JPH0219444B2 - - Google Patents

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JPH0219444B2
JPH0219444B2 JP215086A JP215086A JPH0219444B2 JP H0219444 B2 JPH0219444 B2 JP H0219444B2 JP 215086 A JP215086 A JP 215086A JP 215086 A JP215086 A JP 215086A JP H0219444 B2 JPH0219444 B2 JP H0219444B2
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JP
Japan
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titanium
counter electrode
film
electrode
display element
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JP215086A
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Japanese (ja)
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JPS62161130A (en
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Hidekazu Ando
Kenji Matsuhiro
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電気化学的酸化還元反応により、着消
色を示すエレクトロクロミツク表示素子(ECD)
に関するものであり、更に詳しくは特性を向上さ
せたECDに関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an electrochromic display device (ECD) that exhibits color change through an electrochemical redox reaction.
More specifically, it relates to ECDs with improved characteristics.

[従来の技術] 表示電極と対向電極を有し、電解質として炭酸
プロピレンのような非水溶媒に過塩素酸リチウム
などの塩を溶解させた溶液型エレクトロクロミツ
ク表示素子は、パターンツジのぼけを少なくする
ためや、コントラストを向上させるために通常表
示極と対極の中間に反射層を設置して反射型とし
て用いられる。第1図にその代表例の断面図を示
す。
[Prior Art] A solution-type electrochromic display element has a display electrode and a counter electrode, and has a salt such as lithium perchlorate dissolved in a non-aqueous solvent such as propylene carbonate as an electrolyte. In order to reduce the amount of noise or to improve the contrast, a reflective layer is usually provided between the display electrode and the counter electrode to be used as a reflective type. FIG. 1 shows a cross-sectional view of a typical example.

対向電極基板1は通常ガラス、プラスチツク、
セラミツクスなどの絶縁基板上に、導電性薄膜2
からなる対向電極3への給電電極を形成した後
に、二酸化マンガンなどの減極剤とカーボンなど
の導電性繊維及びバインダーなどからなる対向電
極3を接着してつくられる。
The counter electrode substrate 1 is usually made of glass, plastic,
A conductive thin film 2 is placed on an insulating substrate such as ceramics.
After forming a power supply electrode to the counter electrode 3 made of the above, the counter electrode 3 made of a depolarizer such as manganese dioxide, conductive fibers such as carbon, a binder, etc. is bonded.

表示電極基板4は、ガラス上にITOなどの透明
導電膜5を形成し、パターンニングした後、必要
な部分に非晶質酸化タングステンをはじめとする
エレクトロクロミツク物質6を形成してつくられ
る。また、必要に応じて露出した透明電極を保護
するための保護層7が形成される場合もある。
The display electrode substrate 4 is produced by forming a transparent conductive film 5 such as ITO on glass, patterning it, and then forming an electrochromic material 6 such as amorphous tungsten oxide in required areas. Further, a protective layer 7 for protecting the exposed transparent electrode may be formed as necessary.

これらの対向電極基板1と表示電極基板4を対
向配置し、間に多孔質の光反射層8を設置して重
ねあわせ周辺をエポキシ樹脂などのシール剤9で
封止する。過塩素酸リチウムを溶解した炭酸プロ
ピレンなどの電解質10を真空注入した後、注入
口11を封止して反射型のエレクトロクロミツク
表示素子がつくられる。
The counter electrode substrate 1 and the display electrode substrate 4 are disposed to face each other, a porous light reflecting layer 8 is provided between them, and the periphery of the stacked structure is sealed with a sealant 9 such as epoxy resin. After vacuum injecting an electrolyte 10 such as propylene carbonate in which lithium perchlorate is dissolved, the injection port 11 is sealed to produce a reflective electrochromic display element.

従来のECDにおいては、この対向電極3への
給電電極として、錫をドープした酸化インジウム
(ITO)等の透明電極、金属線等が使用されてい
た。
In conventional ECDs, transparent electrodes such as tin-doped indium oxide (ITO), metal wires, etc. have been used as power supply electrodes to the counter electrode 3.

[発明の解決しようとする問題点] このようにしてできたエレクトロクロミツク表
示素子は対向電極と表示電極間に1乃至2ボルト
の直流電圧を印加することにより発色する。また
電圧の極性を反射することにより消色する。発消
色させるための駆動の仕方には、定電流法、定電
圧法、定電位法などがあるが、実際の素子では参
照電極を素止内に組込むことは困難であるので通
常定電流法か定電圧法が用いられる。
[Problems to be Solved by the Invention] The electrochromic display element thus produced develops color by applying a DC voltage of 1 to 2 volts between the counter electrode and the display electrode. The color is also erased by reflecting the polarity of the voltage. Driving methods for developing and decoloring include the constant current method, constant voltage method, and constant potential method, but in actual devices, it is difficult to incorporate a reference electrode into the device, so the constant current method is usually used. Alternatively, a constant voltage method is used.

定電流法は、その回路の性質から比較的小型の
素子に適用されるのが一般的である。一方、定電
圧法は回路的な制約も少ないため、小型素子から
大型素子まで幅広く用いられる。
The constant current method is generally applied to relatively small devices due to the nature of the circuit. On the other hand, the constant voltage method has fewer circuit restrictions and is therefore widely used for devices ranging from small to large devices.

エレクトロクロミツク表示素子を定電圧法で駆
動するときは、各セグメント間あるいは各ドツト
間のコントラストむらが問題となる。また複数個
のエレクトロクロミツク表示素子を並べて使う場
合には素子間のコントラストむらも問題となる。
このコントラストむらはエレクトロクロミツク表
示素子が電流制御型の素子であることに起因し、
ITO等の透明電極は面抵抗値が大きいため、応答
速度が動作面積により大きく変化することによ
る。つまりエレクトロクロミツク表示素子は動作
させるセグメント数(面積)が少ないときは応答
が速く、動作させるセグメント数(面積)が増え
るにつれ応答は遅くなる。また、この傾向は素子
が大型化すると一層顕著になる。このため定電圧
法では表示内容によつてもコントラストを一定に
保つための工夫が求められている。一方、表示内
容によつて、定電圧を印加する時間を制御してコ
ントラストを一定に保つ方法も考えられるが、回
路コストの上昇もあり実用的でない。
When an electrochromic display element is driven by a constant voltage method, uneven contrast between segments or dots becomes a problem. Furthermore, when a plurality of electrochromic display elements are used side by side, uneven contrast between the elements also becomes a problem.
This contrast unevenness is caused by the fact that electrochromic display elements are current-controlled elements.
This is because transparent electrodes such as ITO have a large sheet resistance value, so the response speed varies greatly depending on the operating area. In other words, the electrochromic display element has a fast response when the number of operating segments (area) is small, and the response becomes slower as the number of operating segments (area) increases. Furthermore, this tendency becomes more pronounced as the device becomes larger. Therefore, in the constant voltage method, it is necessary to devise ways to keep the contrast constant even depending on the displayed content. On the other hand, it is possible to keep the contrast constant by controlling the time period for which a constant voltage is applied depending on the display content, but this method increases circuit cost and is not practical.

このため対向電極の給電電極を金属線条にする
ことも考えられたが、対向電極基板への固定やセ
ル内への配置に問題があり、充分な信頼性も得ら
れなかつた。
For this reason, it was considered to use a metal wire as the power supply electrode of the counter electrode, but there were problems with fixing the counter electrode to the substrate and placement within the cell, and sufficient reliability could not be obtained.

本発明者らは、この問題点を解決するため、チ
タンを給電電極として使用することを提案してき
ている。しかし、このチタンを給電電極として使
用しても、給電電極の表面酸化により対向電極と
の接触抵抗がバラツいて、着色した際に各セグメ
ント間にコントラストムラが生じることがあつ
た。
In order to solve this problem, the present inventors have proposed using titanium as a power supply electrode. However, even when this titanium is used as a power supply electrode, surface oxidation of the power supply electrode causes variations in contact resistance with the counter electrode, resulting in uneven contrast between segments when colored.

[問題を解決するための手段] 本発明はこのような問題点を解決するためにな
されたもので、表示電極と対向電極を有し、その
間に電解質層と光反射層を挟んだ反射型のエレク
トロクロミツク表示素子に於て、対向電極への給
電電極として、表面に導電性被膜を形成したチタ
ン膜を対向電極基板の内面に被覆したことを特徴
とするエレクトロクロミツク表示素子を提供する
ものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention has been made to solve these problems, and is a reflective type that has a display electrode and a counter electrode, with an electrolyte layer and a light reflection layer sandwiched between them. Provided is an electrochromic display element characterized in that the inner surface of a counter electrode substrate is coated with a titanium film with a conductive film formed on the surface as a power supply electrode to the counter electrode. It is.

チタン膜の形成法としては、真空蒸着法、イオ
ンプレーテイング法、スパツター法などいずれで
もよい。もつとも、このような真空系による薄膜
形成法を使用することが、対向電極基板の形状が
凹型等複雑であつても容易対応しうるため好まし
い。
The titanium film may be formed by any method such as a vacuum evaporation method, an ion plating method, or a sputtering method. However, it is preferable to use such a thin film forming method using a vacuum system because even if the counter electrode substrate has a complicated shape such as a concave shape, it can be easily handled.

このチタン膜の薄厚は、電極パターン、電極に
要求される容量等により給電電極に要求される抵
抗値に応じて適宜設定されればよいが、一般的に
は3000〜50000Å程度とされればよい。
The thickness of this titanium film may be set as appropriate depending on the resistance value required of the power supply electrode depending on the electrode pattern, the capacitance required for the electrode, etc., but generally it should be about 3000 to 50000 Å. .

このチタン膜の抵抗値を下げるためには、基板
温度は室温より高い方が好ましいが、あまり高す
ぎると作業時間が長くなるので50℃から350℃の
範囲が適当である。また、成膜中の酸化による抵
抗値の増加を抑えるためにベルジヤー内の残留酸
素を極力少なくすることが必要である。このため
真空蒸着の場合は10-5トール以下が良い。堆積速
度も成膜中の酸化を防ぐためできるだけ速いほう
がよく装置にもよるが通常の真空蒸着では遅くと
も10Å/秒以上が望ましい。
In order to lower the resistance value of this titanium film, it is preferable that the substrate temperature be higher than room temperature, but if it is too high, the working time will be longer, so a range of 50°C to 350°C is appropriate. Further, in order to suppress an increase in resistance value due to oxidation during film formation, it is necessary to reduce residual oxygen in the bell gear as much as possible. For this reason, in the case of vacuum evaporation, a value of 10 -5 Torr or less is preferable. The deposition rate should also be as fast as possible in order to prevent oxidation during film formation, depending on the equipment, but for normal vacuum evaporation it is desirable to be at least 10 Å/sec or more.

本発明では、このチタン膜の上に導電性被膜を
形成するものであり、この被膜により、チタン膜
の表面が酸化による接触抵抗値の増加を防止で
き、応答バラツキの少ないエレクトロクロミツク
表示素子を安定して得ることができる。
In the present invention, a conductive film is formed on the titanium film, and this film prevents the surface of the titanium film from increasing in contact resistance due to oxidation, thereby producing an electrochromic display element with less variation in response. can be obtained stably.

この被膜は、それ自身が導電性を有し、かつ電
解質により酸化還元されないものであればよく、
チタン膜の酸化による接触抵抗の増加を防止する
目的で設けるものであるので、電解質とチタン被
膜の接触を部分的に防止しうる程度の厚みがあれ
ばよく、通常100〜5000Å程度とされればよい。
This film only needs to have conductivity itself and not be oxidized or reduced by the electrolyte.
Since it is provided for the purpose of preventing an increase in contact resistance due to oxidation of the titanium film, it only needs to be thick enough to partially prevent contact between the electrolyte and the titanium film, and is usually about 100 to 5000 Å. good.

この導電性被膜としては、具体的には、導電性
の金属酸化物特に、In2O3,SnO2又は窒化チタ
ン、珪化チタン、金が好ましく、電解質との反応
性についても問題なく、かつその形成も容易であ
り、特にチタン被膜の形成を真空系で行なえばそ
のまま継続してこれらの膜の形成を行なうことが
できるので生産性がよく好ましい。窒化チタン、
珪化チタンの場合はチタンを蒸着またはスパツタ
法で形成後、引き続きガスを導入し反応性イオン
プレーテイングまたは反応性スパツタ法に切り換
えることにより連続して膜形成ができるため特に
生産性に優れる。
Specifically, conductive metal oxides, particularly In 2 O 3 , SnO 2 , titanium nitride, titanium silicide, and gold are preferable as this conductive film, and they do not cause any problems in reactivity with the electrolyte and their It is also easy to form, and in particular, if the titanium coating is formed in a vacuum system, the formation of these films can be continued, which is preferable because of good productivity. titanium nitride,
In the case of titanium silicide, the productivity is particularly excellent because it is possible to form a film continuously by forming titanium by vapor deposition or sputtering, then introducing a gas and switching to reactive ion plating or reactive sputtering.

対向電極基板がガラスの場合、チタン膜の下地
にクロム膜を500から1500Å程度堆積することは
付着力を高めるのに有効である。
When the counter electrode substrate is glass, depositing a chromium film of about 500 to 1500 Å on the titanium film is effective in increasing adhesion.

クロム膜の形成は通常の真空蒸着でなされれば
よく、真空を破ることなく連続してチタン被覆、
続いて導電性被膜の堆積が実施される。このため
基板温度などはチタンの条件と同じが作業効率の
点から有利である。
The chromium film can be formed by ordinary vacuum deposition, and the titanium coating and titanium coating can be formed continuously without breaking the vacuum.
Deposition of a conductive film is then carried out. Therefore, the conditions such as substrate temperature are the same as those for titanium, which is advantageous in terms of work efficiency.

[作用] エレクトロクロミツク表示素子の応答は、エレ
クトロクロミツク層や対向電極の性能の他に電解
質の抵抗や表示電極、対向電極への給電電極の抵
抗にも依存する。これらの構成部材の応答速度へ
の寄与は、セルの構造、構成、材料、サイズなど
によつて変化する。一般にセルサイズが大きくな
るにつれ表示電極や対向電極への給電電極の抵抗
が応答の律速になつてくる。従つて大型素子では
特に給電電極の抵抗を下げることが応答の改良に
つながる。
[Function] The response of an electrochromic display element depends not only on the performance of the electrochromic layer and the counter electrode but also on the resistance of the electrolyte and the resistance of the display electrode and the power supply electrode to the counter electrode. The contribution of these components to the response speed varies depending on the structure, composition, material, size, etc. of the cell. Generally, as the cell size increases, the resistance of the power supply electrode to the display electrode and counter electrode becomes rate-limiting for response. Therefore, especially in large devices, lowering the resistance of the power supply electrode leads to improved response.

表示電極側では、表示に影響があるため基本的
には透明電極とせざるを得なく、せいぜいリード
部分を一部金属等の低抵抗の材料にすることによ
り給電抵抗を低下させる。これに対して対向電極
側では通常1個の対向電極が全ての表示電極に対
応しているため一つの電極としては流れる電流が
著しく多く、低抵抗とすることによる効果が大き
く、かつ対向電極は、反射層の裏側に配置される
ため全面を金属電極としても何ら悪影響を生じな
い。
On the display electrode side, since it affects the display, it is basically necessary to use a transparent electrode, and at best, part of the lead portion is made of a low-resistance material such as metal to reduce the power supply resistance. On the other hand, on the counter electrode side, one counter electrode usually corresponds to all the display electrodes, so the current flowing as a single electrode is extremely large, so the effect of making it low resistance is large, and the counter electrode , since it is placed on the back side of the reflective layer, there is no adverse effect even if the entire surface is made of a metal electrode.

動作セグメント数によるコントラストむら、即
ち、応答速度の変動は、共通インピーダンスに起
因する。つまり動作セグメント数が増え、それに
つれ素子を流れる電流が増加すると共通インピー
ダンスでドロツプする電圧が相対的に大きくな
る。従つて、印加電圧のうち表示電極にかかる実
効的な電圧が小さくなり応答が遅くなることにな
る。
The contrast unevenness, that is, the variation in response speed due to the number of motion segments is caused by the common impedance. In other words, as the number of operating segments increases and the current flowing through the element increases accordingly, the voltage dropped across the common impedance becomes relatively large. Therefore, of the applied voltage, the effective voltage applied to the display electrodes becomes smaller, resulting in slower response.

共通インピーダンスは対向電極インピーダンス
と対向電極への給電電極抵抗によりなりたつてい
る。
The common impedance is made up of the counter electrode impedance and the resistance of the power supply electrode to the counter electrode.

対向電極はできるだけ厚みを厚くするとともに
多孔質な構造にすることによりそのインピーダン
スを下げることができる。対向電極の給電電極に
は、低抵抗であることと電気化学的に安定である
ことが要求されている。これらの条件を満たすも
のとして従来からITOが主に使われてきた。しか
し抵抗値やコストの面から改良が望まれていた。
The impedance of the counter electrode can be lowered by making it as thick as possible and having a porous structure. The power supply electrode serving as the counter electrode is required to have low resistance and be electrochemically stable. ITO has traditionally been mainly used as a material that satisfies these conditions. However, improvements have been desired in terms of resistance and cost.

本発明のチタンを対向電極の給電電極として用
いることによりITOと比べて抵抗が数分の1に下
がるため応答速度の向上と表示内容の違いによる
コントラストむらの抑制が可能になる。またチタ
ンは電解液中で極めて安定であるため、通常の金
属のように液中に溶出したり駆動により表示部分
に再析出したりすることがなく信頼性に優れてお
り、本発明ではさらにこのチタン被膜の上に導電
性被膜を形成しているので、チタン被膜が酸化す
ることが防止でき、時間の経過とともに給電電極
の抵抗値が増加するという事態を生じにくい。
By using the titanium of the present invention as the power supply electrode of the counter electrode, the resistance is reduced to a fraction of that of ITO, making it possible to improve response speed and suppress contrast unevenness due to differences in display content. Furthermore, since titanium is extremely stable in the electrolyte, it does not elute into the liquid or redeposit on the display area when driven, unlike ordinary metals, and has excellent reliability. Since the conductive film is formed on the titanium film, the titanium film can be prevented from oxidizing, and the resistance value of the power supply electrode is unlikely to increase over time.

特に、電極としての信頼性、耐久性の点及び過
去における使用実績等の点からみて、この被膜と
して、金属酸化物ではインジウムの酸化物と錫の
酸化物が、非酸化物では窒化チタン、珪化チタン
などのチタン化合物が、また金属としては金の使
用が好ましい。従来から給電電極として使用され
ていたITOを使用すれば、従来のITOのみによる
給電電極の信頼性を保持しつつ、その抵抗値のみ
を大幅に低下させることができる。
In particular, from the point of view of reliability and durability as an electrode, as well as past usage results, metal oxides such as indium oxide and tin oxide are suitable for this coating, while non-oxides such as titanium nitride and silicide are used as this coating. Preference is given to using titanium compounds such as titanium, and gold as the metal. By using ITO, which has traditionally been used as a power supply electrode, it is possible to significantly reduce its resistance value while maintaining the reliability of the conventional power supply electrode made only of ITO.

特に、導電性被膜及びチタンを真空蒸着法、ス
パツタ法等の真空系による薄膜形成法により形成
することが好ましく、対向電極基板が凹型等の複
雑な形状をしていても導電接続が容易にとれ、信
頼性もよい。これは、対向電極基板用給電電極が
1つでありほぼ全面に形成すればよいためであ
り、段差部等で一部導電膜が切れたとしても他の
部分でカバーできるためほとんど問題とならな
い。特に、導電性被膜及びチタンを同一の真空系
内で連続して蒸着等することにより生産性よく製
造できる。
In particular, it is preferable to form the conductive film and titanium by a vacuum-based thin film forming method such as vacuum evaporation or sputtering, so that even if the counter electrode substrate has a complicated shape such as a concave shape, a conductive connection can be easily made. , reliability is also good. This is because there is only one power supply electrode for the counter electrode substrate, and it is sufficient to form it almost on the entire surface, and even if the conductive film is partially cut off at a step or the like, it is hardly a problem because it can be covered by another part. In particular, it can be manufactured with high productivity by successively depositing the conductive film and titanium in the same vacuum system.

又、対向電極基板をガラス基板とした場合に
は、チタンとガラスとの間にクロムの層を形成す
ることにより、チタンとガラスとの接着性が向上
するため好ましく、特にこのクロム、チタン、導
電性被膜の3層を真空状態を保持したまま連続し
て形成することにより生産性がよい。
In addition, when a glass substrate is used as the counter electrode substrate, it is preferable to form a chromium layer between titanium and glass because it improves the adhesion between titanium and glass. Productivity is improved by continuously forming three layers of the adhesive film while maintaining the vacuum state.

本発明では、この外の表示電極、EC物質、光
反射層、対向電極、電解質等は従来から公知の材
料、構造のものが使用でき、第1図の例に限られ
なく、光反射層が表示電極のEC物質の上に積層
する。対向電極基板を平板とし、シール剤部分に
スペーサをはさんでシール剤でシールする。EC
物質として2種類のEC物質を使用して異なる色
調の表示をする。基板表面にカラーフイルター、
不透明マスク等を設ける等してもよい。
In the present invention, conventionally known materials and structures can be used for the display electrode, EC material, light reflection layer, counter electrode, electrolyte, etc., and the light reflection layer is not limited to the example shown in FIG. Laminated on top of the EC material of the display electrode. The counter electrode substrate is a flat plate, a spacer is sandwiched between the sealing agent parts, and the sealing agent is applied. E.C.
Two types of EC substances are used as substances to display different colors. Color filter on the board surface,
An opaque mask or the like may be provided.

[実施例] 実施例 1 パターン化された透明電極を持つガラス基板4
にメタルマスクを用い、ドツト部分に酸化タング
ステン6を約5000Å電子線加熱蒸着をし、表示電
極基板とした。
[Example] Example 1 Glass substrate 4 with patterned transparent electrodes
Then, using a metal mask, tungsten oxide 6 was deposited on the dots to a thickness of approximately 5000 Å by electron beam heating to form a display electrode substrate.

エツチングにより凹部を形成したガラス基板1
に給電電極としての導電性被膜2としてチタンを
6000Å、続いてITO1000Åを電子線加熱蒸着によ
りつけた。また比較のためにチタンとITOのかわ
りにチタンのみを6000Åつけたものも用意した。
タングステンとバナジウムの酸化物とカーボンと
バインダーからシート状の対向電極3をつくつ
た。
Glass substrate 1 with recesses formed by etching
Titanium is used as the conductive coating 2 as a power supply electrode.
6000 Å, followed by ITO 1000 Å by electron beam heating vapor deposition. For comparison, we also prepared a product with only titanium coated at 6000Å instead of titanium and ITO.
A sheet-shaped counter electrode 3 was made from oxides of tungsten and vanadium, carbon, and a binder.

また白色顔料とバインダーから同様にシート状
の光反射板を作成した。この光反射板と先につく
つた対向電極のシートを重ね合わせ一体化したも
のを作成した。このシートを準備しておいた凹部
を有する基板に導電性接着剤により固定し対向電
極基板とした。
In addition, a sheet-shaped light reflecting plate was similarly created from white pigment and binder. This light reflecting plate and the counter electrode sheet prepared earlier were stacked and integrated to create an integrated structure. This sheet was fixed to a prepared substrate having concave portions with a conductive adhesive to form a counter electrode substrate.

これらの表示電極基板と対向電極基板を重ねあ
わせ周囲をシールした後、過塩素酸リチウムを炭
酸プロピレンに1mol/l溶解した電解質10を
真空注入し、注入口11を封止した。
After these display electrode substrates and counter electrode substrates were overlapped and their surroundings sealed, electrolyte 10 in which 1 mol/l of lithium perchlorate was dissolved in propylene carbonate was injected under vacuum, and injection port 11 was sealed.

このようにしてできたエレクトロクロミツク表
示素子のドツト間の濃度むらを評価するために表
示極に−1.5V印加し6mC/cm2の電荷が注入され
る応答時間を個別に測定した。チタンにITOを被
覆した素子では、この応答時間は600〜800msec
に分布していた。一方チタンのみの素子では600
〜1200msecに分布していてバラツキが大きかつ
た。
In order to evaluate the density unevenness between the dots of the electrochromic display element thus produced, -1.5V was applied to the display electrode, and the response time for injecting a charge of 6 mC/ cm2 was measured individually. For elements made of titanium coated with ITO, this response time is 600 to 800 msec.
It was distributed in On the other hand, an element made only of titanium has a
It was distributed over ~1200msec, with large variations.

着消色のサイクルテストをしたところ、50万サ
イクルを過ぎても外観上に異常は見られず正常に
動作していた。また、70℃と−25℃の間のヒート
シヨツクにも剥離などのトラブルは発生しなかつ
た。
When we conducted a coloring/decoloring cycle test, no abnormalities were observed in appearance even after 500,000 cycles, and the product was operating normally. Furthermore, no problems such as peeling occurred during heat shocks between 70°C and -25°C.

実施例 2 実施例1と同様な方法で3種類のエレクトロク
ロミツク表示素子をつくつた。チタンの被覆とし
てITOのかわりに窒化チタン、珪化チタンまたは
金を使用したところが異なつている。窒化チタ
ン、珪化チタンはチタン膜を形成後反応性イオン
プレーテイング法で、金は通常の蒸着で500Å堆
積した。
Example 2 Three types of electrochromic display elements were produced in the same manner as in Example 1. The difference is that titanium nitride, titanium silicide, or gold is used instead of ITO as the titanium coating. Titanium nitride and titanium silicide were deposited to a thickness of 500 Å by reactive ion plating after forming a titanium film, and gold was deposited to a thickness of 500 Å by conventional vapor deposition.

ドツト間の濃度むらを評価するために実施例1
と同様な測定を行なつたところITOを被覆したも
のと同様にバラツキが少なく且つ信頼性的にも良
好であつた。
Example 1 to evaluate density unevenness between dots
When similar measurements were carried out, it was found that, like those coated with ITO, there was little variation and the reliability was also good.

実施例 3 実施例1と同様な方法でエレクトロクロミツク
表示素子をつくつたが、対向電極のITOとチタン
の堆積の前にクロムを1000Å堆積した点だけが異
なつている。
Example 3 An electrochromic display element was produced in the same manner as in Example 1, except that chromium was deposited to a thickness of 1000 Å before the ITO and titanium for the counter electrode were deposited.

この素子も実施例1で作成したITOとチタンの
素子と同様な応答性能と信頼性を示した。
This element also exhibited response performance and reliability similar to the ITO and titanium element produced in Example 1.

ITO・クロム・チタンの3層膜とITO・チタン
の2層膜のガラスへの付着力をみるためにテープ
テストを実施した。ITO・チタンの2層膜はテー
プテストにより一部剥離する場合もあつたが、
ITO・クロム・チタンの3層膜は全く剥離するこ
とはなかつた。
A tape test was conducted to examine the adhesion strength of the three-layer film of ITO, chromium, and titanium and the two-layer film of ITO and titanium to glass. The two-layer film of ITO and titanium sometimes peeled off in some cases during the tape test, but
The three-layer film of ITO, chromium, and titanium did not peel off at all.

接着力は基板の洗浄度や堆積条件、徐冷等の有
無に依存するが、工程の管理や高信頼性のために
もクロム・チタン・ITOの3層膜のように強い方
が好ましい。
Adhesion strength depends on the cleanliness of the substrate, deposition conditions, and whether slow cooling is used, but for process control and high reliability, it is preferable to use a strong three-layer film of chromium, titanium, and ITO.

[発明の効果] 従来のITOを対向電極の給電電極に用いたエレ
クトロクロミツク表示素子は小型の場合は、それ
程でもないが、大型になると応答が極めて遅くな
つた。また動作面積による応答速度の差も大きく
なり、実用化する場合の問題になつていた。これ
を改良するためにITOの膜厚を増加する方法もあ
るが比抵抗からきまる必要な膜厚の増加、それに
伴う必要な蒸着時間の延長、また、原料代などを
考慮するとコストアツプになり現実的でない。
[Effects of the Invention] In the case of a conventional electrochromic display element using ITO as the power supply electrode of the counter electrode, the response becomes extremely slow when the display element becomes large, although it is not so bad when the display element is small. In addition, the difference in response speed due to the operating area becomes large, which poses a problem when put into practical use. In order to improve this, there is a method of increasing the ITO film thickness, but this increases the required film thickness determined by the resistivity, increases the required vapor deposition time, and takes into account raw material costs, etc., which makes it unrealistic. Not.

抵抗値が低く、電解液中でも安定な材料として
金とか白金などの貴金属があるが、これも材料コ
ストの面から採用できない。
There are noble metals such as gold and platinum that have low resistance and are stable even in electrolytes, but these cannot be used due to material cost.

対向電極材料の中にメツシユ状チタンを埋め込
んで低抵抗化をはかる方法もあるが、外部への電
気的取り出しが難しく量産性に乏しい。
There is also a method of lowering the resistance by embedding mesh-shaped titanium in the counter electrode material, but it is difficult to extract electricity to the outside and is not suitable for mass production.

またチタンの膜は電解質に対する安定性と低抵
抗の点から優れた性能を有するが、酸化しやすい
という問題点を有し、このチタン膜と他の導電性
材料を接続する場合に、その接続部が酸化されて
抵抗値が増加するという欠点を有していた。
In addition, titanium membranes have excellent performance in terms of stability and low resistance against electrolytes, but they have the problem of being easily oxidized, and when connecting titanium membranes with other conductive materials, it is difficult to It had the disadvantage that it was oxidized and its resistance value increased.

本発明はこのような背景から生まれたもので対
向電極の給電電極として、ITO等の導電性材料と
チタンの2層膜またはITO等の導電性材料とチタ
ンとクロムの3層膜を用いることにより製造コス
トや材料コストを上げることなく、生産よく、ま
た信頼性をそこなうことなく応答速度、着色濃度
ムラ等の前述の問題点を改良することができるす
ぐれたものである。特にチタン被膜の上にITO等
の導電性被膜を形成することにより、チタン被膜
の表面の酸化を防止し、この給電電極と他の導電
性材料との接続抵抗を低下させることができる。
The present invention was born from this background, and by using a two-layer film of a conductive material such as ITO and titanium, or a three-layer film of a conductive material such as ITO, titanium and chromium, as the power supply electrode of the counter electrode. This is an excellent product that can improve production and improve the aforementioned problems such as response speed and color density unevenness without increasing manufacturing cost or material cost, and without impairing reliability. In particular, by forming a conductive film such as ITO on a titanium film, oxidation of the surface of the titanium film can be prevented and the connection resistance between this power supply electrode and other conductive materials can be reduced.

これにより、給電電極と対向電極との導電性接
着剤による導電接続及び給電電極のトランスフア
ーによる表示基板との導電接続が確実になりバラ
ツキが少なくなる。また、長期間の使用によつて
もこの導電接続が安定に保たれるため表示される
セグメント間の濃度のムラの変動が防止できる。
Thereby, the conductive connection between the power supply electrode and the counter electrode by the conductive adhesive and the conductive connection with the display substrate by the transfer of the power supply electrode are ensured and variations are reduced. Further, since this conductive connection is maintained stably even after long-term use, fluctuations in density unevenness between displayed segments can be prevented.

本発明は、これら実施例に限られるものではな
く、チタン被膜の下に電解質に弱い金属の膜を形
成する等して給電電極の膜の種類をさらに増加さ
せてもよく、今後種々の応用が可能なものであ
り、主として大型のセグメント表示、ドツトマト
リクス表示等に使用できる。
The present invention is not limited to these embodiments, and the number of types of films for the power supply electrode may be further increased by forming a film of a metal weak in electrolyte under the titanium film, and various applications may be realized in the future. It can be used mainly for large segment displays, dot matrix displays, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、エレクトロミツク表示素子の断面
図。 1…対向電極基板、2…導電性被膜、3…対向
電極、4…表示電極基板、5…透明導電膜、6…
エレクトロクロミツク物質、7…保護層、8…光
反射層、9…シール剤、10…電解質、11…注
入口。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an electromic display element. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Counter electrode substrate, 2... Conductive film, 3... Counter electrode, 4... Display electrode substrate, 5... Transparent conductive film, 6...
Electrochromic substance, 7... Protective layer, 8... Light reflective layer, 9... Sealing agent, 10... Electrolyte, 11... Inlet.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 表示電極と対向電極を有し、その間に電解質
層と光反射層を挟んだ反射型のエレクトロクロミ
ツク表示素子に於て、対向電極への給電電極とし
て、表面に導電性被膜を形成したチタン膜を対向
電極基板の内面に被覆したことを特徴とするエレ
クトロクロミツク表示素子。 2 対向電極基板がガラス基板とされ、ガラス基
板とチタン被覆との間にクロムの層を形成した特
許請求の範囲第1項記載のエレクトロクロミツク
表示素子。 3 チタン膜の上に形成される導電性被膜が金属
酸化物である特許請求の範囲第1項又は第2項記
載のエレクトロクロミツク表示素子。 4 チタン膜の上に形成される導電性被膜が窒化
チタンである特許請求の範囲第1項又は第2項記
載のエレクトロクロミツク表示素子。 5 チタン膜の上に形成される導電性被膜が珪化
チタンである特許請求の範囲第1項又は第2項記
載のエレクトロクロミツク表示素子。 6 チタン膜の上に形成される導電性被膜が金で
ある特許請求の範囲第1項又は第2項記載のエレ
クトロクロミツク表示素子。
[Scope of Claims] 1. In a reflective electrochromic display element having a display electrode and a counter electrode, with an electrolyte layer and a light reflective layer sandwiched between them, a conductive material on the surface is used as a power supply electrode to the counter electrode. 1. An electrochromic display element characterized in that the inner surface of a counter electrode substrate is coated with a titanium film on which a transparent film is formed. 2. The electrochromic display element according to claim 1, wherein the counter electrode substrate is a glass substrate, and a chromium layer is formed between the glass substrate and the titanium coating. 3. The electrochromic display element according to claim 1 or 2, wherein the conductive film formed on the titanium film is a metal oxide. 4. The electrochromic display element according to claim 1 or 2, wherein the conductive film formed on the titanium film is titanium nitride. 5. The electrochromic display element according to claim 1 or 2, wherein the conductive film formed on the titanium film is titanium silicide. 6. The electrochromic display element according to claim 1 or 2, wherein the conductive film formed on the titanium film is gold.
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