JPH0218396A - タングステン酸カドミウム単結晶の育成方法 - Google Patents

タングステン酸カドミウム単結晶の育成方法

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Publication number
JPH0218396A
JPH0218396A JP16780488A JP16780488A JPH0218396A JP H0218396 A JPH0218396 A JP H0218396A JP 16780488 A JP16780488 A JP 16780488A JP 16780488 A JP16780488 A JP 16780488A JP H0218396 A JPH0218396 A JP H0218396A
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JP
Japan
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single crystal
crystal
opening angle
cadmium tungstate
shoulder
Prior art date
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Pending
Application number
JP16780488A
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English (en)
Inventor
Yoshio Watanabe
良夫 渡辺
Tadao Komi
小見 忠雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、X線またはγ線等の放射線検出器に用いられ
るシンチレータに有用なるタングステン酸カドミウム単
結晶の育成方法に関する。
(従来の技術) 近年、医療分野および産業分野において、診断および非
破壊検査にコンピュータ断層撮影(CT:Comput
ed Tomography)装置が有効な手段として
用いられている。このコンピュータ断層撮影装置に用い
られる放射線検出器としては、シンチレータと光電変換
器とを組合せたものがよく知られている。
今日、コンピュータ断層撮影装置に求められる画像処理
時間の短縮化や高解像度化への強い要望からシンチレー
タとしては、短残光性、高発光効率をもつ酸化物単結晶
が検討されている。タングステン酸カドミウム(CdW
O,)単結晶は、実効原子量が大きくシンチレータとし
て求められる高い発行効率、短残光性を有しており、し
かも温度特性がすぐれていることから、シンチレータと
して有望視されており一部実用化されている。
タングステン酸カドミウム単結晶は、通常、融液からの
回転引上法(チョクラルスキー法)により育成される。
育成された単結晶は所定の大きさに切断加工されシンチ
レータとして用いられる。
しかしながら、タングステン酸カドミウム単結晶は襞間
性が強く5面(010)に沿って割れやすいという特徴
を持つ、チョクラルスキー法によりタングステン酸カド
ミウム単結晶を引き上げる場合には、結晶引き上げ中に
b面による割れが発生し、結晶の一部が溶液に落下する
のを防ぐためにb面を側面とする引き上げ軸をもって引
き上げを行う、結晶径が小さい場合には割れの無い結晶
を得られるが、50m以上となると得られた結晶は結晶
冷却時に第2図に示すようにb面に)に沿った割れ■お
よびその割れから派生する小さな割れが5面以外の面に
伝播、発生する。このb面に沿った割れは1.つとは限
らず結晶内に数カ所発生することも確認されている0割
れを持つ結晶を切断加工しシンチレータを切りだすのは
シンチレータ寸法の制約上、一つの結晶から取れるシン
チレータ札 数を制限し歩留りを悪くするが、割句が激しい場合には
シンチレータ素子を得ることができすくなる。
(発明が解決しようとするm題) このように、シンチレータとしてタングステン酸カドミ
ウム単結晶を用いる場合には割れを防ぎ歩留りを向上さ
せることが望まれている。
本発明は結晶冷却時の割れを防ぎ、シンチレータ素子の
歩留りを向上させることを目的とするものである。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 本発明はタングステン酸カドミウム単結晶のb面を側面
とする引き上げにおいて1図に示す肩開き角0を80°
〜120°とすることを特徴とする単結晶育成方法であ
る。
(作用) 第1図にチョクラルスキー法により育成した単結晶のb
面に垂直な断面図を示す。■は種結晶、■は直胴部を示
している。肩開き角は図中でOで表される。実際の結晶
では種結晶から育成される肩部は、曲率を持ちながら滑
らかに種結晶から肩部を形成し、肩部から直胴部に移行
する範囲も、曲率を持ちながら育成される。しかし、垂
直断面において種結晶、肩部、直胴部を滑らかな曲線で
表した場合にその最大開き角を肩開き角θととることが
できる。しかし、チョクラルスキー法により引き上げら
れたタングステン酸カドミウム単結晶は成長速度の方位
依存性を持つため結晶全体にわたって横断面は真円とは
ならず肩開き角θは結晶の方位により異なる値を取るの
で、肩開き角θとしては垂直断面における最大開き角の
平均値を取ることにより定義することができる。
通常、早く太らせ直胴部を形成した方が作業効率が高い
ために大きなOが用いられている。
本発明者等はb面を側面とする引き上げ法において肩開
き角0と割れ発生率の関係を調べたところ両者の間にあ
る関係が存在することを発見した。
すなわち、θが125°以上では、結晶冷却時において
割れが発生し、しかも、肩開き角θが大きい場合にはb
面に沿った割れの数も多いが、肩開き角θが120@以
下では割れが発生しないことを見出した。
一方、タングステン酸カドミウム単結晶をチョクラルス
キー法により育成する場合には、タングステン酸カドミ
ウム融液からの酸化カドミウム(CdO)の蒸発が組成
変化をもたらし、引き上げられた単結晶から取られたシ
ンチレータの性能を悪化させるという問題がある。肩開
き角0を小さく、すなわち、肩部の育成に時間を掛け、
融液面と大気の接触時間を長くすることは融液からの酸
化カドミウムの蒸発を多くすることになり、上記の組成
変化の観点からして妥当でない。この組成変化を押える
ためには原料溶融後10時間以内に直胴部を形成する必
要があり、80°以上の肩開き角0で育成することが必
要である。
(実施例) 以下1本発明の実施例について説明する。
実施例1 直径75wmのタングステン酸カドミウム単結晶を80
s以上、  115’以下の肩開き角θで5本育成した
ところ1割れの発生は認められなかった。
実施例2 直径75mのタングステン酸カドミウム単結晶を115
°から120”の範囲の肩開き角で6本育成したところ
割れの発生は認められなかった。
実施例3 直径75■のタングステン酸カドミウム単結晶を120
0から125”の範囲の肩開き角Oで6本育成したとこ
ろ、5面に沿った割れを1カ所有するものが4本確認さ
れた。
実施例4 タングステン酸カドミウム単結晶を直径75m+、肩開
き角θを125°から140°の範囲で8本引き上げを
行ったところ、全ての結晶に5面に沿った割れ、および
、そこから派生する割れが認められた。
5面に沿った割れはひとつの結晶につき1カ所又は2カ
所であった。
実施例5 肩開き角0を140°から160’の範囲で直径75薗
のタングステン酸カドミウム単結晶を3本引き上げたと
ころ、5面に沿った割れが1本の結晶につき4カ所から
8力所発生し、そこから派生する割れも激しく結晶から
シンチレータ素子を取ることができなかった。
ここで、−上記各実施例でのタングステン酸カドミウム
単結晶を肩開き角θと割れ発生率を第1表に示す。この
表から明らかなように肩開き角θを125°以1;にし
た場合に割れ発生率は100%となり育成された結晶す
べてに割れが発生していた。しかし、眉開き角Oが12
0°以下の場合には割れ発生率が0%と、割れ発生は認
められながった。
第1表 実施例6 直径60nynのタングステン酸カドミウム単結晶を肩
開き角Oを約125°で6本引き上げを行ったところ、
b軸に沿った割れを1カ所有するものが3本確認された
一方、肩開き角0を約120’で4本引き上げを行った
ところ、割れの発生はなかった。
実施例7 直径りOin+のタングステン酸カドミウム単結晶を肩
開き角0を約125°で6本引き上げを行ったところ、
b軸に沿った割れを1カ所又は2カ所有するものが6本
確認された。
一方、肩開き角Oを約115°で6本引き上げを行った
ところ、1本のみ割れの発生が確認された。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明のタングステン酸カドミウム
単結晶の育成方法によれば、割れを防ぐことができ、シ
ンチレータ素子の歩留りを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の育成方法により得られたタンα)・・
・種結晶 ■・・・直胴部 0・・・割れ ■・・・肩部 は)・・・b而 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同    竹 花 喜久男 酸カドミウム単結晶を示す正面図、第3図は結晶直径と
肩開き角における割れの発生する境界をグラフで示す図
である。 第 図 第 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  チョクラルスキー法によりb軸を側面とする引上げで
    育成する方法において、肩開き角θを80゜〜120゜
    とすることを特徴とするタングステン酸カドミウム単結
    晶の育成方法。
JP16780488A 1988-07-07 1988-07-07 タングステン酸カドミウム単結晶の育成方法 Pending JPH0218396A (ja)

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JP16780488A JPH0218396A (ja) 1988-07-07 1988-07-07 タングステン酸カドミウム単結晶の育成方法

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JP16780488A JPH0218396A (ja) 1988-07-07 1988-07-07 タングステン酸カドミウム単結晶の育成方法

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JPH0218396A true JPH0218396A (ja) 1990-01-22

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ID=15856417

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1158075A1 (de) * 2000-05-25 2001-11-28 Wacker Siltronic Gesellschaft für Halbleitermaterialien Aktiengesellschaft Einkristallstab und Verfahren zur Herstellung desselben

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1158075A1 (de) * 2000-05-25 2001-11-28 Wacker Siltronic Gesellschaft für Halbleitermaterialien Aktiengesellschaft Einkristallstab und Verfahren zur Herstellung desselben
DE10025870A1 (de) * 2000-05-25 2001-12-06 Wacker Siltronic Halbleitermat Einkristallstab und Verfahren zur Herstellung desselben

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