JPH02159096A - Manufacture of aln multilayer substrate - Google Patents

Manufacture of aln multilayer substrate

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JPH02159096A JP31414588A JP31414588A JPH02159096A JP H02159096 A JPH02159096 A JP H02159096A JP 31414588 A JP31414588 A JP 31414588A JP 31414588 A JP31414588 A JP 31414588A JP H02159096 A JPH02159096 A JP H02159096A
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Abstract

PURPOSE:To eliminate distortion and to prevent development of insulating layer due to removal and carbonization of a surface metallized layer by sealing a conductor inside an aluminum nitride(AlN) green sheet and by burning it. CONSTITUTION:A conductor is sealed inside an aluminum nitride(AlN) green sheet and burnt. As for a sealing method, a green sheet which is provided with a conductor pattern or a conductor via, and a pure green sheet which covers an exposed area of the conductor are laminated. Since a conductor (W via 3, or W pattern 5) is shielded from furnace atmosphere, a surface state of a substrate after sintered is good and a conductor does not carbonized. Furthermore, since the conductor is sintered wrapped in an AlN green sheet, a difference of shrinkage rate is reduced, thereby resulting in reduction of warp of a substrate.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は窒化アルミニウム(^IN)基板の製造方法、
特にタングステン(11)等の導電体を内層、あるいは
表面層に形成した^IN基板の焼成方法に関し。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention provides a method for manufacturing an aluminum nitride (^IN) substrate;
In particular, it concerns a method of firing an IN substrate in which a conductor such as tungsten (11) is formed in the inner layer or surface layer.

基板焼成時に、 AIN基板の歪がなく表面メタライズ
層の剥離及び炭化の生じないAIN基板を得ることを目
的とし。
The objective is to obtain an AIN substrate that is free from distortion and no peeling or carbonization of the surface metallized layer during substrate firing.

導電体を窒化アルミニウム(AIN)グリーンシート内
に密封して焼成するように構成する。又、密封方法とし
て、導電体パターン或いは導電体バイアを形成したグリ
ーンシートと、前記導電体の露出部を覆う無垢のグリー
ンシートとで積層するように構成する。
The conductor is configured to be sealed within an aluminum nitride (AIN) green sheet and fired. Further, as a sealing method, a green sheet having a conductor pattern or a conductor via formed thereon and a solid green sheet covering the exposed portion of the conductor are laminated.

(産業上の利用分野) 本発明はAIN基板の製造方法、特に−等の導電体を内
層したAIN基板の焼成方法に関する。
(Industrial Application Field) The present invention relates to a method for manufacturing an AIN substrate, and particularly to a method for firing an AIN substrate having an inner layer of a conductor such as -.

近年、コンピュータシステムの高速化に伴い。In recent years, as computer systems have become faster.

インタボーザ(Interposer、層間接続用のバ
イア等)や多層セラミック基板が要求されている。
Interposers (interposers, vias for interlayer connections, etc.) and multilayer ceramic substrates are required.

熱伝導率が高く、熱膨張係数がシリコンに近いAINは
インタボーザや多層セラミック基板の材料として使用す
るため、導電体との一体焼成が必要となる。 AINと
一体焼成する導電体としては−やモリブデン(Mo)等
があるが、 AINは他のセラミックに比し焼成温度が
高いため、焼成の際にAINとの収縮率の差によりAI
N基板に反りやうねりを生ずる原因となる。
AIN, which has high thermal conductivity and a coefficient of thermal expansion close to that of silicon, is used as a material for interposers and multilayer ceramic substrates, so it must be fired together with a conductor. Examples of conductive materials that can be fired together with AIN include - and molybdenum (Mo), but since AIN has a higher firing temperature than other ceramics, the difference in shrinkage rate with AIN during firing causes the difference between AI and AIN.
This causes warping and waviness in the N substrate.

このため、導電体との一体焼成で反りのないAIN基板
が要求されている。
For this reason, there is a demand for an AIN substrate that can be integrally fired with a conductor without warping.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図(1)〜(3)は従来例によるAIN基板の焼成
を説明する模式断面図である。
FIGS. 2(1) to 2(3) are schematic cross-sectional views illustrating the firing of an AIN substrate according to a conventional example.

従来のAIN基板の焼成方法としては、 AINグリー
ンシート2を貫通するーバイア3を有する複数のシート
(第2図(1))、或いはAINグリーンシート4の表
面に印刷したーパターン5を有する複数のシート(第2
図(2))をプレスにより積層して試料7とし、これを
窒素中で脱脂した後1グラフアイト容器6内の窒化硼素
(BN)製のセンタ8上で焼成を行っている(第2図(
3))。
Conventional AIN substrate firing methods include multiple sheets having vias 3 passing through the AIN green sheet 2 (see FIG. 2 (1)), or multiple sheets having a pattern 5 printed on the surface of the AIN green sheet 4. (Second
(Fig. 2)) were laminated using a press to form a sample 7, which was degreased in nitrogen and then fired on a center 8 made of boron nitride (BN) in a graphite container 6 (Fig. 2). (
3)).

しかしこの方法では、−の焼成収縮の開始温度がAIN
より低く、又、 AIN基板表面より焼結の際にグリー
ンシートの助剤が飛散するため、^IN基板の歪や印刷
されたーパターンの剥離の原因となる。
However, in this method, the starting temperature of - firing shrinkage is AIN
In addition, the additive of the green sheet scatters from the surface of the AIN substrate during sintering, causing distortion of the AIN substrate and peeling of the printed pattern.

又、焼成炉のヒータにカーボンが使用されるため、炉内
雰囲気にカーボンが混入される。そのため導体の表面層
は炭化し、絶縁層が形成されてしまう。
Furthermore, since carbon is used in the heater of the firing furnace, carbon is mixed into the atmosphere inside the furnace. Therefore, the surface layer of the conductor is carbonized and an insulating layer is formed.

〔発明が解決しようとする課題] 従って、^IN基板上に同時焼成で、即ち基板焼成と同
時に表面メタライズ層或いはバイアを形成することは困
難であった。
[Problems to be Solved by the Invention] Therefore, it has been difficult to form a surface metallized layer or vias on an IN substrate by simultaneous firing, that is, at the same time as the substrate is fired.

本発明は同時焼成で、 AIN基板の歪がなく表面メタ
ライズ層の剥離及び炭化による絶縁層の生じないような
AIN基板の製造方法を得ることを目的とする。
An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an AIN substrate by simultaneous firing, which does not cause distortion of the AIN substrate, and does not cause peeling of the surface metallized layer or formation of an insulating layer due to carbonization.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記課題の解決は、導電体を窒化アルミニウム(AIN
)グリーンシート内に密封して焼成することを特徴とす
るAIN多層基板の製造方法、或いは該密封方法として
、導電体パターン或いは導電体バイアを形成したグリー
ンシートと、前記導電体の露出部を覆う無垢のグリーン
シートとで積層することを特徴とするAIN多層基板の
製造方法により達成される。
The solution to the above problem was to replace the conductor with aluminum nitride (AIN).
) A method for manufacturing an AIN multilayer board, characterized by sealing it in a green sheet and firing it, or as the sealing method, a green sheet with a conductor pattern or conductor via formed thereon, and covering the exposed portion of the conductor. This is achieved by a method for manufacturing an AIN multilayer board, which is characterized in that it is laminated with solid green sheets.

この場合、導電体パターン或いはバイアを形成したAI
N積層体の導体露出部を無垢のグリーンシートで無加圧
で覆うことで十分な効果がある。
In this case, the AI with conductor patterns or vias formed
A sufficient effect can be obtained by covering the exposed conductor part of the N laminate with a solid green sheet without applying pressure.

〔作用〕[Effect]

第1図(1)、 (2)は本発明によるAIN基板の焼
成の原理を説明する模式断面図である。
FIGS. 1(1) and 1(2) are schematic cross-sectional views illustrating the principle of firing an AIN substrate according to the present invention.

第1図(1)は−バイア3を形成したAINグリーンシ
ート2の積層体と、上下の無垢のAINグリーンシート
1とを同時に積層したものである。
FIG. 1(1) shows a stack of AIN green sheets 2 with vias 3 formed thereon and upper and lower solid AIN green sheets 1 simultaneously stacked.

第1図(2)は表面に−パターン5を印刷したAINグ
リーンシート4の積層体と、その上に無垢のAjNグリ
ーンシート1とを同時に積層したものである。
FIG. 1(2) shows a laminate of AIN green sheets 4 having a - pattern 5 printed on their surfaces, and a solid AJN green sheet 1 laminated thereon at the same time.

次に、第2図(3)において、第1図(1)、或いは第
1図(2)で作製した積層体を試料7として、これを窒
素中で脱脂した後、グラファイト容器6内のBN製のセ
ンタ8上で焼成を行っている。
Next, in FIG. 2 (3), the laminate produced in FIG. 1 (1) or FIG. 1 (2) is used as sample 7, and after degreasing it in nitrogen, the BN Firing is performed on a center 8 made of

以上のように焼成した焼結体は、内層された導電体を外
部に接続する場合等必要な場合は研磨により導電体を露
出させることができる。
The sintered body fired as described above can be polished to expose the conductor if necessary, such as when connecting the inner conductor to the outside.

本発明は、第1図(1)、或いは(2)のように無垢の
AINグリーンシートlで導電体(−バイア3.或いは
御パターン5)を炉内雰囲気より遮断するため、焼結後
基板の表面状態が良く、導電体は炭化しないこと、又、
導電体はAINグリーンシートで包まれている状態で焼
結されるため収縮率の差は減少し、基板の反りは低減で
きることを利用したものである。
In the present invention, as shown in FIG. 1 (1) or (2), the conductor (-via 3. or control pattern 5) is isolated from the furnace atmosphere using a solid AIN green sheet l, so that the substrate is not removed after sintering. The surface condition of the conductor is good and the conductor is not carbonized, and
This method takes advantage of the fact that since the conductor is sintered while being wrapped in the AIN green sheet, the difference in shrinkage rate is reduced and the warpage of the substrate can be reduced.

本発明は特に、焼結温度の高いAIN基板の焼成に有効
である。
The present invention is particularly effective for firing AIN substrates at high sintering temperatures.

〔実施例〕〔Example〕

比較例及び実施例を第、1図を用いて説明する。 A comparative example and an example will be explained using FIG. 1.

まず、実施例と同条件で比較例を作製する。First, a comparative example is produced under the same conditions as the example.

比較例: 表1に示す組成のスラリー(Slurry、泥漿)を作
製し、ドクタブレード法を用いて成型ギャップ450μ
m、送り速度2.3 m/+inで成型を行い、グリー
ンシートを作製した。
Comparative example: A slurry having the composition shown in Table 1 was prepared, and a molding gap of 450μ was formed using the doctor blade method.
A green sheet was produced by molding at a feed rate of 2.3 m/+in.

表1 スラリーの組成(重量部) セラミック AIN  100 、 CaC0+  5
゜バインダ  PVB      10 可塑剤   DBP     10 分散媒   エタノール 50 ここで、 PVB (Polyvinyl Butyr
al)はエスレックBシリーズ(BL−1)、積木化学
製を用いた。
Table 1 Slurry composition (parts by weight) Ceramic AIN 100, CaC0+ 5
゜Binder PVB 10 Plasticizer DBP 10 Dispersion medium Ethanol 50 Here, PVB (Polyvinyl Butyr
al) used S-LEC B series (BL-1) manufactured by Building Block Chemical.

又、 DBP (Di−n−butyI Phtala
te、フタル酸−ローブチル)は和光純薬製の試薬特級
を用いた。
Also, DBP (Di-n-butyI Phtala
te, phthalate-lobetyl) used was a special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries.

このグリーンシートを10層重ねて積層(積層条件:加
熱温度50°C1積層圧45MPaで20分間加圧)し
、これにドリルで0.2 msφのスルーホールを20
 aua角内に900個形成し、市販の一ペーストを充
填したものを第2図(1)に相当するバイア形成用の試
料とした。 又、グリーンシートに市販の一ペーストで
幅300μm、長さ7011IIlのパターンを形成し
たものを同様の積層条件で10層重ねて第2図(2)に
相当する多層基板用の試料とした。
These green sheets were stacked in 10 layers (lamination conditions: heating temperature 50°C, lamination pressure 45 MPa for 20 minutes), and 20 through holes of 0.2 msφ were drilled into this.
A sample for forming vias corresponding to FIG. 2 (1) was prepared by forming 900 pieces in the au corner and filling them with a commercially available paste. Further, a pattern of 300 μm in width and 7011 IIl in length was formed on a green sheet using a commercially available paste, and 10 layers were stacked under the same lamination conditions to prepare a sample for a multilayer board corresponding to FIG. 2 (2).

上記の積層されたバイア形成用のグリーンシート及び多
層基板用のグリーンシートを窒素中600°Cで脱脂を
行い、各試料を第2図(3)に示されるグラファイト容
器6内のBN製の七ツタ8上にセットシ、窒素中1気圧
のガスフローの下で焼成温度1700〜1900°Cの
範囲で保持時間3hの焼成を行った。
The laminated green sheets for forming vias and green sheets for multilayer substrates were degreased at 600°C in nitrogen, and each sample was placed in a BN glass container 6 in a graphite container 6 as shown in FIG. 2 (3). It was set on the ivy 8 and fired under a gas flow of 1 atm in nitrogen at a firing temperature in the range of 1700 to 1900°C for a holding time of 3 hours.

表2 比較例の結果 焼成温度   バイア   多層基板 (”C)     (反り)  (反り)(剥離)(炭
化)1700     有り   有り 無し 無し1
750     有り   有り 無し 無し1800
      有り    有り 有り 有り1850 
     有り    有り 有り 有り1900  
    有り    有り 有り 有りバイア形成用の
試料は焼成温度にかかわらず大きな反りが見られた。
Table 2 Comparative Example Results Firing Temperature Via Multilayer Board (''C) (Warp) (Warp) (Peeling) (Carbonization) 1700 Yes Yes No No 1
750 Yes Yes No No 1800
Yes Yes Yes Yes 1850
Yes Yes Yes Yes1900
Yes Yes Yes Yes Large warpage was observed in the sample for via formation regardless of the firing temperature.

又、多層基板用試料は、基板の表面が粗く、基板に反り
を生じていた。又1表面の一パターンはめくれあがり 
(表中剥離と表示)、炭化して黒色に変色し絶縁層が形
成されていた。
In addition, the surface of the multilayer substrate sample was rough, and the substrate was warped. Also, one pattern on the surface is turned up.
(Indicated as peeling in the table), carbonized and turned black, and an insulating layer was formed.

実施例1(第1図(1)参照): 上記比較例のバイア用グリーンシート2を10層と、そ
の上下に無垢のグリーンシート1とを積層し、窒素中6
00°Cで脱脂を行い、各試料を第2図(3)に示され
るグラファイト容器6内のBN製のセンタ8上にセット
し、窒素中1気圧のガスフローで焼成温度1700〜1
900°Cの範囲で保持時間3hの焼成を行った。
Example 1 (see Figure 1 (1)): 10 layers of via green sheets 2 of the above comparative example and solid green sheets 1 were stacked above and below the layers,
After degreasing at 00°C, each sample was set on the BN center 8 in the graphite container 6 shown in FIG.
Firing was performed at 900°C for a holding time of 3 hours.

なお、上記の積層は以下のように行った。Note that the above lamination was performed as follows.

前記の積層条件で10層重ねて積層した後3スルーホー
ルを開け、ここに−ペーストを充填し。
After laminating 10 layers under the above lamination conditions, 3 through holes were opened and filled with paste.

乾燥したグリーンシート積層体の上下に無垢のグリーン
シートを無加圧で覆う積層を行った。
Solid green sheets were laminated on the top and bottom of the dried green sheet laminate without applying any pressure.

実施例2(第1図(2)参照): 上記比較例の多層基板用グリーンシート4を10層と、
その上に無垢のグリーンシートlとを実施例1と同様の
条件で積層し、窒素中600’Cで脱脂を行い、各試料
を第2図(3)に示されるグラファイト容器6内のBN
製のセンタ8上にセットし、窒素中1気圧のガスフロー
で焼成温度1700〜1900″Cの範囲で保持時間3
hの焼成を行った。
Example 2 (see FIG. 1 (2)): 10 layers of the multilayer board green sheet 4 of the above comparative example,
A solid green sheet L was laminated thereon under the same conditions as in Example 1, degreased at 600'C in nitrogen, and each sample was placed in a graphite container 6 shown in FIG.
Set it on the center 8 of the manufacturer, and hold it for 3 at a firing temperature in the range of 1700 to 1900"C with a gas flow of 1 atm in nitrogen.
Firing was performed in h.

実施例の焼成の結果を表3に示す。Table 3 shows the firing results of Examples.

表3 実施例の結果 焼成温度   バイア   多層基板 (’C)     (反り)  (反り)(剥離)(炭
化)1700     無し   無し 無し 無し1
750     無し   無し 無し 無し1800
     無し   無し 無し 無し1850   
  無し   無し 無し 無し1900     無
し   無し 無し 有り表3より1次のことがわかる
Table 3 Results of Examples Firing Temperature Via Multilayer Board ('C) (Warp) (Warp) (Peeling) (Carbonization) 1700 None None None None 1
750 None None None 1800
None None None 1850
None None None None 1900 None None None Yes Table 3 shows the following.

実施例1の場合(バイア)は、焼成温度1700〜19
00°Cの範囲で基板の反りは見られなかった。
In the case of Example 1 (via), the firing temperature was 1700-19
No warpage of the substrate was observed in the temperature range of 00°C.

実施例2の場合(多層基板)は、焼成温度1900°C
の場合のみ炭化を生じ、 1700〜1850°Cの範
囲で焼成した基板にはこのような変化は見られなかった
In the case of Example 2 (multilayer substrate), the firing temperature was 1900°C.
Carbonization occurred only in the case of 1,700°C to 1,850°C, and no such change was observed in the substrates fired in the range of 1,700 to 1,850°C.

実施例で作製された焼結体は、必要ならば研磨により導
体を露出させることができる。
The conductor of the sintered body produced in the example can be exposed by polishing, if necessary.

試料7上に重しとして七ツタを置いて焼成してもよい。It is also possible to place seven ivy vines on top of the sample 7 as a weight for firing.

また、必要ならば、バイア形成用のグリーンシト多層基
板用グリーンシートの上下の無垢のグリーンシートを同
時に加圧積層してもよい。
Furthermore, if necessary, the solid green sheets above and below the green sheets for forming vias for multilayer substrates may be simultaneously laminated under pressure.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、基板の反りやイン
ターポーザ或いは配線パターンの剥離や炭化が防止でき
、インターポーザ或いは多層セラミック基板の信鯨性と
歩留の向上に寄与することができる。
As explained above, according to the present invention, it is possible to prevent warping of the substrate, peeling and carbonization of the interposer or wiring pattern, and contribute to improving reliability and yield of the interposer or multilayer ceramic substrate.

更に、スルーホールに底が形成されるため導体ペースト
の充填が容易になり、又、スルーホールに蓋がされるた
めペースト粘度の変化により生じるバイアの滲みが改善
される。
Furthermore, since a bottom is formed in the through hole, filling with the conductive paste is facilitated, and since the through hole is covered, bleeding of the via caused by changes in paste viscosity is improved.

又、 AIN基板を無垢のグリーンシートで密封するこ
とにより、焼成の際の基板周囲の雰囲気を均一にし、基
板表面の焼成条件を均一化する効果がある。
Furthermore, by sealing the AIN substrate with a solid green sheet, the atmosphere around the substrate during firing can be made uniform, and the firing conditions on the substrate surface can be made uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(1)、 (2)は本発明による^IN基板の焼
成の原理を説明する模式断面図。 第2図(1)〜(3)は従来例によるAIN基板の焼成
を説明する模式断面図である。 図において。 lは無垢のAINグリーンシート。 2は−バイアを形成した AINグリーンシート。 3は−バイア。 4は讐パターンを印刷した AIN グリーンシート。 はHパターン。 はグラファイト容器。 は試料。 はBN製のセンタ (11バイア形成 第1図
FIGS. 1(1) and 1(2) are schematic cross-sectional views illustrating the principle of firing the ^IN substrate according to the present invention. FIGS. 2(1) to 2(3) are schematic cross-sectional views illustrating the firing of an AIN substrate according to a conventional example. In fig. l is solid AIN green sheet. 2 - AIN green sheet with vias formed. 3 is - Bahia. 4 is an AIN green sheet with an enemy pattern printed on it. is H pattern. is a graphite container. is a sample. The center is made of BN (11 vias formed in Fig. 1).

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)導電体を窒化アルミニウム(AIN)グリーンシ
ート内に密封して焼成することを特徴とするAIN多層
基板の製造方法。
(1) A method for manufacturing an AIN multilayer board, which comprises sealing a conductor within an aluminum nitride (AIN) green sheet and firing it.
(2)請求項1記載の密封方法として,導電体パターン
或いは導電体バイアを形成したグリーンシートと,前記
導電体の露出部を覆う無垢のグリーンシートとで積層す
ることを特徴とするAIN多層基板の製造方法。
(2) As the sealing method according to claim 1, the AIN multilayer board is characterized in that a green sheet on which a conductor pattern or conductor vias are formed and a solid green sheet covering the exposed portion of the conductor are laminated. manufacturing method.
JP31414588A 1988-12-13 1988-12-13 Manufacturing method of AlN multilayer substrate Expired - Lifetime JP2629325B2 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0587382A2 (en) * 1992-09-05 1994-03-16 Shinko Electric Industries Co. Ltd. Aluminum nitride circuit board and method of producing it

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