JPH02180735A - Hermetically coating device for optical fiber - Google Patents
Hermetically coating device for optical fiberInfo
- Publication number
- JPH02180735A JPH02180735A JP64000558A JP55889A JPH02180735A JP H02180735 A JPH02180735 A JP H02180735A JP 64000558 A JP64000558 A JP 64000558A JP 55889 A JP55889 A JP 55889A JP H02180735 A JPH02180735 A JP H02180735A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fiber
- gas
- quality
- film
- hermetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 40
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 29
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 239000013212 metal-organic material Substances 0.000 claims description 2
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- -1 hydroxyl ions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
- C03C25/10—Coating
- C03C25/12—General methods of coating; Devices therefor
- C03C25/22—Deposition from the vapour phase
- C03C25/223—Deposition from the vapour phase by chemical vapour deposition or pyrolysis
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用公費〉
本発明は、光ファイバに、異種核化学的付着(HNTD
)、化学的蒸気付着(CVDi減圧熱CVDも含む)な
どによね金属、無機物ノへ−メチック被覆を施す光ファ
イバのハーメチックコーティング装置に関する。Detailed Description of the Invention <Industrial Utilization Public Funds> The present invention provides optical fibers with heteronuclear chemical attachment (HNTD).
), chemical vapor deposition (including CVDi and low-pressure thermal CVD), etc., and relates to a hermetic coating device for optical fibers that applies methic coatings to metals and inorganic materials.
〈従来の技術〉
光ファイバは水蒸気および多くの有害環境に対して非常
に敏感であるが、有機材料被覆は1水蒸気あるいは水酸
基イオンの拡散を阻止できない。それ故、光ファイバは
その強度を保持するためには金属や無機物からなるハー
メチック被覆を施す必要がある。BACKGROUND OF THE INVENTION Optical fibers are very sensitive to water vapor and many harmful environments, and organic material coatings cannot prevent the diffusion of water vapor or hydroxyl ions. Therefore, in order to maintain the strength of the optical fiber, it is necessary to apply a hermetic coating made of metal or inorganic material.
かかるハーメチック被覆をファイバに施すためには例え
ば特公昭61−32270号公報に開示されているよう
に、線引炉とl1tjll被覆装置との間にHNTDあ
るいはCVD反応炉を設置して連続的にコーティングす
る必要がある。すなわち、第4図に示すように、線引炉
1直下にヒータ2とこの七−夕2により加熱される反応
管3とからなる反応炉4が設けられており、線引炉1で
綿引きされたファイバ5は反応v:3を通って、樹脂被
覆を行う樹脂被覆装置6に送られ、図示しない樹脂硬化
装置を経て樹脂被覆されるようになっている。ここで、
反応管3にはガス供給口3aとガス排気口3bとが形成
され、ガス供給口3aからは原料ガスと希釈ガスとがそ
れぞれバルブ7a、?b及び流量計8a、8bとを介し
て導入される一方、ガス排気口3bからは排ガスがバル
ブ7C及び流量計80を介して排気されるようになって
おり、バルブ7 m、7 b。In order to apply such a hermetic coating to a fiber, for example, as disclosed in Japanese Patent Publication No. 61-32270, an HNTD or CVD reactor is installed between a drawing furnace and an l1tjll coating device to continuously coat the fiber. There is a need to. That is, as shown in FIG. 4, a reaction furnace 4 consisting of a heater 2 and a reaction tube 3 heated by the Tanabata 2 is provided directly below the drawing furnace 1. The treated fiber 5 is sent through reaction v:3 to a resin coating device 6 for coating with resin, and is coated with resin via a resin curing device (not shown). here,
A gas supply port 3a and a gas exhaust port 3b are formed in the reaction tube 3, and source gas and diluent gas are supplied from the gas supply port 3a through valves 7a and ?, respectively. b and flowmeters 8a, 8b, while exhaust gas is exhausted from the gas exhaust port 3b via valve 7C and flowmeter 80, and valves 7m, 7b.
7cにより反応管3内のガス雰囲気を適正状態に保つよ
うになっている。7c to maintain the gas atmosphere inside the reaction tube 3 in an appropriate state.
また、USP4735856には、複数(7)CVD炉
を直列に配置するか、又は上述したような反応管を長く
してガス供給口を複数設けるかしてハーメチック被覆を
複数層形成する装置が開示されている。Further, US Pat. No. 4,735,856 discloses an apparatus for forming multiple layers of hermetic coating by arranging a plurality (7) CVD furnaces in series or by elongating the reaction tube as described above and providing multiple gas supply ports. ing.
〈発明が解決しようとする課題〉
前述した従来のハーメチック被覆装置では、一つの被覆
層を形成する反応管内のガス雰囲気は線引方向に亘って
ほぼ均一に調節されているが、被覆の重要なパラメータ
である基盤温度、すなわちファイバ温度は線引炉の紡糸
点から指数関数的に低下するので、反応管の入口付近と
出口付近との被覆条件が大きく異なってしまうという問
題がある。すなわち、入口付近では緻密な被覆が形成さ
れても出口付近ではファイバ温度が低いため同様の膜は
形成されず、また、最適なガス雰囲気範囲が非常に狭い
ので、反応管内の全体のファイバ温度に合せたガス雰囲
気を設定することはできない。さらに、上流側で原料ガ
スが熱分解した微粒子の一部がファイバに直ぐに付着せ
ず、下流に流動する過程で成長して大粒径となってファ
イバに付着し、膜質を低下させるという問題もある。<Problems to be Solved by the Invention> In the conventional hermetic coating device described above, the gas atmosphere in the reaction tube forming one coating layer is controlled to be almost uniform across the drawing direction. Since the substrate temperature, that is, the fiber temperature, which is a parameter, decreases exponentially from the spinning point of the drawing furnace, there is a problem in that the coating conditions near the inlet and the outlet of the reaction tube are greatly different. In other words, even if a dense coating is formed near the inlet, a similar film will not be formed near the exit because the fiber temperature is low, and the optimal gas atmosphere range is very narrow, so the overall fiber temperature in the reaction tube may vary. It is not possible to set a combined gas atmosphere. Furthermore, there is also the problem that some of the fine particles resulting from thermal decomposition of the raw material gas on the upstream side do not adhere to the fiber immediately, but grow during the process of flowing downstream, become large particles, and adhere to the fiber, reducing film quality. be.
一方、ハーメチック被覆を二層形成しようとする場合、
二層目の反応管内ではファイバ温度が低すぎて良好な二
次被覆を行うことができないという問題もある。On the other hand, when trying to form a two-layer hermetic coating,
Another problem is that the fiber temperature in the second layer reaction tube is too low to provide a good secondary coating.
本発明はこのような事情に鑑み、膜質の良好なハーメチ
ック被覆を施すことができる光ファイバのハーメチック
コーティング装置を提供することを目的とする。In view of these circumstances, an object of the present invention is to provide an optical fiber hermetic coating device that can apply a hermetic coating with good film quality.
く課題を解決するための手段〉
前記目的を達成する本発明にかかる光ファイバのハーメ
チックコーティング装置は、線引炉で紡糸されたファイ
バが通過する反応管を有する異種核化学的付着又は化学
的蒸気付着反応炉により金属若しくは無機物からなるハ
ーメチック被覆を形成する光ファイバのハーメチックコ
ーティング装置において、上記反応管の一の被覆を形成
する部分がファイバの移動方向に沿って複数の部屋に区
画され、各部屋のガス雰囲気条件がそれぞれ独立して制
御できることを特徴とする。Means for Solving the Problems〉 The hermetic coating device for optical fiber according to the present invention that achieves the above-mentioned object has a reaction tube through which a fiber spun in a drawing furnace passes. In an optical fiber hermetic coating device that forms a hermetic coating made of a metal or an inorganic material in a deposition reaction furnace, a portion forming one coating of the reaction tube is divided into a plurality of chambers along the direction of movement of the fiber, and each chamber is The gas atmosphere conditions of the two can be controlled independently.
く作 用〉
紡糸されたファイバが反応管の一のハーメチック被覆を
施す複数の部屋を通過する際、各部のガス雰囲気の温度
、ガス濃度及びガス流量は各部屋を通過するファイバ温
度に合せて最適に調節され、膜質の良好な厚い膜が形成
される。Function: When the spun fiber passes through multiple chambers where one hermetic coating is applied to the reaction tube, the temperature, gas concentration, and gas flow rate of the gas atmosphere in each section are optimized to match the temperature of the fiber passing through each chamber. A thick film with good film quality is formed.
線引炉を出たファイバの温度は近似的に次式で表される
。The temperature of the fiber leaving the drawing furnace is approximately expressed by the following equation.
hz
T、=T0+ (T、 To) e ”dVFTl:フ
ァイバ温度、To:外気温度。hz T, = T0+ (T, To) e "dVFTl: Fiber temperature, To: Outside temperature.
T6:紡糸直後のファイバ温度。T6: Fiber temperature immediately after spinning.
h:熱伝達率、ρ:ファイバ密度、C:ファイバ比熱。h: heat transfer coefficient, ρ: fiber density, C: fiber specific heat.
d:ファイバ径、z:紡糸点からの距離。d: fiber diameter, z: distance from the spinning point.
■F:s速
したがって、ファイバ温度Tlは、紡糸点からの距離Z
の増加に伴い指数関数的に低下する。■F: s speed Therefore, the fiber temperature Tl is the distance Z from the spinning point
decreases exponentially as .
ここで、簡単のため、外気温度を約20℃とし、実際の
炉内のガス温度及びCVDによるガス反応の発熱・吸熱
の影響を無視し、例えばcl = 125 μm、 V
F= 150m/+inの場合、炉入口で1600℃の
ファイバは10艶下方では1380℃、30cm下方で
は1030℃、50cm下方では770℃と急激に冷却
されてしまうことになる。Here, for the sake of simplicity, the outside air temperature is assumed to be about 20°C, and the actual gas temperature in the furnace and the effects of exothermic and endothermic gas reactions due to CVD are ignored. For example, cl = 125 μm, V
In the case of F=150 m/+in, a fiber at 1600° C. at the furnace entrance will be rapidly cooled to 1380° C. below 10 gloss, 1030° C. below 30 cm, and 770° C. below 50 cm.
このようなファイバの冷却の様子を第3図に示す。図中
、TIがファイバ温度であり、T2がそのファイバ温度
に対して最適なガス雰囲気の温度である。又、TQの上
下の八ツチングを施した部分は最適な状態で生膜できる
温度範囲であり、その範囲より高い温度ではダストが発
生し、低すぎると反応せずに膜が形成されない。なお、
ここではガス濃度及びガス流量は一定としである。FIG. 3 shows how the fiber is cooled. In the figure, TI is the fiber temperature, and T2 is the optimum gas atmosphere temperature for the fiber temperature. Further, the eighted portions above and below the TQ are within the temperature range in which a viable film can be produced in an optimal state; if the temperature is higher than that range, dust will be generated, and if it is too low, there will be no reaction and no film will be formed. In addition,
Here, the gas concentration and gas flow rate are assumed to be constant.
よって、複数の部屋のガス雰囲気の温度を、最適範囲に
入るように調節し、又、ガス濃度・流量を調節しながら
それに合せた最IIi温度範囲に入るように調節するこ
とにより、複数の部屋に亘って膜質の良好な膜が形成さ
れる。Therefore, by adjusting the temperature of the gas atmosphere in multiple rooms so that it falls within the optimal range, and by adjusting the gas concentration and flow rate so that it falls within the optimal temperature range, it is possible to A film with good film quality is formed over the period of time.
く実 施 例〉 以下、本発明を実施例により詳細に説明する。Example of implementation Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples.
第1図には本発明の好適な一実施例にかかる光ファイバ
のハーメチックコーティング装置の概略を示す。なお、
従来と同様な部分には同様な符号を付し重複した説明は
省略する。FIG. 1 schematically shows an optical fiber hermetic coating apparatus according to a preferred embodiment of the present invention. In addition,
Parts that are the same as those in the prior art are given the same reference numerals and redundant explanations will be omitted.
同図に示すように、線引炉1の直下に設けられた反応炉
4の反応管3はシャッタ9によりファイバの移動方向に
沿って3つの部屋3A〜30に分割されており、各部屋
3A〜3C内のガス温度を独立して制御できるようにそ
れぞれ独立したヒータ2A〜2Cが設けられている。ま
た、各部屋3A〜3Cはそれぞれガス供給口3a及びガ
ス排気口3bとが独立して設けられており、各ガス供給
口3a及びガス排気口3bには原料ガスの濃度・流量が
各部屋3A〜3C毎に調節できるようにそれぞれ独立し
てバルブ78〜7C及び流量計8a〜8Cが設けられて
いる。乙のようにして、各部屋3A〜3Cのガス雰囲気
条件、すなわちガス温度、ガス流量・濃度は独立して設
定できるようになっている。As shown in the figure, the reaction tube 3 of the reaction furnace 4 provided directly below the drawing furnace 1 is divided into three chambers 3A to 30 along the moving direction of the fiber by a shutter 9. Independent heaters 2A to 2C are provided so that the gas temperature within 3C can be independently controlled. Further, each of the rooms 3A to 3C is independently provided with a gas supply port 3a and a gas exhaust port 3b, and each gas supply port 3a and gas exhaust port 3b has the concentration and flow rate of the source gas in each room 3A. Valves 78 to 7C and flowmeters 8a to 8C are provided independently so that the flow can be adjusted every 3C. As shown in Part B, the gas atmosphere conditions in each of the rooms 3A to 3C, that is, the gas temperature, gas flow rate and concentration, can be set independently.
なお、シャッタのファイバ通過孔の径は4門φ程度と充
分小さくし、各部屋3A〜3C内に供給、排気するガス
の量のバランスをとると共に各部屋3A〜30間のガス
の混入及び大気の混入を防止している。また、各部屋3
A〜3C内のガス温度はそれぞれ挿入されている熱電対
により測定している。In addition, the diameter of the fiber passage hole of the shutter is made sufficiently small, about 4 gates φ, to balance the amount of gas supplied and exhausted into each room 3A to 3C, and to prevent the mixture of gas and the atmosphere between each room 3A to 30. This prevents contamination. Also, each room has 3
Gas temperatures in A to 3C are each measured by inserted thermocouples.
反応管3の全長を32 am 、各部屋3A〜3Cの長
さをそれぞれ9 an、 IQ、5 am、 12
.5 amとしてあり、各部J13A〜3C内でのファ
イバ温度の範囲が200℃程度になるように設定しであ
る。すなわち、上述したように反応管の入口でのファイ
バ温度が1600℃、出口で100.0℃とすると、第
1の部屋3A内では1600〜1400℃、第2の部屋
3B内では1400〜1200℃、第3の部屋3C内で
は1200〜1000℃となる。The total length of the reaction tube 3 is 32 am, and the length of each chamber 3A to 3C is 9 an, IQ, 5 am, 12
.. 5 am, and the fiber temperature range in each part J13A to J13C is set to be about 200°C. That is, if the fiber temperature at the inlet of the reaction tube is 1600°C and 100.0°C at the outlet as described above, then the temperature in the first chamber 3A is 1600 to 1400°C, and in the second chamber 3B it is 1400 to 1200°C. , the temperature in the third room 3C is 1200 to 1000°C.
かかるハーメチックコーティング装置を用いて、各部屋
3A〜3C内のガス濃度及びガス流量を独立して調節す
ると共に、各部屋3A〜3Cのガス温度をと−タ2A〜
2Cによりそれぞれ最″a温度範囲に設定することによ
り、良好な膜質のハーメチック被膜を全部屋3A〜30
に亙って形成することができた。Using such a hermetic coating device, the gas concentration and gas flow rate in each chamber 3A to 3C are independently adjusted, and the gas temperature in each chamber 3A to 3C is controlled.
By setting the temperature to the maximum temperature range of 2C, a hermetic coating of good film quality can be applied to all rooms 3A to 30.
It was possible to form it over a period of time.
第2図には他の実施例にかかる八−メチツクコーティン
グ装置を示す。同図に示すように、本実施例では反応管
30をファイバ温度が100℃単位となるように6分割
するシャッタ9を設けて部屋aOA〜30Fを形成した
ものであり、各部屋30A〜30Fにはそれぞれガス供
給口30a及びガス排気口30bを設けた点も上記実施
例と同様である。なお、各部屋30A 〜30Fの長さ
は4.0cm、4.5am、 5.0 am、 5.5
am、 6.0 am、 6.5 cmである。FIG. 2 shows an eight-mesh coating apparatus according to another embodiment. As shown in the figure, in this embodiment, a shutter 9 is provided that divides the reaction tube 30 into six so that the fiber temperature is in units of 100°C to form rooms aOA to 30F. This embodiment is also similar to the above embodiment in that a gas supply port 30a and a gas exhaust port 30b are provided respectively. The lengths of each room 30A to 30F are 4.0 cm, 4.5 am, 5.0 am, 5.5
am, 6.0 am, 6.5 cm.
ま1、各ガス供給口30a及びガス排気口30bにはそ
れぞれ独立したバルブ7a〜7C及び流量計8a〜8C
を接続して各部屋30A〜30Fのガス濃度・流量を独
立して調節できろようになっている点も上述した実施例
と同様である。1. Each gas supply port 30a and gas exhaust port 30b are provided with independent valves 7a to 7C and flow meters 8a to 8C, respectively.
It is also similar to the embodiment described above that the gas concentration and flow rate in each of the rooms 30A to 30F can be adjusted independently by connecting them.
なお、この反応管30は断熱材20で囲まれることによ
り反応炉40を形成しており、各部屋30A〜30F内
のガス雰囲気温度の調節は炉外に設けられたヒータ10
により制御できるようになっている。すなわち、各部屋
に供給されるガス温度をヒータ10で各別に調節するこ
とにより、各部屋30A〜30F内のガス雰囲気温度を
適正に保つようになっている。The reaction tube 30 is surrounded by a heat insulating material 20 to form a reaction furnace 40, and the gas atmosphere temperature in each chamber 30A to 30F is controlled by a heater 10 provided outside the furnace.
It can be controlled by. That is, by adjusting the temperature of the gas supplied to each room individually using the heater 10, the gas atmosphere temperature in each room 30A to 30F is maintained at an appropriate level.
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明にかかる光ファイバのハー
メチックコーティング装置によれば、一の被覆層を形成
するファイバ移動方向に亙って適正なガス5J凹気条件
を設定できるので、膜質の良好な厚い被膜を形成すると
とができ、また、この場合、膜質がほぼ均一となるので
膜の良否は膜質×膜厚で表わすことができる。<Effects of the Invention> As explained above, according to the optical fiber hermetic coating apparatus according to the present invention, appropriate gas 5J concave conditions can be set over the fiber moving direction forming one coating layer. It is possible to form a thick film with good film quality, and in this case, the film quality is almost uniform, so the quality of the film can be expressed as film quality x film thickness.
第1図は本発明の一実施例にかかる光ファイバのハーメ
チックコーティング装置を概念的に示す説明図、第2図
は他の実施例にかかる装置を概念的に示す説明図、第3
図はファイバ冷却とガス雰囲気最′a温度を示すグラフ
、第4図は従来技術にかかるハーメチックコーティング
装置を示す説明図である。
図 面 中、
1は線引炉、
2はヒータ、
3.30は反応管、
3A〜3G、30A〜30Fは部屋、
4.40は反応炉、
5はファイバ、
6は樹脂被覆装置、
7a〜7cはバルブ、
88〜8cは流量計、
9はシャッタ、
10はヒータ、
20は断熱材である。FIG. 1 is an explanatory diagram conceptually showing an optical fiber hermetic coating device according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram conceptually showing a device according to another embodiment, and FIG.
The figure is a graph showing fiber cooling and the maximum gas atmosphere temperature, and FIG. 4 is an explanatory diagram showing a hermetic coating apparatus according to the prior art. In the drawing, 1 is a drawing furnace, 2 is a heater, 3.30 is a reaction tube, 3A to 3G, 30A to 30F are rooms, 4.40 is a reaction furnace, 5 is a fiber, 6 is a resin coating device, 7a- 7c is a valve, 88 to 8c are flow meters, 9 is a shutter, 10 is a heater, and 20 is a heat insulating material.
Claims (2)
有する異種核化学的付着又は化学的蒸気付着反応炉によ
り金属若しくは無機物からなるハーメチック被覆を形成
する光ファイバのハーメチックコーティング装置におい
て、上記反応管の一の被覆を形成する部分がファイバの
移動方向に沿って複数の部屋に区画され、各部屋のガス
雰囲気条件がそれぞれ独立して制御できることを特徴と
する光ファイバのハーメチックコーティング装置。(1) In an optical fiber hermetic coating device that forms a hermetic coating made of metal or inorganic material using a heteronuclear chemical deposition or chemical vapor deposition reactor having a reaction tube through which the fiber spun in a drawing furnace passes, A hermetic coating device for optical fibers, characterized in that a portion forming one coating of a reaction tube is divided into a plurality of chambers along the direction of movement of the fiber, and gas atmosphere conditions in each chamber can be independently controlled.
個の熱源により各部屋のガス雰囲気の温度を調節すると
共に、各部屋毎に供給されるガスの混合比・流量を複数
のバルブを介して設定することにより、各部屋のガス雰
囲気条件を制御する請求項1記載の光ファイバのハーメ
チックコーティング装置。(2) The temperature of the gas atmosphere in each room is adjusted using multiple heaters installed inside the furnace or multiple heat sources outside the furnace, and multiple valves are used to control the mixing ratio and flow rate of the gas supplied to each room. 2. The hermetic coating apparatus for optical fibers according to claim 1, wherein the gas atmosphere conditions in each room are controlled by setting the gas atmosphere conditions in each room.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP64000558A JPH02180735A (en) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | Hermetically coating device for optical fiber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP64000558A JPH02180735A (en) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | Hermetically coating device for optical fiber |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02180735A true JPH02180735A (en) | 1990-07-13 |
Family
ID=11477054
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP64000558A Pending JPH02180735A (en) | 1989-01-06 | 1989-01-06 | Hermetically coating device for optical fiber |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02180735A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5348564A (en) * | 1991-02-14 | 1994-09-20 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for manufacturing a hermetically coated optical fiber |
JP2019518139A (en) * | 2016-06-02 | 2019-06-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Continuous chemical vapor deposition (CVD) multi-zone processing kit |
-
1989
- 1989-01-06 JP JP64000558A patent/JPH02180735A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5348564A (en) * | 1991-02-14 | 1994-09-20 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method for manufacturing a hermetically coated optical fiber |
JP2019518139A (en) * | 2016-06-02 | 2019-06-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Continuous chemical vapor deposition (CVD) multi-zone processing kit |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5455070A (en) | Variable rate distribution gas flow reaction chamber | |
US4863760A (en) | High speed chemical vapor deposition process utilizing a reactor having a fiber coating liquid seal and a gas sea; | |
US4619844A (en) | Method and apparatus for low pressure chemical vapor deposition | |
JPH01251725A (en) | Semiconductor manufacturing apparatus | |
JP2798486B2 (en) | Method and apparatus for producing hermetic coated optical fiber | |
JPH02150040A (en) | Vapor growth apparatus | |
JPH03281780A (en) | Cvd device | |
US5970382A (en) | Process for forming coatings on semiconductor devices | |
EP0473067A1 (en) | Wafer processing reactor | |
JPH02180735A (en) | Hermetically coating device for optical fiber | |
EP0649479B1 (en) | Method and apparatus for coating a glass substrate | |
JPH0549614B2 (en) | ||
JPS6025381B2 (en) | Optical fiber coating furnace | |
JP4287918B2 (en) | Substrate surface treatment equipment | |
JPH0316120A (en) | Chemical vapor growth device and gas head thereof | |
JPH02212340A (en) | Device for coating optical fiber with thin film | |
EP0226651A1 (en) | Apparatus for chemical vapor deposition of a coating on an optical fiber | |
JPH03131594A (en) | Gaseous phase grow device | |
JPH08279466A (en) | Manufacture apparatus for semiconductor device | |
JPH02149451A (en) | Production of inorganic coated optical fiber and device therefor | |
Jones et al. | In-situ control of chemical vapor deposition for fiber coating | |
JPS59102843A (en) | Manufacture of metal-coated optical fiber | |
JPS602667A (en) | Sublimating and supplying device of solid raw material | |
JPS6195510A (en) | Cvd apparatus | |
JPS61269307A (en) | Cvd device |