JPH02178635A - Optical resonance type filter - Google Patents

Optical resonance type filter

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JPH02178635A
JPH02178635A JP33114388A JP33114388A JPH02178635A JP H02178635 A JPH02178635 A JP H02178635A JP 33114388 A JP33114388 A JP 33114388A JP 33114388 A JP33114388 A JP 33114388A JP H02178635 A JPH02178635 A JP H02178635A
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JP
Japan
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light
wavelength
filter
refractive index
inp
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Application number
JP33114388A
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Japanese (ja)
Inventor
Kentaro Kondo
賢太郎 近藤
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a filter characteristic which allows the transmission of only the single frequency by using a light transparent structural body which generates Bragg reflection to form at least one of a pair of translucent mirrors which constitute a Fabry-Perot interferometer. CONSTITUTION:InGaAs layers 2 and InP layers 3 are alternately laminated on a substrate consisting of an InP single crystal 1. The respective thicknesses of the layers are 1/4 the wavelength of the light to be transmitted, i.e. lambda/4. The refractive index distribution of the structural body is periodic and the respective thicknesses is lambda/4; therefore, the Bragg reflection takes place in the same manner as with a distribution feedback type semiconductor laser. Namely, of the incident light from the surface 4 side, only the light of the wavelength satisfying the Bragg condition with respect to the periodic structure reflects in the incident direction. If the surface 4 is finished to a smooth specular surface, the light arriving there from the InP side reflects on this surface and is made incident again to the periodic structural part. The repetition of such reflections takes place only with the specific wavelength light. The characteristic which resonates only to the light of the single wavelength is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 本発明は、光共振を利用して特定波長の光を透過させる
ファブリ・ペロ干渉針(エタロン)型のフィルタに関し
、 形成の容易な干渉計構造の提供および単一周波数のみを
透過する濾波特性や周波数可変特性の実現或いは独立し
た動作が可能な集積構造の実現を目的とし、 ファブリ・ペロ干渉計を構成する1対の半透鏡の少なく
も一方が、ブラッグ反射を生ずる透光性の構造体である
光共振型フィルタを基本構成とし、本件の他の発明では
、前記光共振型フィルタの光入出力面の周囲表面に電極
を設け、該電極に電圧を印加することにより、前記干渉
計の定在波生成空間の屈折率を変化させて共振周波数を
変化せしめ得る構成とし、 本件の更に他の発明では、前記共振周波数可変光共振型
フィルタを同一半導体基板上に配列形成し、前記フィル
タの夫々に独立に電圧を印加して共振周波数を可変なら
しめる構成とする。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention relates to a Fabry-Perot interference needle (etalon) type filter that transmits light of a specific wavelength using optical resonance, and provides an easy-to-form interferometer structure. At least one of the pair of semi-transparent mirrors that make up the Fabry-Perot interferometer is designed to realize filtering characteristics that transmit only a single frequency, variable frequency characteristics, or to realize an integrated structure that can operate independently. The basic configuration is an optical resonant filter that is a transparent structure that causes Bragg reflection, and in another invention of the present invention, an electrode is provided on the peripheral surface of the optical input/output surface of the optical resonant filter, and a voltage is applied to the electrode. By applying , the refractive index of the standing wave generation space of the interferometer is changed and the resonant frequency can be changed. The filters are arranged in an array on a substrate, and a voltage is independently applied to each of the filters to vary the resonance frequency.

(産業上の利用分野〕 本発明は平面配置の可能な形状の光学フィルタに関わり
、特にファブリ・ペロ干渉計の原理に基づく固型の光学
フィルタに関わる。
(Industrial Application Field) The present invention relates to an optical filter having a shape that can be arranged in a plane, and particularly to a solid optical filter based on the principle of Fabry-Perot interferometer.

特定の波長の光のみを透過させる光学フィルタとして、
ファブリ・ペロ干渉計が知られている。
As an optical filter that only transmits light of a specific wavelength,
The Fabry-Perot interferometer is known.

これはエタロンとも呼ばれ、1対の半透鏡(ハーフミラ
−)を一定の距離を隔てて正確に平行配置した構造を持
つものである。
This is also called an etalon, and has a structure in which a pair of semi-transparent mirrors are arranged precisely in parallel with a certain distance apart.

一方のハーフミラ−を通してエタロンに入射した光は、
2枚のハーフミラ−間で反射を繰り返し、相互に干渉し
合って、特定波長光の定在波を生ずる。その結果、エタ
ロン内に定在波を生ずる波長の光は反射することなくエ
タロンを透過するのに対し、その他の波長の光は反射し
てしまい、エタロンを透過することがない。即ち、エタ
ロンは特定の波長のみを透過する急峻な特性の波長選択
型フィルタとして機能するわけである。
The light that enters the etalon through one half mirror is
The light is repeatedly reflected between the two half mirrors and interferes with each other, producing a standing wave of light of a specific wavelength. As a result, light with a wavelength that causes a standing wave within the etalon is transmitted through the etalon without being reflected, whereas light with other wavelengths is reflected and does not pass through the etalon. That is, the etalon functions as a wavelength selective filter with steep characteristics that transmits only specific wavelengths.

一方、光通信など光信号によって情報を伝達する場合、
波長多重システムとすることや、従前のように一旦電気
信号に変換して情報処理するのではなく、光信号のまま
で情報処理することが盛んに行われるようになっている
On the other hand, when information is transmitted using optical signals such as optical communication,
Wavelength multiplexing systems and processing of information using optical signals as they are, rather than converting them into electrical signals as in the past, are becoming increasingly popular.

このような技術動向に対応して、様々な機能を持つ素子
の開発が進められているが、フィルタに関しては、特定
の波長を選択透過する特性の優れたものが求められてい
る他、光集積回路中に複数の素子を集積し得るような、
二次元配列の可能な構造のフィルタも求められている。
In response to these technological trends, the development of elements with various functions is progressing, but in terms of filters, there is a need for filters with excellent characteristics that selectively transmit specific wavelengths, and optical integrated A circuit that can integrate multiple elements into a circuit.
There is also a need for filters with possible structures in two-dimensional arrays.

本発明のフィルタは原理的にはエタロンを発展させたも
のであり、集積化の容易な構造を持つものである。
The filter of the present invention is, in principle, an advanced version of an etalon, and has a structure that is easy to integrate.

〔従来の技術と発明が解決しようとする課題〕従来波長
選択型のフィルタとしては上記エタロンが多く用いられ
ている。エタロンの共振特性を良好なものとするために
は、一対のハーフミラ−を所定の間隔で正確に平行に設
置しなければならないが、このような機械精度の厳密さ
は、単に生産性を低下させるだけでなく、半導体技術に
於ける諸元の精密制御にはなじまない嫌いがあり、光集
積回路などの形成にこの種の厳密さが要求されることは
望ましいことではない。
[Prior Art and Problems to be Solved by the Invention] Conventionally, the above etalon has been widely used as a wavelength selective filter. In order to improve the resonance characteristics of the etalon, a pair of half mirrors must be placed accurately in parallel at a predetermined distance, but such strict mechanical precision simply reduces productivity. Moreover, it is not suitable for precise control of specifications in semiconductor technology, and it is not desirable to require this kind of precision in the formation of optical integrated circuits.

更に、エタロンはファブリ・ペロ共振特性を持つもので
あるから、多数の共振ピークが存在し、そのいずれかに
−敗する波長の光は全て透過することになるため、単一
波長光のみを透過させるという要求には合致しないもの
である。
Furthermore, since the etalon has Fabry-Perot resonance characteristics, there are many resonance peaks, and all light of wavelengths that fall outside of one of them will be transmitted, so only light of a single wavelength will be transmitted. This does not meet the requirement to do so.

透過光の波長を可変にしたいという要求に対しては、光
干渉空間となる半導体の屈折率を電圧印加によって変化
させ、それによって共振波長を変化させることが行われ
ている。 第5図(a)はそのようなエタロンの構造を
示す断面模式図で、表裏両面を鏡面に且つ正確に平行に
仕上げられたGaAfAs基板11に電極6及び6′が
設けられている。光はこれ等の電極が設けられていない
窓部分から入出射する。
In response to the demand for varying the wavelength of transmitted light, the refractive index of a semiconductor, which serves as an optical interference space, is changed by applying a voltage, thereby changing the resonant wavelength. FIG. 5(a) is a schematic cross-sectional view showing the structure of such an etalon, in which electrodes 6 and 6' are provided on a GaAfAs substrate 11 whose front and back surfaces are mirror-finished and accurately parallel. Light enters and exits through the window portions where these electrodes are not provided.

GaAj!Asの屈折率が大であることから、大気との
界面は反射面として機能し、核層の両表面が平行であれ
ばファブリ・ペロ型の共振器が構成され、第5図(ロ)
に実線で示したように、共振波長光以外の透過率は極端
に低下した特性を持つものとなる。
GaAj! Since the refractive index of As is high, the interface with the atmosphere functions as a reflective surface, and if both surfaces of the nuclear layer are parallel, a Fabry-Perot type resonator is constructed, as shown in Figure 5 (b).
As shown by the solid line in , the transmittance of light other than the resonant wavelength light has an extremely reduced characteristic.

ここで、共振周波数は干渉空間の屈折率の関数でもある
から、屈折率を変化させれば共振周波数も変化する。第
5図(a)のエタロンは電極6及び6′に電圧を印加す
ることによって干渉空間であるGaAj!As層の屈折
率を変化させれば、第5図(ロ)に点線で示したように
共振周波数が変移することになる。
Here, since the resonant frequency is also a function of the refractive index of the interference space, changing the refractive index will also change the resonant frequency. The etalon of FIG. 5(a) is constructed as an interference space GaAj! by applying a voltage to the electrodes 6 and 6'. If the refractive index of the As layer is changed, the resonance frequency will change as shown by the dotted line in FIG. 5(b).

この種のフィルタを複数個光集積回路に作り込み、夫々
独立に透過波長を設定したいという要求も当然あるわけ
であるが、2枚の半透鏡を集積回路内に高精度に配置形
成することは、単独に形成するよりも困難である。
Naturally, there is a demand for building multiple filters of this type into an optical integrated circuit and setting the transmission wavelength independently for each filter, but it is difficult to arrange and form two semi-transparent mirrors within an integrated circuit with high precision. , is more difficult than forming alone.

本発明の目的は、エタロンの如く光の干渉を利用し然も
単一の波長の光だけに共振する特性を備えたフィルタを
提供することであり、他の目的は共振波長が可変である
フィルタを提供することであり、更に他の目的はこのよ
うな特徴を備えたフィルタが作り込まれた集積回路装置
を提供することであり、上記フィルタに共通の目的とし
て、形成が容易な構造を提供することである。
The purpose of the present invention is to provide a filter that utilizes optical interference like an etalon and has the characteristic of resonating only with light of a single wavelength.Another purpose of the present invention is to provide a filter that uses optical interference and has the characteristic of resonating only with light of a single wavelength. Another object of the present invention is to provide an integrated circuit device incorporating a filter having such characteristics, and a common object of the above-mentioned filters is to provide a structure that is easy to form. It is to be.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するため、本発明の共振型フィルタは 一対の反射体を対向配置し、該反射体間の反射光の干渉
により特定波長の光の定在波を生ぜしめるファブリ・ペ
ロ干渉計型の光学装置に於いて、前記一対の反射体の少
な(も一方が、ブラング反射を生ずる透光性の構造体で
あることを特徴とし、或いは 該光共振型フィルタの光入出力面以外の表面に電極を設
け、該電極に電圧を印加することにより、前記干渉計の
定在波生成空間の屈折率を変更し得るごとく構成されて
成ることを特徴とし、或いは複数の前記光共振型フィル
タを同−半導体基板圧を印加して屈折率を変更し得る如
く構成されて成ることを特徴としている。
In order to achieve the above object, the resonant filter of the present invention is a Fabry-Perot interferometer type in which a pair of reflectors are arranged facing each other, and a standing wave of light of a specific wavelength is generated by interference of reflected light between the reflectors. In the optical device, one of the pair of reflectors is a translucent structure that causes Blang reflection, or a surface other than the light input/output surface of the optical resonant filter is The interferometer is characterized in that it is configured such that the refractive index of the standing wave generation space of the interferometer can be changed by providing an electrode thereon and applying a voltage to the electrode, or a plurality of the optical resonant filters. It is characterized in that it is constructed so that the refractive index can be changed by applying pressure to the semiconductor substrate.

〔作 用〕[For production]

本発明の光共振型フィルタの基本構造は第1図の断面模
式図に示されている。以下該図面を参照しながら、本発
明のフィルタの構造及び機能を説明し、これが前記目的
に合致したものであることを説明する。
The basic structure of the optical resonant filter of the present invention is shown in the schematic cross-sectional view of FIG. The structure and function of the filter of the present invention will be explained below with reference to the drawings, and it will be explained that the filter meets the above object.

1はInP単結晶で、該フィルタを形成する際にエピタ
キシャル成長の基板となるものであり、通常その厚さは
取り扱う光の波長よりも大である。
Reference numeral 1 denotes an InP single crystal, which serves as a substrate for epitaxial growth when forming the filter, and its thickness is usually larger than the wavelength of the light to be handled.

その上にInGaAsP層2と102層3が交互に積層
されており、夫々の厚さは透過させようとする光の波長
の174、即ちλ/4である。なお、λは各半導体材料
の屈折率を加味した値であり、InGaAsPの組成は
例えば1 no、s++Gao、4zASo、qPo、
+である。
InGaAsP layers 2 and 102 layers 3 are alternately laminated thereon, and the thickness of each layer is 174 times the wavelength of the light to be transmitted, that is, λ/4. Note that λ is a value that takes into account the refractive index of each semiconductor material, and the composition of InGaAsP is, for example, 1 no, s++Gao, 4zASo, qPo,
It is +.

かかる構造体の屈折率分布は、第1図の右部に描き込ま
れているように、周期的であり且つ夫々の厚さがλ/4
であることから、分布帰還型半導体レーザに於けると同
様にブラッグ反射が起こる。
The refractive index distribution of such a structure is periodic and has a thickness of λ/4, as shown in the right part of FIG.
Therefore, Bragg reflection occurs in the same way as in distributed feedback semiconductor lasers.

即ち、表面4の側から入射した光のうち、該周期構造に
対しブラッグの条件を満足する波長の光のみが入射方向
に反射する。
That is, of the light incident from the surface 4 side, only light with a wavelength that satisfies the Bragg condition for the periodic structure is reflected in the direction of incidence.

表面4が平滑な鏡面に仕上げられていると、大気よりも
屈折率が大であるInP側からここに到達した光は核部
で反射し、再び周期構造部に入射する。このような反射
の繰り返しはファブリ・ペロ干渉計に於けると同様、特
定の波長光に対してのみ起こる。なお、ブラッグ反射に
よって定在波を生ずるための位相条件は、最表面層を低
屈折率層とすることで満たされる。
When the surface 4 is finished as a smooth mirror surface, light that reaches here from the InP side, which has a higher refractive index than the atmosphere, is reflected at the core and enters the periodic structure again. Similar to the Fabry-Perot interferometer, such repeated reflections occur only for light of a specific wavelength. Note that the phase condition for generating a standing wave by Bragg reflection is satisfied by making the outermost layer a low refractive index layer.

フィルタの背面も平坦面であるが、無反射コーテイング
膜5が設けられているため核部での反射は起こらず、こ
こに到達した光は単に透過出射するだけである。従って
、InP層1の厚さが干渉条件に影響を及ぼすことはな
く、核層の厚さについて特別の条件が設定されることは
ない。
The back surface of the filter is also a flat surface, but since the non-reflection coating film 5 is provided, no reflection occurs at the core, and the light that reaches this core is simply transmitted and emitted. Therefore, the thickness of the InP layer 1 does not affect the interference conditions, and no special conditions are set for the thickness of the core layer.

上記の如く、第1図の構造体はファプリ・ペロ干渉針と
同じように特定波長の光のみを透過する急峻な濾波特性
のフィルタとして機能するのであるが、ファプリ・ペロ
干渉針と異なる点として、高次の共振波長光の透過が殆
ど無いことが挙げられる。
As mentioned above, the structure shown in Figure 1 functions as a filter with steep filtering characteristics that transmits only light of a specific wavelength in the same way as the Fapley-Perot interference needle, but it differs from the Fapley-Perot interference needle in that , there is almost no transmission of high-order resonant wavelength light.

更に第2図の如く、第1図の構造体に電極6及び6′を
設け、該電極間への電圧印加によって周期構造部の屈折
率を変化させれば、透過光の波長を変化させることが出
来る。
Furthermore, as shown in FIG. 2, if electrodes 6 and 6' are provided on the structure shown in FIG. 1 and the refractive index of the periodic structure is changed by applying a voltage between the electrodes, the wavelength of the transmitted light can be changed. I can do it.

次に、第1図或いは第2図の構造体で、2つの反射体を
平行に形成することが容易である点について説明する。
Next, the point that it is easy to form two reflectors in parallel in the structure shown in FIG. 1 or 2 will be explained.

既に述べたように屈折率が周期的に変化する部分は、I
nP層とInGaAsP層を交互にエピタキシャル成長
させて形成するが、エピタキシャル成長では成長表面を
基板面に平行に受は継がれてゆくから、これ等の層の堆
積方向はInP最終成長面に対して直角であり、両度射
面を正確に対向させることが自己整合的に実現するので
ある。
As already mentioned, the part where the refractive index changes periodically is I
The nP layer and InGaAsP layer are formed by epitaxial growth alternately, but in epitaxial growth, the growth surface is parallel to the substrate surface, so the deposition direction of these layers is perpendicular to the final InP growth plane. This allows the two planes of incidence to accurately face each other in a self-aligning manner.

本発明の光共振型フィルタでは自己整合的に鏡面の方位
合わせが行われることから、これを同一基板上に多数配
列して形成することも容易となり、夫々に屈折率制御電
極を設け、独立に電圧を印加することによって、特性の
異なるフィルタを集積した装置が実現することになる。
In the optical resonant filter of the present invention, since the orientation of the mirror surface is aligned in a self-aligned manner, it is easy to form a large number of filters arranged on the same substrate. By applying a voltage, a device that integrates filters with different characteristics can be realized.

〔実施例〕〔Example〕

第3図は本発明の第1の実施例のフィルタの構造を示す
模式図である。同図(a)は屈折率制御用電極を備えた
構造の断面を示しており、n型のInP基板1の表面側
にブラッグ反射層が形成され、光入力用窓部の表面は鏡
面に仕上げられている。
FIG. 3 is a schematic diagram showing the structure of a filter according to the first embodiment of the present invention. Figure (a) shows a cross section of a structure equipped with a refractive index control electrode, in which a Bragg reflection layer is formed on the surface side of an n-type InP substrate 1, and the surface of the light input window is finished with a mirror finish. It is being

背面の光出力用窓部には無反射コーテイング膜5として
510g層が被着されている。これ等の周期構造部や鏡
面仕上げ、無反射コーテイング膜の役割は既に説明した
通りである。
A 510 g layer is applied as a non-reflective coating film 5 to the light output window on the back side. The roles of these periodic structures, mirror finishing, and non-reflection coating film have already been explained.

本実施例のフィルタには電極6.6′が設けられている
。該電極は光入出力用窓を囲むように設けるのが適当で
ある。窓の形状は円形成いは正方形が通常であるが、こ
れに限られるものではない。
The filter of this embodiment is provided with electrodes 6,6'. It is appropriate that the electrode be provided so as to surround the light input/output window. The shape of the window is usually circular or square, but is not limited to this.

全体の構成としては本実施例のフィルタは、−方の反射
面だけがブラッグ反射面であり、他方は通常の鏡面であ
る。
As for the overall configuration of the filter of this embodiment, only the negative reflecting surface is a Bragg reflecting surface, and the other is a normal mirror surface.

周期構造部の詳細は第3図(ロ)に示されている。Details of the periodic structure are shown in FIG. 3(b).

前記n−1nP基板上に不純物をドープしないInP層
とI n6.s+Gao、4zASo、qPo、+層が
いずれも120 nmの厚さで30層づつ交互に積層さ
れており、最上層としてp−InP層がこれも120 
nmの厚さに形成されている。この積層体の屈折率分布
は同図の右方に描き込まれている通りである。
An InP layer not doped with impurities and an In6. The s+Gao, 4zASo, qPo, and + layers are all stacked alternately in 30 layers each with a thickness of 120 nm, and the p-InP layer is also 120 nm thick as the top layer.
It is formed to a thickness of nm. The refractive index distribution of this laminate is as drawn on the right side of the figure.

上記の導電型構成を持つ該素子に、屈折率制御用電極を
介して15Vの電圧を印加すると、InGaAs P層
の屈折率は3.50から3.49に、InP層のそれは
3.16から3.15に夫々変化し、それに伴って共振
波長は1.598μmから1.594μmに4nmだけ
変移する。
When a voltage of 15 V is applied to the element having the above conductivity type configuration through the refractive index control electrode, the refractive index of the InGaAs P layer changes from 3.50 to 3.49, and that of the InP layer changes from 3.16. 3.15, respectively, and accordingly, the resonance wavelength shifts by 4 nm from 1.598 μm to 1.594 μm.

第4図は本発明の第2の実施例の要部を示す断面模式図
で、該実施例のフィルタでは2つの反射面が共にブラッ
グ反射面となっている。ブラッグ反射面どうしを対向さ
せ、双方の反射光を共振させるために、高屈折率層どう
しが突き合わされた構造となっているが、この状況は図
面右方に描き込まれた屈折率分布図を参照することによ
り容易に理解されるであろう。本実施例では光入力窓、
出力窓には共に無反射コーテイング膜5が設けられる。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a main part of a second embodiment of the present invention. In the filter of this embodiment, both of the two reflecting surfaces are Bragg reflecting surfaces. In order to make the Bragg reflective surfaces face each other and resonate the reflected light from both sides, the high refractive index layers are butted against each other. It will be easily understood by reference. In this example, the optical input window,
A non-reflective coating film 5 is provided on both output windows.

これ等の実施例のフィルタを集積化する場合、独立の屈
折率制御電極を設けたものをマトリックス或いは六方稠
密に配列することが考えられるが、上記フィルタはエピ
タキシャル成長によって形成することが可能であるから
、このような集積化も容易である。
When integrating the filters of these embodiments, it is conceivable to arrange independent refractive index control electrodes in a matrix or hexagonal dense arrangement, but since the above filters can be formed by epitaxial growth, , such integration is also easy.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明のフィルタは基本的な機能
はエタロンに類似するものであるが、新規な構造をとる
ことによって再反射面の対向は自己整合的に達成されて
いる。そのため、これを多数配列した集積構造の実現が
容易であり、光学特性の面では単一波長の光のみを透過
する特徴を備えたものとなっている。
As explained above, the filter of the present invention has a basic function similar to an etalon, but by adopting a novel structure, the facing of the re-reflection surfaces is achieved in a self-aligned manner. Therefore, it is easy to realize an integrated structure in which a large number of these are arranged, and in terms of optical characteristics, it has the characteristic of transmitting only light of a single wavelength.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明のフィルタの基本構造を示す断面模式図
、 第2図は本発明のフィルタの波長制御構造を示す模式図
、 第3図は第1の実施例のフィルタの構造を示す模式図、 第4図は第2の実施例のフィルタの構造を示す模式図、 第5図は公知の電圧印加型エタロンを示す断面模式図 であって、 図に於いて lはInP基板、 1′はn−1nP基板、 2はInGaAsP。 3はInP、 3′ はp InP。 4表面  InP 4は一方の反射面となる表面、 5は無反射コーテイング膜、 6.6′ は電極 である。 本発明のフィルタの基本構造を示す断面模式間第 図 本発明のフィルタの波長制御構造を示す模式1第 図 (b) 第1の実施例のフィルタの構造を示す模式1第 図 公知の電圧印加型エタロンを示す模式1第 図 第2の実施例のフィルタの構造を示す模式1第 図
Fig. 1 is a schematic cross-sectional diagram showing the basic structure of the filter of the present invention, Fig. 2 is a schematic diagram showing the wavelength control structure of the filter of the present invention, and Fig. 3 is a schematic diagram showing the structure of the filter of the first embodiment. 4 is a schematic diagram showing the structure of the filter of the second embodiment, and FIG. 5 is a schematic cross-sectional diagram showing a known voltage application type etalon, in which l is an InP substrate, 1' 2 is an n-1nP substrate, and 2 is InGaAsP. 3 is InP, 3' is pInP. 4 Surface InP 4 is a surface that becomes one of the reflective surfaces, 5 is a non-reflective coating film, and 6.6' is an electrode. Schematic cross-sectional diagram showing the basic structure of the filter of the present invention. Schematic diagram 1 showing the wavelength control structure of the filter of the present invention. (b) Schematic diagram 1 showing the structure of the filter of the first embodiment. Known voltage application. Diagram 1 showing the type etalon Schematic 1 diagram showing the structure of the filter of the second embodiment

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一対の反射体を対向配置し、該反射体間の反射光
の干渉により特定波長の光の定在波を生ぜしめるファブ
リ・ペロ干渉計型の光学装置に於いて、前記一対の反射
体の少なくも一方が、ブラッグ反射を生ずる透光性の構
造体であることを特徴とする光共振型フィルタ。
(1) In a Fabry-Perot interferometer type optical device in which a pair of reflectors are arranged facing each other and a standing wave of light of a specific wavelength is generated by interference of reflected light between the reflectors, the pair of reflection An optical resonant filter characterized in that at least one of its bodies is a translucent structure that causes Bragg reflection.
(2)請求項(1)の光共振型フィルタの光入出力面以
外の表面に電極を設け、該電極に電圧を印加することに
より、前記干渉計の定在波生成空間の屈折率を変更し得
るごとく構成されて成ることを特徴とする光共振型フィ
ルタ。
(2) By providing an electrode on a surface other than the light input/output surface of the optical resonant filter according to claim (1) and applying a voltage to the electrode, the refractive index of the standing wave generation space of the interferometer is changed. An optical resonant filter characterized by being configured as desired.
(3)請求項(2)の光共振型フィルタを複数個同一半
導体基板上に配列形成し、前記フィルタの夫々に独立に
電圧を印加して屈折率を変更し得る如く構成されて成る
ことを特徴とする光共振型フィルタ。
(3) A plurality of optical resonant filters according to claim (2) are arranged and formed on the same semiconductor substrate, and the refractive index can be changed by applying a voltage to each of the filters independently. Characteristic optical resonant filter.
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