JPH02178396A - 洗浄溶剤 - Google Patents
洗浄溶剤Info
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- JPH02178396A JPH02178396A JP33503088A JP33503088A JPH02178396A JP H02178396 A JPH02178396 A JP H02178396A JP 33503088 A JP33503088 A JP 33503088A JP 33503088 A JP33503088 A JP 33503088A JP H02178396 A JPH02178396 A JP H02178396A
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- cleaning solvent
- dimethoxymethane
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
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- C11D7/50—Solvents
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- C11D7/5086—Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being different from alcohols, e.g. mixtures of water and ethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C11D7/28—Organic compounds containing halogen
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント基板のフラツクスやゴミの除去およ
び脱脂などに適した洗浄溶剤に関するものである。
び脱脂などに適した洗浄溶剤に関するものである。
従来、プリント基板の洗浄溶剤としては１，１，２゜ト
リクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（フロン１
１３）、エタノールおよびニトロメタンから成る共沸混
合溶剤（特開昭５０−８０９８３号）、あるいはフロン
１１３、メタノールおよびニトロメタンから成る共沸混
合溶剤（特開昭５１−４４５７５号）が広く使用されて
きた。
リクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（フロン１
１３）、エタノールおよびニトロメタンから成る共沸混
合溶剤（特開昭５０−８０９８３号）、あるいはフロン
１１３、メタノールおよびニトロメタンから成る共沸混
合溶剤（特開昭５１−４４５７５号）が広く使用されて
きた。
しかしながら、上記の３成分系混合溶剤は必ずしも満足
し得る洗浄効果を発揮せず、しばしば白色残渣やイオン
性残渣が生じ、トラブルの原因となることがあった。さ
らに、近年フロン１１３に代る洗浄溶剤が望まれている
。
し得る洗浄効果を発揮せず、しばしば白色残渣やイオン
性残渣が生じ、トラブルの原因となることがあった。さ
らに、近年フロン１１３に代る洗浄溶剤が望まれている
。
本発明の目的は、フロン１１３を使用しないで、フロン
１１３用の洗浄装置がそのまま使用でき、しかも高い洗
浄力を有し、かつ被洗浄物に白色残渣やイオン性残渣を
生じさせない洗浄溶剤を提供することである。
１１３用の洗浄装置がそのまま使用でき、しかも高い洗
浄力を有し、かつ被洗浄物に白色残渣やイオン性残渣を
生じさせない洗浄溶剤を提供することである。
本発明は、１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオ
ロエタンとジメトキシメタンとから成ることを特徴とす
る洗浄溶剤である。
ロエタンとジメトキシメタンとから成ることを特徴とす
る洗浄溶剤である。
本発明の洗浄溶剤において混合するｌ、１−ジクロロ−
２，２，２−トリフルオロエタン（以下、フロン１２３
という）とジメトキシメタンとの混合割合は重量比で５
＝９５〜７０ ： ３０、好ましくは４０ ： ６０〜
６０ ： ４０である。フロン１２３の割合が５重量部
未満では洗浄効果が小さく、一方、７０重量部を越える
場合は液相と気相の組成のずれが大きくなるため、洗浄
溶剤を繰返し使用できなくなるという問題を生じる。
２，２，２−トリフルオロエタン（以下、フロン１２３
という）とジメトキシメタンとの混合割合は重量比で５
＝９５〜７０ ： ３０、好ましくは４０ ： ６０〜
６０ ： ４０である。フロン１２３の割合が５重量部
未満では洗浄効果が小さく、一方、７０重量部を越える
場合は液相と気相の組成のずれが大きくなるため、洗浄
溶剤を繰返し使用できなくなるという問題を生じる。
本発明の洗浄溶剤は、フロン１２３とジメトキシメタン
を前記混合割合で混合することにより製造できるが、必
要により他の溶剤、添加剤等を配合することができる。
を前記混合割合で混合することにより製造できるが、必
要により他の溶剤、添加剤等を配合することができる。
このようにして得られた洗浄溶剤は、一般の洗浄の目的
に使用できるが、特にプリント基板のフラックスやゴミ
の除去あるいは脱脂等に適している。
に使用できるが、特にプリント基板のフラックスやゴミ
の除去あるいは脱脂等に適している。
本発明の洗浄溶剤は最高共沸点が４３．９℃とフロン１
１３の沸点（４７，６°Ｃ）に近いため、従来のフロン
１１３用洗浄装置をそのまま利用することができる。
１３の沸点（４７，６°Ｃ）に近いため、従来のフロン
１１３用洗浄装置をそのまま利用することができる。
したがって１本発明の洗浄溶剤による洗浄方法は、浸漬
法、スプレー法のほか、蒸気洗浄法、あるいはこれらの
組合せなど、従来よりこの種の洗浄溶剤の洗浄方法とし
て採用されている方法が採用でき、この場合加熱、超音
波照射等を行うこともできる。
法、スプレー法のほか、蒸気洗浄法、あるいはこれらの
組合せなど、従来よりこの種の洗浄溶剤の洗浄方法とし
て採用されている方法が採用でき、この場合加熱、超音
波照射等を行うこともできる。
本発明により次のような洗浄溶剤を得ることができる。
■フロン１１３ を使用する必要がない。
■フロン１１３用の洗浄装置がそのまま使用できる。
■高い洗浄力を有し、かつ被洗浄物に白色残渣やイオン
性残渣を生じさせない。
性残渣を生じさせない。
次に、本発明の実施例について説明する。
実施例１
還流器を備えたフラスコに、フロン１２３とジメトキシ
メタンとを５０ ： ５０（重量比）の割合で混合した
混合液２００グラムを入れ、ヒーターにより加熱した。
メタンとを５０ ： ５０（重量比）の割合で混合した
混合液２００グラムを入れ、ヒーターにより加熱した。
約３０分後フラスコ内の液相の温度が安定したところで
、気相および液相の組成を分析した。
、気相および液相の組成を分析した。
さらに、フロン１２３とジメトキシメタンとの混合割合
を、第１図の沸点曲線Ａ上にプロットした点の割合とな
るように変えて上記操作を繰返して気相と液相の組成を
分析し、第１図の気液平衡線図を作成した。第１図にお
いて、Ａは沸点曲線、Ｂは露点曲線を示す。
を、第１図の沸点曲線Ａ上にプロットした点の割合とな
るように変えて上記操作を繰返して気相と液相の組成を
分析し、第１図の気液平衡線図を作成した。第１図にお
いて、Ａは沸点曲線、Ｂは露点曲線を示す。
第１図から、本発明の洗浄溶剤はフロン１２３／ジメト
キシメタンとの混合割合が５０１５０重量％付近で共沸
点を示し、気−液相間の組成のずれがなくなるという好
ましい効果を持ち、さらに、最高共沸組成物となるため
室温付近に沸点があるフロン１２３に比べ、沸点が約１
５℃上昇し、その取扱いが容易になっている。また、フ
ロン１２３の割合が５〜７０重量％の範囲でも、気−液
相間の組成のずれは少なく擬似共沸組成を示しているこ
とがわかる。
キシメタンとの混合割合が５０１５０重量％付近で共沸
点を示し、気−液相間の組成のずれがなくなるという好
ましい効果を持ち、さらに、最高共沸組成物となるため
室温付近に沸点があるフロン１２３に比べ、沸点が約１
５℃上昇し、その取扱いが容易になっている。また、フ
ロン１２３の割合が５〜７０重量％の範囲でも、気−液
相間の組成のずれは少なく擬似共沸組成を示しているこ
とがわかる。
実施例２
１辺６５＋ｎｍの正方形のプリント基板に表１に示すフ
ラックス６０μＱを均一に塗布し、１００℃まで予備加
熱した後、２６０℃のハンダ槽で２フイ一ト／分の速度
でハンダ付けした。
ラックス６０μＱを均一に塗布し、１００℃まで予備加
熱した後、２６０℃のハンダ槽で２フイ一ト／分の速度
でハンダ付けした。
ハンダ付は後のプリント基板を室温で１時間放置した後
、下記の条件で洗浄した。
、下記の条件で洗浄した。
洗浄液：フロン１２３（５０重量部）／ジメトキシメタ
ン（５０重重斌）混合溶剤 洗浄工程：沸騰浸漬（３０秒）→超音波洗浄（６０秒）
→蒸気洗浄（３０秒） 洗浄後のプリント基板上の白色残渣を目視で、またイオ
ン性残渣をオメガメータ（ケンコ社製）で測定した。結
果を表１に示す。
ン（５０重重斌）混合溶剤 洗浄工程：沸騰浸漬（３０秒）→超音波洗浄（６０秒）
→蒸気洗浄（３０秒） 洗浄後のプリント基板上の白色残渣を目視で、またイオ
ン性残渣をオメガメータ（ケンコ社製）で測定した。結
果を表１に示す。
比較例１
フロン１１３（９５，７重板部）／エタノール（３，８
重量部）／ニトロメタン（０，５重量部）の共沸混合溶
剤を用いて実施例２と同様の洗浄テストを行った。結果
を表１に示す。
重量部）／ニトロメタン（０，５重量部）の共沸混合溶
剤を用いて実施例２と同様の洗浄テストを行った。結果
を表１に示す。
表
第１図は実施例１のフロン１２３−ジメトキシメタン系
の気液平衡線図であり、Ａは沸点曲線、Ｂは露点曲線を
示す。 代理人 弁理士 柳 原 成
の気液平衡線図であり、Ａは沸点曲線、Ｂは露点曲線を
示す。 代理人 弁理士 柳 原 成
Claims (2)
- （１）１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエ
タンとジメトキシメタンとから成ることを特徴とする洗
浄溶剤。 - （２）１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエ
タンとジメトキシメタンとの混合割合が重量比で５：９
５〜７０：３０である請求項（１）記載の洗浄溶剤。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33503088A JPH02178396A (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 洗浄溶剤 |
| US07/454,265 US5068051A (en) | 1988-12-29 | 1989-12-21 | Cleaning solvent |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33503088A JPH02178396A (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 洗浄溶剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02178396A true JPH02178396A (ja) | 1990-07-11 |
| JPH0468359B2 JPH0468359B2 (ja) | 1992-11-02 |
Family
ID=18283954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33503088A Granted JPH02178396A (ja) | 1988-12-29 | 1988-12-29 | 洗浄溶剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02178396A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7507355B2 (en) | 2004-11-05 | 2009-03-24 | Adeka Corporation | Solvent composition |
| US7648651B2 (en) | 2005-06-09 | 2010-01-19 | Adeka Corporation | Solvent composition |
-
1988
- 1988-12-29 JP JP33503088A patent/JPH02178396A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7507355B2 (en) | 2004-11-05 | 2009-03-24 | Adeka Corporation | Solvent composition |
| US7648651B2 (en) | 2005-06-09 | 2010-01-19 | Adeka Corporation | Solvent composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0468359B2 (ja) | 1992-11-02 |
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