系拡
大鏡１２および円筒形の歪像系アタッチメント１４を組
み込んでいる。球面形の無限焦点系拡大鏡１２は倍率Ｑ
を有しており、この倍率は例えば９．３に等しくするこ
とができる。
拡大されたビームは円筒形の歪像系アタッチメント１４
を通過する。最初の等方性の傾きは異方性となる。従っ
て歪像系アタッチメント１４に対して作用することによ
って、収束されたスポットの楕円比率は以下に示される
ようにランダムに調整されることになる。
歪像系アタッチメントを離れた後、ビームは走査装置１
６に当たる。この走査装置は好ましい方法としてモータ
ー２０で作動される振動鏡１８を有している。ビームば
収束光学装置２２を横切って走査移動を行う。
収束装Ｍ２２は、例として焦点距離が２２５ｍ。
０径が２４ｍ、そして焦点面での視界が１２５麿とされ
得る平面的な視界の対物鏡とされることが好ましい。平
面的な視野の対物鏡は焦点外れを生じることなく広い視
界の走査を田面にするのである。
これらの光学要素の全て（変換チェーン１１、走査装置
１６および収束光学装置２２）は、その装置に使用され
る波長（アルゴンの場合は４８８および５１４，５ｎｍ
、Ｃｏ２の場合は１０．６０Ｑｎｍ）に関して色消しさ
れている。
処理される表面を有する材料２３は収納体２４内に置か
れる。この収納体２４内は不活性ガスの雰囲気とされて
いる。このガスは窒素とすることができる。収納体内の
圧力は例えば数トール（Ｔｏｒｒ）とすることができる
。この収納体は使用される波長に対して透明なシールド
窓２６を備えている。
材料２３は処理されるべき表面を窓２６に向けて加熱支
持体２８の上に例えば真空圧によって保持される。この
支持体２８が加熱される温度は意図された使用に応じて
決るのであり、例えば８００℃とされることができる。
材料２３は取り付けロック装置３０によって収納体２４
内に導かれる。これは、収納体２４内が窒素雰囲気とさ
れているからである。バルブ３４で緊密に閉じられてい
る開［］３２が収納体２４をロック装置３０に連結して
いる。ロック装置３０は内部な移動アーム３６を備えて
おり、このアームは材料２３を受け止めることができる
とともにロック装置３０の外部から作動できるようにな
されている。アーム３６は例えばプレート３８を含んで
構成される。
材料２３は開［１４０を通してロック装置３０内へ導か
れ、プレート３８上に取り付けられる。開口４０はドア
ー４２によって閉じられており、このドアーはロック装
置３０を外部から隔離することを保証しているのである
。
アーム３６がバルブ３４を押しつつ開口３２を通して材
料２３を収納体２４内へ導く。材料２３は支持体２８の
上に位置決めされて真空圧により保持される。アーム３
６は然る後にロック製画３０内に再び位置決めされる。
走査速度を高めるために、支持体２８は第１の方向Ｄ１
に移動する第１のプレート４４に固定される。この第１
のプレートは、第１の方向Ｄ１と直角な第２の方向へ移
動する第２のプレート４６と組み合わされている。
対物鏡２２を伝搬された格円形ビームは窓２６を伝搬さ
れて処理すべき表面を走査する。
円筒形の歪像系アタッチメント１４の光学装置は異なる
方法で構成することができる。第４Ａ図〜第４Ｄ図は４
つの実施例を示している。
第４Ａ図は円筒形の歪像系アタッチメントを構成する第
１のカドブトリック系の光学装置を示している。この円
筒形の歪像系アタッチメントは、円筒形の凸面鏡５ｏか
ら離隔された円筒形の凹面鏡４８で置換することができ
る。ガウスビームは先ず凹面鏡４８で反射され、次に凸
面ｆｆ１５０で反射される。これらの２つの反射鏡５０
および４８の収束度および発散度は補完関係とされるの
が好ましい。
２つの反射鏡の使用は色収差を簡単に防止することがで
き、又、非常に高出力のレーザー１０を使用する装置の
使用を容易となす。
楕円比率は距離１１　ｅＩ＋を変更することによって変
化することができる。
反射１４８．５０の全体的な寸法は距１１ｅの縮小を制
限する。この距離は楕円比率に比例する。
第４Ｂ図に断面で図解的に示されているデイオプトリッ
ク系の装置が最も融通性が高い。何故ならば距１ｌｌｌ
ｅをＯから無限大（実際的にはこの距離ｅは例えば最大
３５ｅ＋に制限される）変化させることができるからで
ある。
この好ましい実施例は円筒形の平凸レンズ５２および円
筒形の平凹レンズ５４を有して構成されている。球面形
の無限焦点系拡大鏡１２から出たビームは先ずレンズ５
２を、次にレンズ５４を通過する。これら２つのレンズ
５２および５４の収束度および発散度が補完的関係とさ
れていることが好ましい。
第４Ｃ図および第４Ｄ図は、円筒形の歪像系アタッチメ
ントを形成するカタディオプトリック系の光学装置を図
解的に断面で示している。
第４Ｃ図に示した装置は円筒形の凹面１１５６および円
筒形の平凹レンズ５８で構成されている。
ビームは先ず凹面鏡５６で反則された後、レンズ５８を
通過する。
凹面鏡５６およびレンズ５８は距ｗｉｅだけ離間されて
いる。この距離は任意の方法で調整することができ、又
、装置１４の出口で得られるビームの楕円比率に比例す
る。
第４Ｄ図の装置は円筒形の平凸レンズ６０および円筒形
の凸面鏡６２で構成されている。球面形の無限焦点系拡
大鏡から出たビームは先ずレンズ６０を通過し、次に凸
面１１６２で反射される。
これらの２つの要素６０および６２は距＠、ｅだけ離間
されている。この距離は任意に調整でき、又、符号２３
で示す位置である装置の出口にて得られるビームの楕円
比率に比例する。
後者２つの実施例に関しては、収束要素は発散要素の補
完関係とされるのが好ましい。
これらの全ての実施例に関して、収束光学装置２２の焦
点に於ける楕円スポットの刈払は次式によって大体与え
られる。即ち、 ｄ−（４λＦ）／（πｋｗ） Ｄ　＝（ｋｗＦｅ）／（ｆ　　　）　　　　　　ｅ＞０
ここで、 ｄ　は楕円の短軸 Ｄ　は楕円の長軸 λ　はレーザーの波長 １：　は収束光学装置２２の焦点 ｋ　は球面形の無限焦点系拡大１ｔ１２の倍率Ｗ　はレ
ーザービームの直径（レーザーを出る位置での） ｅ　は円筒形の歪像系アタッチメント１４を形成する光
学要素間の距離 ｆ　は円筒形の歪像系アタッチメント１４を形成リ−る
光学要素の焦点距離 第４Ａ図〜第４Ｄ図に示された何れの実施例に於いても
、円筒形の歪像系光学装置１４を構成１る光学要素４８
．５０．５２．５４．５６，５８゜６０．６２の各々の
焦点距離は同じで、ｆに等しい。例えばこの距離は３０
１ｍとされる。
距離ｅはＯから無限大に迄変化させることができる。特
別な実施例では、ｅの変化は５〜３５１１ＩＩＩに限定
される。
成る実施例に於いて、ビームＷの直径は１．９厘である
（この直径はレーザー１０を離れるガウスビームの中央
に於ける強さを１／ｅ２倍した強さに等しい）。
球面形の無限焦点系拡大鏡１２の倍率には例えば約９と
される。収束光学装置２２の焦点距離Ｆは例えば２２５
Ｎとされることができる。
これらの値は、短軸ｄが約１０μｍで長軸が２２０μＴ
ｒＬ〜１５４０μｍの間である楕円形スポットを導ひき
出す。
このようにして、楕円比率は次式で表される。
即ち、 Ｄ／ｄ−（πｋ　　ｗ　　ｅ）／　（ｆ２４λ）この関
係式は楕円比率と距１１１ｅとの間の比測定数を定める
のである。
図示した限定する意図のない状態で与えられた上述した
値に関しては、楕円比率Ｄ／ｄは２２から１５４迄の範
囲とされる。
装置の満足できる作動を得るために、走査装置の各々の
光学要素出口に於ける波面の幾何学的な変形は、１／４
波長よりは小さくなければならない。従って、幾何学的
な収差は無視できるのである。
第３図は本発明に使用可能とされる円筒形の歪像系アタ
ッチメント１４を断面で図解的に示している。
第４Ｂ図によれば、光学要素は２つの円筒形レンズ５２
．５４で構成されている。レンズ５２は平凸レンズで、
レンズ５４は平凹レンズとされている。これらの２つの
レンズ５２．５４は互いに補完関係とされている。レン
ズ５２は、支持体６４に固定された保持部品６６によっ
て支持体６４の凹部内に保持されている。レンズ５４は
支持体６８に固定された保持部品７０によって支持体６
８の凹部内に保持されている。レンズ５２の凸面がレン
ズ５４の凹面と向かい合わされている。
支持体６４および６８は円筒形の主本体７２の内部に収
容されており、この主本体は両端に装置の光軸ＡＯに芯
出しされた２つの開ロア４および７６を有している。開
ロア４はガウスビームを歪像系アタッチメント１４内へ
導入するようになし、開口アロはそのビームが出て行く
ようにしている。
支持体６４および６８はビームの自由な伝播を可能にす
る開口を明らかに有している。
支持体６４は光軸ＡＯの回りに回転できるようになって
いる。主本体７２に固定されている無端スクリュー８０
と噛み合わされた支持体６４に固定されている歯付リン
グ即ちリム７８がその回転をチエツク即ち制御できるよ
うになっており、この回転によってレンズの母線の平行
度を保証できるようになしている。
支持体６８は光軸ＡＯに沿って移動できるようになって
いる。支持体６８に固定されｄつ無端スクリュー８４と
噛み合うラック８２がその移動をチエツク即ち制御でき
るようになっている。この移動によって２つのレンズ５
２．５４は離れる方向へ移動されて楕円比率を変化させ
るようになされる。しかしながら、支持体６４は移動せ
ず、支持体６８は回転しない。
レンズの平行度を得るために、図示していない調整装置
を使用することができる。この調整装置はオートコリメ
ーションのアイピースを含み、歪像系アタッチメント１
４から艶出しされた表面へビームを投影するようになす
。
このような調整即ちセツティングは、スクリュー８０を
作動して支持体６４を主本体７２の内部で回転させるこ
とにより、可能な限り微細調整して楕円を得る段階を含
む。平行度は保持され、レンズ５２．５４の間での変化
は問題ない。
他の構造が使用されることは構わない。本発明による装
置は様々な利点を与える。従って、楕円比率はｅを変化
させるだけで１〜１００もしくはそれ以上の範囲で変化
できるのである。それ故にこの装置は非常に融通性が高
く、素早い方法で且つその他のセツティングを変更する
ことなく意図された応用例に対して楕円比率を適合させ
ることができるのである。
係数Ｘによって楕円比率を増大し且つビームの出力密度
を一定に保持するためには、２つのレンズ５２．５４の
間の距［ｔｅを係数Ｘで変化させ、レーザー１０からの
ビームの出力を係数Ｘで倍加させることだけでよいので
ある。
スポットの短軸（ｄ）の寸法はｅから独立したものであ
り、従って装置に入力する出力密度は係数Ｘに影響され
るだけである。
球面形の無限焦点系拡大鏡１２の入射面のみが高出力に
露出されるのであって、光学チェーンのその伯の要素は
保護されるのである。劣化した場合には、この入射面は
円筒形の拡大鏡の場合にりも一層簡単に製造することが
できる。
これらの利点によって本発明による装置は如何なる特別
な光学的補正を必要とせず、又、安価を維持できるので
ある。
本発明による装置の工業的な応用分野として絶４゜ 縁フィルム上のシリコンの製造がある。これは３次元集
積回路の製造に使用されている。本発明による装置のそ
の他の応用分野としては冶金学に使用される処理、即ち
非結晶化処理がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は、従来装置からの光ビームの断面を図解的に杏
示ず説明図。 第２図は、従来装置からの光ビームの軸線に沿う強さの
状態を図解的に示す説明図。 第３図は、本発明による装置の図解的な斜視図。 第４Ａ図から第４Ｄ図迄は円筒形の無限焦点系アタッチ
メントの光学要素のそれぞれ異なる実施例を図解的に示
す断面図。 第５図は、円筒形の無限焦点系アタッチメントを図解的
に断面で示す断面図。 １０・・・レーザー、１２・・・無限焦点系拡大鏡、１
４・・・歪像系アタッチメント、１６・・・走査装置、
１８・・・振動鏡、２２・・・収束光学装置、２３・・
・材料、２４・・・収納体、２６・−・シールド窓、２
８・・・支持体、３０・・・ロック装置、３４・・・バ
ルブ、３６・・・アーム、３８・・・プレート、４０・
・・開口、４２・・・ドアー、４４・・・第１のプレー
ト、４６・・・第２のプレート、４８・・・凹面鏡、５
０・・・凸面鏡、５２・・・平凸レンズ、５４・・・平
凹レンズ、５６・・・凹面鏡、５８・・・平凹レンズ、
６０・・・平凸レンズ、６２・・・凸面鏡、６４．６８
・・・支持体、６６．７０・・・保持部品、７２・・・
主本体、７４．７６・・・開口、７８・・・リング、８
０．８４・・・スクリュー、８２・・・ラック。

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）少なくとも１つのレーザー（１０）と、レーザー
    ビーム変換チェーン（１１）と、レーザービーム走査装
    置（１６）と、収束光学装置（２２）とを使用し、前記
    変換チェーンが円筒形の歪像系アタッチメント（１４）
    を組み込んでいることを特徴とするレーザービーム走査
    で表面を処理する装置。
  2. （２）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表面
    を処理する装置であって、前記円筒形の歪像系アタッチ
    メントに入射する前にビームを拡大するための球面形の
    無限焦点系拡大鏡（１２）を組み込んでいることを特徴
    とするレーザービーム走査で表面を処理する装置。
  3. （３）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表面
    を処理する装置であつて、円筒形の歪像系アタッチメン
    ト（１４）が１つの軸線に沿つてランダムに変化する倍
    率を有することを特徴とするレーザービーム走査で表面
    を処理する装置。
  4. （４）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表面
    を処理する装置であつて、円筒形の歪像系アタッチメン
    ト（１４）が２つの光学要素、即ち円筒形の平凸レンズ
    （５２）および円筒形の平凹レンズ（５４）、を有して
    いることを特徴とするレーザービーム走査で表面を処理
    する装置。
  5. （５）請求項４に記載されたレーザービーム走査で表面
    を処理する装置であつて、円筒形の歪像系アタッチメン
    ト（１４）を形成する光学要素の一方が凸レンズ、他方
    が凹レンズであるならば、これらの光学要素の収束度お
    よび発散度が互いに補完関係にあることを特徴とするレ
    ーザービーム走査で表面を処理する装置。
  6. （６）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表面
    を処理する装置であつて、円筒形の歪像系アタッチメン
    ト（１４）が２つの光学要素、即ち円筒形の凹面鏡（４
    ８）および円筒形の凸面鏡（５０）、を有していること
    を特徴とするレーザービーム走査で表面を処理する装置
    。
  7. （７）請求項６に記載されたレーザービーム走査で表面
    を処理する装置であって、円筒形の歪像系アタッチメン
    ト（１４）を形成する光学要素の一方が凹面鏡、他方が
    凸面鏡であり、これらの光学要素の収束度および発散度
    が互いに補完関係となるようにされていることを特徴と
    するレーザービーム走査で表面を処理する装置。
  8. （８）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表面
    を処理する装置であって、円筒形の歪像系アタッチメン
    ト（１４）が２つの光学要素、即ち円筒形の平凸レンズ
    （６０）および円筒形の凸面鏡（６２）、を有している
    ことを特徴とするレーザービーム走査で表面を処理する
    装置。
  9. （９）請求項８に記載されたレーザービーム走査で表面
    を処理する装置であって、円筒形の歪像系アタッチメン
    ト（１４）を形成する光学要素の一方が凸レンズ、他方
    が凸面鏡であるならば、これらの光学要素の収束度およ
    び発散度が互いに補完関係となるようにされていること
    を特徴とするレーザービーム走査で表面を処理する装置
    。
  10. （１０）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表
    面を処理する装置であつて、円筒形の歪像系アタッチメ
    ント（１４）が２つの光学要素、即ち円筒形の凹面鏡（
    ５６）および円筒形の平凹レンズ（５８）、を有してい
    ることを特徴とするレーザービーム走査で表面を処理す
    る装置。
  11. （１１）請求項１０に記載されたレーザービーム走査で
    表面を処理する装置であって、円筒形の歪像系アタッチ
    メント（１４）を形成する光学要素の一方が凹面鏡、他
    方が凹レンズであるならば、これらの光学要素の収束度
    および発散度が互いに補完関係となるようにされている
    ことを特徴とするレーザービーム走査で表面を処理する
    装置。
  12. （１２）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表
    面を処理する装置であつて、変換チェーン（１１）、走
    査装置（１６）および収束光学装置（２２）が使用され
    るレーザービームの波長に対して色消しされていること
    を特徴とするレーザービーム走査で表面を処理する装置
    。
  13. （１３）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表
    面を処理する装置であって、走査装置（１６）が少なく
    とも１つの振動鏡（１８）を有していることを特徴とす
    るレーザービーム走査で表面を処理する装置。
  14. （１４）請求項１に記載されたレーザービーム走査で表
    面を処理する装置であつて、ガスが封入された収納体（
    ２４）を含んでいて、該収納体（２４）はレーザービー
    ムに対して透明なシールド窓（２６）を備えているとと
    もに、前記、収納体（２４）の内部では加熱支持体（２
    ８）が表面を処理すべき材料（２３）を受け止めること
    ができるようになされており、又、バルブ（３４）で閉
    じられている開口（３２）を通して収納体（２４）に連
    結された取り付けロック装置（３０）を含んでいて、該
    ロック装置（３０）は内部に可動アーム（３６）を備え
    ており、該アームは前記材料（３２）を受け止めること
    ができるとともにロック装置（３０）の外側から作動さ
    れることができるようになされており、前記アーム（３
    ６）は材料（２３）を収納体（２４）内へ導いて該材料
    （２３）を支持体（２８）上に位置決めすることができ
    るようになされていることを特徴とするレーザービーム
    走査で表面を処理する装置。
  15. （１５）請求項１４に記載されたレーザービーム走査で
    表面を処理する装置であつて、加熱支持体（２８）が第
    １の方向（Ｄ１）に移動する第１のプレート（４４）に
    固定されており、該第１のプレート（４４）は第１の方
    向に対して直角な第２の方向（Ｄ２）に移動する第２の
    プレート（４６）と組み合わされていることを特徴とす
    るレーザービーム走査で表面を処理する装置。
JP1315118A 1988-12-05 1989-12-04 レーザービーム走査で表面を処理する装置 Pending JPH02197389A (ja)

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FR8815896 1988-12-05
FR8815896A FR2639857B1 (fr) 1988-12-05 1988-12-05 Dispositif pour le traitement d'une surface par balayage d'un faisceau laser

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JP (1) JPH02197389A (ja)
DE (1) DE68913674T2 (ja)
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EP0373055A1 (fr) 1990-06-13
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FR2639857B1 (fr) 1991-01-18
DE68913674T2 (de) 1994-09-08
DE68913674D1 (de) 1994-04-14

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