JPH02229120A - 洗浄溶剤 - Google Patents
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- JPH02229120A JPH02229120A JP5074889A JP5074889A JPH02229120A JP H02229120 A JPH02229120 A JP H02229120A JP 5074889 A JP5074889 A JP 5074889A JP 5074889 A JP5074889 A JP 5074889A JP H02229120 A JPH02229120 A JP H02229120A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント基板のフラックスやゴミの除去およ
び脱脂などに適した洗浄溶剤に関するものである。
び脱脂などに適した洗浄溶剤に関するものである。
従来、プリン１〜基板の洗浄溶剤としては１ 、 ］、
、 ］２トリクロロー１．２．２−トリフルオロエタ
ンフロン１１３）、エタノール、および二１〜ロメタン
から成る共沸混合物溶剤（特開昭５０−８０９８３号）
、あるいはフロン１１３、 メタノールおよび二１−口
メタンから成る共沸混合溶剤（特開昭５１−４４５７５
号）が広く使用されてきた。
、 ］２トリクロロー１．２．２−トリフルオロエタ
ンフロン１１３）、エタノール、および二１〜ロメタン
から成る共沸混合物溶剤（特開昭５０−８０９８３号）
、あるいはフロン１１３、 メタノールおよび二１−口
メタンから成る共沸混合溶剤（特開昭５１−４４５７５
号）が広く使用されてきた。
しかしながら、上記の３成分系混合溶剤は必ずしも満足
し得る洗浄効果を発揮せず、しばしば白色残渣やイオン
性残渣が生じ、１〜ラブルの原因となることがあった。
し得る洗浄効果を発揮せず、しばしば白色残渣やイオン
性残渣が生じ、１〜ラブルの原因となることがあった。
さらに、近年フロン１１３に代る洗浄溶剤が望まれて
いる。
いる。
一方、ジクロロトリフルオロエタン（フロン１２３）と
ジメトキシメタンの共沸混合物の洗浄力は従来のフロン
１１３とエタノールあるいはメタノールとニトロメタン
の３成分溶剤より優れているが、亜鉛のような反応性の
高い金属片に接触すると、溶剤が分解して酸が発生した
り、あるいは金属が腐食する等の問題点があった。
ジメトキシメタンの共沸混合物の洗浄力は従来のフロン
１１３とエタノールあるいはメタノールとニトロメタン
の３成分溶剤より優れているが、亜鉛のような反応性の
高い金属片に接触すると、溶剤が分解して酸が発生した
り、あるいは金属が腐食する等の問題点があった。
本発明の目的は、上記のような問題点を解決するため、
フロン１１３を使用しないで、高い洗浄力および安定
性を有し、被洗浄物に白色残渣やイオン性残渣を生じさ
せず、酸の発生や金属の腐食を防止できる洗浄溶剤を提
供することである。
フロン１１３を使用しないで、高い洗浄力および安定
性を有し、被洗浄物に白色残渣やイオン性残渣を生じさ
せず、酸の発生や金属の腐食を防止できる洗浄溶剤を提
供することである。
本発明は、ジクロロトリフルオロエタンとジメトキシメ
タンとから成る混合溶剤に、ニトロアルカン、２−メチ
ルフラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブタン
から選ばれる１種以上の安定剤を添加することを特徴と
する洗浄溶剤である。
タンとから成る混合溶剤に、ニトロアルカン、２−メチ
ルフラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブタン
から選ばれる１種以上の安定剤を添加することを特徴と
する洗浄溶剤である。
本発明の洗浄溶剤の主成分であるジクロロトリフルオロ
エタンとしては、 １．１−ジクロロ−２，２，２トリ
フルオロエタン、 １，１−ジクロロ−１，２，２−１
ヘリフルオロエタン、 １，２−ジクロロ−１，１，２
−トリフルオロエタンなどがあげられるが、特に１，１
−ジクロロ−２，２，２−１−リフルオロエタンが好ま
しい。
エタンとしては、 １．１−ジクロロ−２，２，２トリ
フルオロエタン、 １，１−ジクロロ−１，２，２−１
ヘリフルオロエタン、 １，２−ジクロロ−１，１，２
−トリフルオロエタンなどがあげられるが、特に１，１
−ジクロロ−２，２，２−１−リフルオロエタンが好ま
しい。
ジクロロトリフルオロエタン（フロン１２３）とジメト
キシメタン（ＣＨ３０−ＣＨ２−ＯＣＩ＋３： ＤＭＭ
）との混合割合は、重量比で５：９５ないし７０ ：
３０の範囲、好ましくは４０ ： ６０ないし６０ ：
４０の範囲である。ジクロロトリフルオロエタンの割
合が５重量部未満になると、洗浄効果が小さくなり好ま
しくなく、また７０重量部を超える場合は、液相と気相
の組成のずれが大きくなるため、混合溶剤を繰返し使用
できなくなる。
キシメタン（ＣＨ３０−ＣＨ２−ＯＣＩ＋３： ＤＭＭ
）との混合割合は、重量比で５：９５ないし７０ ：
３０の範囲、好ましくは４０ ： ６０ないし６０ ：
４０の範囲である。ジクロロトリフルオロエタンの割
合が５重量部未満になると、洗浄効果が小さくなり好ま
しくなく、また７０重量部を超える場合は、液相と気相
の組成のずれが大きくなるため、混合溶剤を繰返し使用
できなくなる。
本発明で使用する安定剤は、ニトロアルカン、２−メチ
ルフラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブタン
から選ばれる１種もしくは複数のものである。これらの
中ではニトロアルカン、２−メチルフラン、プロピレン
オキサイドが好ましい。
ルフラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブタン
から選ばれる１種もしくは複数のものである。これらの
中ではニトロアルカン、２−メチルフラン、プロピレン
オキサイドが好ましい。
ニトロアルカン類としては、ニトロメタン、ニトロエタ
ン、１−二トロプロパンなどが例示できる。
ン、１−二トロプロパンなどが例示できる。
上記安定剤の添加量は、ジクロロトリフルオロエタンと
ジメトキシメタンの混合溶剤に対して０．０１〜５重量
％、好ましくは０．１〜１重量％である。安定剤の添加
量が０．０１重量％未満の場合は安定剤の効果が小さい
ため、洗浄溶剤の安定性が充分ではない。また５重量％
を超えると、洗浄後に被洗浄物に安定剤が残留する心配
がある。
ジメトキシメタンの混合溶剤に対して０．０１〜５重量
％、好ましくは０．１〜１重量％である。安定剤の添加
量が０．０１重量％未満の場合は安定剤の効果が小さい
ため、洗浄溶剤の安定性が充分ではない。また５重量％
を超えると、洗浄後に被洗浄物に安定剤が残留する心配
がある。
本発明の洗浄溶剤は、ジクロロ１〜リフルオロエタンと
ジメトキシメタンを前記混合割合で混合し、これに上記
安定剤を上記添加割合で添加することにより製造できる
。本発明の洗浄溶剤には、必要により他の溶剤、添加剤
等を配合することができる。
ジメトキシメタンを前記混合割合で混合し、これに上記
安定剤を上記添加割合で添加することにより製造できる
。本発明の洗浄溶剤には、必要により他の溶剤、添加剤
等を配合することができる。
このようにして得られた洗浄溶剤は、一般の洗浄の目的
に使用できるが、特にプリント基板のフラックスやゴミ
の除去、あるいは脱脂等に適している。
に使用できるが、特にプリント基板のフラックスやゴミ
の除去、あるいは脱脂等に適している。
本発明の洗浄溶剤による洗浄方法は、浸漬法、スプレー
法のほか、蒸気洗浄法、あるいはこれらの組合せなど、
従来よりこの種の洗浄溶剤の洗浄方法として採用されて
いる方法が採用でき、この場合加熱、超音波照射等を行
うこともできる。
法のほか、蒸気洗浄法、あるいはこれらの組合せなど、
従来よりこの種の洗浄溶剤の洗浄方法として採用されて
いる方法が採用でき、この場合加熱、超音波照射等を行
うこともできる。
本発明により次のような洗浄溶剤を得ることができる。
■フロン１１３を使用する必要がない。
■フロン１１３用の洗浄装置がそのまま使用できる。
■高い洗浄力を有し、かつ被洗浄物に白色残渣やイオン
性残渣を生じさせない。
性残渣を生じさせない。
■高い安定性を有し、亜鉛のような特に反応性の高い金
属に接触しても溶剤が分解せず、酸の発生や金属の腐食
は起らない。
属に接触しても溶剤が分解せず、酸の発生や金属の腐食
は起らない。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について説明する。
実施例１
１．１−シクロロー２．２．２−トリフルオロエタン（
フロン１２３）とジメトキシメタン（ＤＭＭ）の混合割
合が５０１５０（重量比）である混合溶剤９９．５重量
％に、表１に示す安定剤を各々０．５重量％添加して試
験溶液を得た。
フロン１２３）とジメトキシメタン（ＤＭＭ）の混合割
合が５０１５０（重量比）である混合溶剤９９．５重量
％に、表１に示す安定剤を各々０．５重量％添加して試
験溶液を得た。
この試験溶液４ｇを内径１１ｍｍのガラス管に入れ、８
ｍｍ ｗＸ６０ｍｍ ＱＸ １ｍｍ ｔの鉄片、アルミ
ニウム片、および亜鉛片を浸漬して封管した。これを１
００℃で４日間貯蔵した後、ガラス管の先端を切断し、
試験溶液を脱イオン水と混合してよく振盪した後、水利
を分離し、この水相の塩素イオン濃度をイオンクロマト
グラフィーで測定した。結果を表１に示す。
ｍｍ ｗＸ６０ｍｍ ＱＸ １ｍｍ ｔの鉄片、アルミ
ニウム片、および亜鉛片を浸漬して封管した。これを１
００℃で４日間貯蔵した後、ガラス管の先端を切断し、
試験溶液を脱イオン水と混合してよく振盪した後、水利
を分離し、この水相の塩素イオン濃度をイオンクロマト
グラフィーで測定した。結果を表１に示す。
表１
表１から分るように、二１〜ロアルカン類、２−メチル
フラン、プロピレンオキサイ１くおよびエポキシブタン
、特に前王者は安定剤としての効果が大きい。
フラン、プロピレンオキサイ１くおよびエポキシブタン
、特に前王者は安定剤としての効果が大きい。
実施例２
一辺が４５ｍｍ四方のプリント基板に、表２に示す各種
フラックスを各々６０μＱ均一に塗布した。この基板を
いったん１００℃まで予備加熱した後、２６０℃の溶融
ハンダ槽で２ ｆｔ／ｍｉｎの速度でハンダ付した。−
時間室温で静置した後、 フロン１２３／ジメトキシメ
タン／ニトロメタン−５０／４９．５１０．５（重量％
）からなる洗浄溶剤で洗浄した。洗浄工程は沸騰浸漬３
０秒、超音波洗浄６０秒、蒸気洗浄３０秒で行った。洗
浄後、プリント基板上に残った白色残渣を目視で、また
イオン性残渣をオメガメータ（ケンコ社製、商標）で測
定した（実施例２）。
フラックスを各々６０μＱ均一に塗布した。この基板を
いったん１００℃まで予備加熱した後、２６０℃の溶融
ハンダ槽で２ ｆｔ／ｍｉｎの速度でハンダ付した。−
時間室温で静置した後、 フロン１２３／ジメトキシメ
タン／ニトロメタン−５０／４９．５１０．５（重量％
）からなる洗浄溶剤で洗浄した。洗浄工程は沸騰浸漬３
０秒、超音波洗浄６０秒、蒸気洗浄３０秒で行った。洗
浄後、プリント基板上に残った白色残渣を目視で、また
イオン性残渣をオメガメータ（ケンコ社製、商標）で測
定した（実施例２）。
また、 フロン１１３／エタノール／ニトロメタン９５
．７／３．８１０．５ （重量％）からなる洗浄溶剤を
用いて、上記と同様にして白色残渣およびイオン性残渣
を測定したく比較例）。
．７／３．８１０．５ （重量％）からなる洗浄溶剤を
用いて、上記と同様にして白色残渣およびイオン性残渣
を測定したく比較例）。
結果を表２に示す。なお、表中のイオン性残渣の値は、
ＭＩＬ規格値に対する％で示した。
ＭＩＬ規格値に対する％で示した。
白色残渣評価記号二〇良好
△はぼ良好
Ｘ不良
フラックスＡ ： ＲＡ８１５−３５
Ｂ ： Ｒ１，０Ｏ−４０
Ｃ： ＰＯ−Ｆ−３０９）Ｉ
Ｄ ： ５Ａ−５０７
Ｅ ： ＳＡ２００２−Ｍ
（アルファメタル社製、商標）
（アルファメタル社製、商標）
（千住金属（株）製、商標）
（千住金属（株）製、商標）
（ハイグレード社製、商標）
Claims (3)
- （１）ジクロロトリフルオロエタンとジメトキシメタン
とから成る混合溶剤に、ニトロアルカン、２−メチルフ
ラン、プロピレンオキサイドおよびエポキシブタンから
選ばれる１種以上の安定剤を添加することを特徴とする
洗浄溶剤。 - （２）ジクロロトリフルオロエタンとジメトキシメタン
との混合割合が重量比で５：９５ないし７０：３０であ
る請求項（１）記載の洗浄溶剤。 - （３）安定剤の添加量は混合溶剤に対して０．０１ない
し５重量％である請求項（１）または（２）記載の洗浄
溶剤。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5074889A JPH02229120A (ja) | 1989-03-02 | 1989-03-02 | 洗浄溶剤 |
| US07/454,265 US5068051A (en) | 1988-12-29 | 1989-12-21 | Cleaning solvent |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5074889A JPH02229120A (ja) | 1989-03-02 | 1989-03-02 | 洗浄溶剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02229120A true JPH02229120A (ja) | 1990-09-11 |
Family
ID=12867457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5074889A Pending JPH02229120A (ja) | 1988-12-29 | 1989-03-02 | 洗浄溶剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02229120A (ja) |
-
1989
- 1989-03-02 JP JP5074889A patent/JPH02229120A/ja active Pending
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