JP2727652B2 - Method for firing aluminum nitride substrate - Google Patents

Method for firing aluminum nitride substrate

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JP2727652B2
JP2727652B2 JP1122456A JP12245689A JP2727652B2 JP 2727652 B2 JP2727652 B2 JP 2727652B2 JP 1122456 A JP1122456 A JP 1122456A JP 12245689 A JP12245689 A JP 12245689A JP 2727652 B2 JP2727652 B2 JP 2727652B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 窒化アルミニウム基板の焼成方法に関し、 量産に適した焼成方法を提供することを目的とし、 窒化アルミニウム粉末を主構成材とし、該粉末にバイ
ンダ,可塑剤および分散剤を加え、混練した材料を用い
てグリンシートを作り、該グリンシートを乾燥した後、
該グリンシートの周辺にタングステン線またはモリブデ
ン線を置くか、或いは該グリンシートと同時焼成が可能
なペーストを印刷してスペーサとし、脱脂処理を行った
後、焼成容器中に積層するか或いは焼成容器中に縦に並
べてセットし、両側に窒化硼素からなる矯正用基板を挟
着した後、焼成容器と該矯正用基板との間に基板固定用
変形体を挿入し、非酸化性雰囲気中で焼成することによ
り窒化アルミニウム基板の焼成方法を構成する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary] Regarding a method for firing an aluminum nitride substrate, an object of the present invention is to provide a firing method suitable for mass production. Aluminum nitride powder is used as a main constituent material, and a binder, a plasticizer, and a dispersion agent are dispersed in the powder. Add the agent, make a green sheet using the kneaded material, after drying the green sheet,
After placing a tungsten wire or a molybdenum wire around the green sheet, or printing a paste that can be fired simultaneously with the green sheet to form a spacer, performing a degreasing treatment, and then laminating in a firing vessel or firing vessel After vertically setting the substrates, sandwiching the correcting substrate made of boron nitride on both sides, insert the substrate fixing deformed body between the firing container and the correcting substrate, and fire in a non-oxidizing atmosphere. Thus, a method for firing the aluminum nitride substrate is formed.

〔産業上の利用分野〕[Industrial applications]

本発明は量産に適した窒化アルミニウム(以下略して
AlN)基板の製造方法に関する。
The present invention relates to aluminum nitride (hereinafter abbreviated) suitable for mass production.
AlN) substrate manufacturing method.

大量の情報を高速に処理する必要から情報処理装置は
小型大容量化が行われており、この装置の主体を占める
半導体集積回路は集積度が向上してLSIやVLSIが実用化
されている。
Due to the necessity of processing a large amount of information at high speed, information processing apparatuses have been downsized and increased in capacity, and semiconductor integrated circuits occupying the main components of the information processing apparatuses have been improved in integration degree and LSIs and VLSIs have been put to practical use.

そして、これらの集積回路はチップの形で複数個をセ
ラミックからなるチップ搭載用基板(インターポーザ)
に搭載してLSIモジュールを作り、これを取替え単位と
して印刷配線基板などに装着する実装形体がとられつゝ
ある。
These integrated circuits are mounted in a chip form on a chip mounting substrate (interposer) made of ceramic.
There is a mounting type in which an LSI module is mounted on a printed circuit board and mounted on a printed wiring board or the like as a replacement unit.

このように半導体集積回路の集積度が増し、また高密
度実装が行われるに従って装置の発熱量も加速度的に増
加している。
As described above, the degree of integration of a semiconductor integrated circuit increases, and the amount of heat generated by the device increases at an accelerated pace as high-density mounting is performed.

すなわち、当初はIC一個当たりの発熱量は約3.5W程度
と少なかったが、現在LSI一個当たりの発熱量は約10Wに
増加しており、これがマトリックス状に多数個装着され
ている場合は発熱量は膨大であり、この発熱量は更に増
加する傾向にある。
In other words, the calorific value per IC was small at about 3.5 W at the beginning, but the calorific value per LSI has now increased to about 10 W, and when a large number of ICs are mounted in a matrix, Is enormous, and the calorific value tends to further increase.

従来、LSIチップなどを搭載する基板としては熱伝導
度が高く、耐熱性が優れた材料であるアルミナ(α−Al
2O3)基板が使用されてきた。
Conventionally, alumina (α-Al), which is a material with high thermal conductivity and excellent heat resistance, has
2 O 3 ) Substrates have been used.

然し、アルミナの熱伝導度は優れていると云うものゝ
20W/mK程度であり、上記のチップ搭載用基板用材料とし
ては不充分である。
However, the thermal conductivity of alumina is excellent.
It is about 20 W / mK, which is insufficient as a material for the substrate for mounting a chip.

そこで、熱伝導度が320W/mK(理論値)と大きなAlNが
着目され、この基板の実用化が進められている。
Therefore, attention has been paid to AlN having a thermal conductivity as large as 320 W / mK (theoretical value), and the practical use of this substrate has been promoted.

第1表はAlNとAl2O3との特性を比較したものである。Table 1 compares the properties of AlN and Al 2 O 3 .

すなわち、熱伝導度が優れている以外に熱膨張係数が
小さく、Siチップを構成するSiの熱膨張係数(3.6×10
-6/℃)に近く、また誘電率が少ないことは多層基板を
形成する際に漏話(Cross−talk)を少なくできる点か
ら有利である。
That is, in addition to having excellent thermal conductivity, the coefficient of thermal expansion is small, and the coefficient of thermal expansion of Si constituting the Si chip (3.6 × 10
−6 / ° C.) and a low dielectric constant are advantageous in that cross-talk can be reduced when forming a multilayer substrate.

然し、AlNは昇華性で、分解温度は2200℃であるが、2
000℃付近から分解が始まると云う問題がある。
However, AlN is sublimable and its decomposition temperature is 2200 ° C.
There is a problem that decomposition starts around 000 ° C.

そのために、AlN基板の製造には特殊の技術が必要で
ある。
Therefore, a special technique is required for the production of an AlN substrate.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

AlN基板を製造するにはアルミナ基板のようにAlNを主
構成分とするスラリーを形成し、これをドクタブレード
法によりグリンシートを作り、乾燥して分散媒を除去し
た後、非酸化性雰囲気中で加熱してバインダを分解して
除去し、AlNからなるシートを形成する。
To manufacture an AlN substrate, a slurry containing AlN as a main component is formed like an alumina substrate, and a green sheet is formed from the slurry by a doctor blade method. To decompose and remove the binder to form a sheet made of AlN.

次に、このシートを非酸化性雰囲気中で1800℃程度の
高温で加熱し、焼結助剤による液相焼結を行わしめるこ
とによりAlN基板が作られている。
Next, this sheet is heated at a high temperature of about 1800 ° C. in a non-oxidizing atmosphere, and liquid phase sintering is performed with a sintering aid, whereby an AlN substrate is produced.

第2表はAlNスラリーの代表的な構成を示すものであ
る。
Table 2 shows a typical configuration of the AlN slurry.

表でPVBはポリビニルブチラールの略称、 DBPはジプチルフタレートの略称、 そして、具体的な処理方法はしてはドクターブレード
法により400μm程度の厚さに形成したグリンシートを
室温で乾燥させて分散媒(溶剤)を除去した後、非酸化
性雰囲気例えば窒素(N2)気流中で900℃程度の温度で
加熱してバインダの除去を行い、かゝるシートについて
高温焼成が行われている。
In the table, PVB is an abbreviation for polyvinyl butyral, DBP is an abbreviation for diptyl phthalate, and a specific treatment method is that a green sheet formed to a thickness of about 400 μm by the doctor blade method is dried at room temperature and dispersed in a dispersion medium. After removing the (solvent), the binder is removed by heating at a temperature of about 900 ° C. in a non-oxidizing atmosphere, for example, a nitrogen (N 2 ) stream, and the sheet is fired at a high temperature.

こゝで、従来の焼成法は窒化硼素(BN)からなるセッ
ターの上にバインダ抜きの終わったシートを置き、この
上にBNセンターを置き、これをグラファイト容器あるい
はBN容器の中に置いて焼成する方法が使用されている。
Here, in the conventional firing method, a sheet without binder is placed on a setter made of boron nitride (BN), a BN center is placed on it, and this is placed in a graphite container or BN container and fired. The way you are used.

然し、この方法では一枚のBNセッターについて一枚の
シートしか焼成できず、量産に適していない。
However, in this method, only one sheet can be fired per one BN setter, which is not suitable for mass production.

そこで、量産化のために、第4図に示すように複数個
(この例の場合は9枚)のAlNシート1をBNセッター2
の上に積層し、この上に既に高温焼成の済んだAlN基板
3を置き、これをBN或いはグラファイトからなる焼成容
器4の中にセットして焼成する。
Therefore, for mass production, as shown in FIG. 4, a plurality of (in this case, nine) AlN sheets 1 are
The AlN substrate 3 which has already been fired at a high temperature is placed thereon, and this is set in a firing vessel 4 made of BN or graphite, and fired.

然し、1800℃程度の高温焼成を行うとAlNシート1同
士、特に底部のAlNシート1は当然のことながら融着し
てしまい、分離できなくなる。
However, when firing at a high temperature of about 1800 ° C., the AlN sheets 1, especially the bottom AlN sheet 1, are naturally fused and cannot be separated.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

AlN基板の量産化を行うためにはバインダ分解処理の
終わったシートを積み重ねて焼成する必要があるが、そ
のためにはAlNシート相互の融着を防止する必要があ
り、その方法を実用化することが課題である。
In order to mass-produce AlN substrates, it is necessary to stack and fire the sheets that have undergone the binder decomposition process.To do so, it is necessary to prevent fusion of the AlN sheets to each other, and the method must be put to practical use. Is the challenge.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記の課題はAlN粉末を主構成材とし、この粉末にバ
インダ,可塑剤および溶剤を加え、混練した材料を用い
てグリンシートを作り、このグリンシートを乾燥した
後、グリンシートの周辺にタングステン線またはモリブ
デン線を置くか、或いはAlNグリンシートと同時焼成が
可能なペーストを印刷してスペーサとし、脱脂処理を行
った後、焼成容器中に積層するか或いは焼成容器中に縦
に並べてセットし、両側にBNからなる矯正用基板を挟着
した後、焼成容器と矯正用基板との間に基板固定用変形
体を挿入し、非酸化性雰囲気中で焼成することによりAl
N基板の焼成方法を構成することにより達成することが
できる。
The above-mentioned problem is that AlN powder is used as a main constituent material, a binder, a plasticizer and a solvent are added to this powder, and a green sheet is made using the kneaded material. After drying the green sheet, a tungsten wire is formed around the green sheet. Or put a molybdenum wire, or print a paste that can be co-fired with the AlN green sheet to make a spacer, and after performing degreasing treatment, stack in a firing container or set vertically in a firing container, After sandwiching the straightening substrate made of BN on both sides, insert a substrate fixing deformed body between the firing container and the straightening substrate, and fire in a non-oxidizing atmosphere to obtain Al.
This can be achieved by configuring a method for firing the N substrate.

〔作用〕[Action]

本発明はバインダ分解処理の終わったAlNシートを相
互融着を生じることなく焼成する方法として、タングス
テン(W)線かモリブデン(Mo)線或いはWやMoを主構
成分とする厚膜ペーストをスクリーン印刷して作られる
枠状パターンをスペーサとして用いるものである。
The present invention relates to a method of firing an AlN sheet having undergone binder decomposition treatment without causing mutual fusion, by using a tungsten (W) wire, a molybdenum (Mo) wire, or a thick film paste containing W or Mo as a main component. A frame pattern formed by printing is used as a spacer.

AlNシートを高温焼成して得た基板はその焼成条件が
例えば1800℃,30時間と高温でしかも長時間が必要であ
り、また焼成炉の温度分布を焼成中を通じて均一に保持
することが難しいことから、基板の周辺に変形(ダレ)
を生じ、商品化のためには周辺部を切断する必要があ
る。
Substrates obtained by sintering AlN sheets at high temperatures require high sintering conditions of, for example, 1800 ° C., 30 hours, and a long time, and it is difficult to maintain the temperature distribution of the sintering furnace uniformly throughout sintering. From, deformation around the substrate (sag)
And it is necessary to cut off the peripheral part for commercialization.

発明者等はこの点に着目し、切断予定領域にセパレー
タを置き、焼成終了後にこの部分をダイヤモンドカッタ
ーまたは超音波カッターを使用して除去することを考え
た。
The present inventors have paid attention to this point, and have considered placing a separator in an area to be cut, and removing this portion using a diamond cutter or an ultrasonic cutter after firing.

このようにセパレータを介してAlNシートを積層すれ
ば、シート間に空隙が存在するために相互融着が起こる
のを避けることができる。
When the AlN sheets are stacked with the separator interposed therebetween, it is possible to prevent mutual fusion from occurring due to the presence of a gap between the sheets.

次の問題は、AlNシートの高温焼成中に生ずる変形で
ある。
The next problem is the deformation that occurs during high temperature firing of the AlN sheet.

これについて、発明者等は実験の結果、多少の変形は
生ずるものゝ、相互融着が生ずるほどの変形は起きない
ことを確認した。
As a result of the experiment, the inventors have confirmed that although some deformation occurs, the deformation does not occur to the extent that mutual fusion occurs.

すなわち、約900℃,数時間の処理によってバインダ
抜きの終わったシートはAlNの粉体のみからなってお
り、他の材料は存在しない。
That is, the sheet from which binder has been removed by treatment at about 900 ° C. for several hours is made of only AlN powder, and there is no other material.

そのため、1800℃の温度で焼成し焼結助剤による液相
焼結により焼結させるに当たっては、多少の変形は避け
られないが、分離して積層してあるシート相互が融着す
る程の変形が生ずることはない。
Therefore, when sintering at a temperature of 1800 ° C and sintering by liquid phase sintering with a sintering aid, some deformation is unavoidable, but deformation such that the separated stacked sheets fuse together. Does not occur.

本発明はグリンシートを室温で乾燥して溶剤の除去が
終了した時点で第1図(A)に示すようにAlNグリンシ
ート5の周辺にW線またはMo線からなるスペーサ6を載
置するか、或いは同図(B)に示すようにW導体ペース
トやMo導体ペーストのように焼成温度がAlNシートの焼
成温度と近似するペーストを周辺部にスクリーン印刷し
てスペーサとするものである。
According to the present invention, when the green sheet is dried at room temperature and the removal of the solvent is completed, as shown in FIG. 1 (A), a spacer 6 made of a W line or a Mo line is placed around the AlN green sheet 5. Alternatively, as shown in FIG. 2B, a paste such as a W conductor paste or a Mo conductor paste whose sintering temperature is similar to the sintering temperature of the AlN sheet is screen-printed around the periphery to form spacers.

このように、スペーサを設けたグリンシートは次に、
通常はトンネル炉を用い、一枚づつ非酸化性雰囲気例え
ばN2中で約900℃で焼成してバインダ抜きを行うが、こ
の工程終了後においてはW線またはMoからなるスペーサ
はAlNシートと融着しているが、一向に差支えはなく、
かゝるAlNシートをBN容器内に積層して高温焼成を行う
ものである。
Thus, the green sheet provided with the spacer is
Usually, a tunnel furnace is used, and the binder is removed by firing at a temperature of about 900 ° C. in a non-oxidizing atmosphere, for example, N 2 , one by one, but after this step is completed, the spacer made of W wire or Mo is fused with the AlN sheet. I am wearing it, but there is no problem at all,
Such an AlN sheet is laminated in a BN container and fired at a high temperature.

第2図はBNやグラファイトからなる焼成容器4の底に
置いたBNセッタ2の上に線状のスペーサ6が融着してい
るAlNシート1を積層し、この上にAlN基板3をおいた状
態を示している。
FIG. 2 shows that an AlN sheet 1 having a linear spacer 6 fused thereto is laminated on a BN setter 2 placed at the bottom of a firing container 4 made of BN or graphite, and an AlN substrate 3 is placed thereon. The state is shown.

次に、量産を考えた場合、多数のAlNシートを積層す
る場合は、シート自体の荷重によって底部のシートに変
形乃至融着が生じ易くる。
Next, in consideration of mass production, when a large number of AlN sheets are stacked, deformation or fusion is likely to occur in the bottom sheet due to the load of the sheets themselves.

そこで、この対策としては第3図に示すようにスペー
サ6を片面に設けた複数のAlNシート1を縦に並べ両方
から融点が高く、かつ非反応性の矯正用基板9で挟持し
た状態で高温焼成を行えばよく、BNは融点が3000℃と高
く且つ非反応性であることからこの目的に適している。
Therefore, as a countermeasure, as shown in FIG. 3, a plurality of AlN sheets 1 provided with spacers 6 on one surface are arranged vertically, and are sandwiched between non-reactive correcting substrates 9 having high melting points from both sides. Sintering may be performed, and BN is suitable for this purpose because it has a high melting point of 3000 ° C. and is non-reactive.

なお、この高温焼成においてはAlNシートの焼結が進
むに従って収縮が生じ、そのために縦に配列したAlNシ
ート1の傾きが生ずることがあるが、これを防ぐ方法と
しては焼成容器4と矯正用基板9との間に高温において
変形する基板固定用変形体10を置けばよく、例えばグリ
ンシートの片面にWペーストを全面に亙って塗布してお
くか、溶剤の添加量を変えて作った二層構成のグリンシ
ートを挿入しておき、高温焼成により故意に弯曲が生じ
て矯正用基板を押し出す作用を行わせればよい。
In this high-temperature firing, shrinkage occurs as the sintering of the AlN sheet proceeds, which may cause the AlN sheets 1 arranged vertically to be inclined. As a method for preventing this, the firing container 4 and the straightening substrate are used. The substrate fixing deformable body 10 which is deformed at a high temperature may be placed between the green paste 9 and a green paste. A green sheet having a layered structure may be inserted, and a curving may be intentionally caused by high-temperature firing, so that the straightening substrate is pushed out.

〔実施例〕〔Example〕

実施例1:(Mo線スペーサ使用例,第2図関連) 第2表に示す組成のスラリーを作成し、成形間隔450
μm,送り速度2.3m/分で成形を行い、グリンシートを形
成した。
Example 1: (Example of use of Mo wire spacer, related to FIG. 2) A slurry having the composition shown in Table 2 was prepared, and a molding interval of 450 was used.
The green sheet was formed at a feed rate of 2.3 m / min, and a green sheet was formed.

次に、室温で6時間乾燥して分散媒を除いたグリンシ
ートを90mm角に打ち抜き、第1図(A)に示すようにAl
Nグリンシート5の上に直径が25μmのMo線からなる70m
m角のスペーサ6を載置し、トンネル炉を用い、N2雰囲
気中で900℃,4時間の脱脂処理を行った。
Next, the green sheet from which the dispersion medium was removed by drying at room temperature for 6 hours was punched into a 90 mm square, and as shown in FIG.
70m consisting of Mo wire with a diameter of 25μm on N-green sheet 5
The m-square spacer 6 was placed, and a degreasing treatment was performed at 900 ° C. for 4 hours in a N 2 atmosphere using a tunnel furnace.

このAlNシート10枚を第2図に示すようにグラファイ
トよりなる焼成容器4の中のBNセッタ2の上に積層し、
N2ガスを流しながら1800℃で30時間の焼成を行った。
As shown in FIG. 2, these 10 AlN sheets are laminated on the BN setter 2 in a firing vessel 4 made of graphite,
The firing was performed at 1800 ° C. for 30 hours while flowing N 2 gas.

その後、ダイヤモンドカッターを用いてスペーサ6の
内側に沿って切断してAlN基板を得たが、何れも平坦で
あり、表面粗さも良好であった。
Thereafter, the substrate was cut along the inside of the spacer 6 using a diamond cutter to obtain an AlN substrate, all of which were flat and had good surface roughness.

実施例2:(W厚膜スペーサ使用例,第2図関連) 実施例1と同様にして形成した90mm角のグリンシート
の上にW厚膜ペーストをスクリーン印刷し、第1図
(B)に示すように幅が1mm,高さ50μmで70mm角の導体
パターン形成してスペーサ7とした。
Example 2: (Use example of W thick film spacer, related to FIG. 2) W thick film paste is screen-printed on a 90 mm square green sheet formed in the same manner as in Example 1, and FIG. As shown in the figure, a 70 mm square conductor pattern having a width of 1 mm, a height of 50 μm and a spacer 7 was formed.

以後は実施例1と同様にトンネル炉を用い、N2雰囲気
中で900℃,4時間の脱脂処理を行った。
Thereafter, a degreasing treatment was performed at 900 ° C. for 4 hours in a N 2 atmosphere using a tunnel furnace in the same manner as in Example 1.

このAlNシート10枚を次に、第2図に示すようにグラ
ファイトよりなる焼成容器4の中のBNセッタ2の上に積
層し、N2ガスを流しながら1800℃で30時間の焼成を行っ
た。
Next, as shown in FIG. 2, these 10 AlN sheets were laminated on the BN setter 2 in a firing vessel 4 made of graphite, and fired at 1800 ° C. for 30 hours while flowing N 2 gas. .

その後、ダイヤモンドカッターを用いてスペーサ6の
内側に沿って切断してAlN基板を得たが、何れも平坦で
あり、表面粗さも良好であった。
Thereafter, the substrate was cut along the inside of the spacer 6 using a diamond cutter to obtain an AlN substrate, all of which were flat and had good surface roughness.

実施例3:(縦に並べ焼成した例,第3図関連) 矯正用基板としては90mm角で厚さが2mmのBN基板を用
い、また基板固定用変形体としては厚さが100μmのAlN
グリンシートの片面にW厚膜ペーストを塗布したものを
用いた。
Example 3: (Example of vertical sintering, related to FIG. 3) A 90 mm square, 2 mm thick BN substrate was used as a correction substrate, and a 100 μm thick AlN was used as a substrate fixing deformable body.
A green sheet coated with a W thick film paste on one side was used.

このようにするとAlN側を内側として弯曲させること
ができる。
By doing so, the AlN side can be curved inside.

実施例1と同様にしてグリンシートを形成した後、W
線を載置してN2雰囲気中で900℃,4時間の脱脂処理を行
った。
After forming a green sheet in the same manner as in Example 1, W
The wire was placed and subjected to a degreasing treatment at 900 ° C. for 4 hours in an N 2 atmosphere.

次に、スペーサ6を設けたAlNシート1をBNよりなる
焼成容器4の中に縦に並べ、その両側に矯正用基板9を
置き、また片方の矯正用基板9と焼成容器4との間に基
板固定用変形体10を挿入して隙間をなくした。
Next, the AlN sheets 1 provided with the spacers 6 are vertically arranged in the baking container 4 made of BN, and the correction substrates 9 are placed on both sides thereof, and between the correction substrate 9 and the baking container 4. The gap was eliminated by inserting the deformable body 10 for fixing the substrate.

そして、N2ガスを流しながら1800℃で30時間の焼成を
行い、その後、ダイヤモンドカッターを用いてスペーサ
6の内側に沿って切断してAlN基板を得たが、何れも平
坦であり、表面粗さも良好であった。
Then, baking was performed at 1800 ° C. for 30 hours while flowing N 2 gas, and then cut along the inside of the spacer 6 using a diamond cutter to obtain an AlN substrate. It was also good.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の実施により、AlN基板の量産が可能になり、
これによりAlN基板のコスト低減が可能となる。
Implementation of the present invention enables mass production of AlN substrates,
This makes it possible to reduce the cost of the AlN substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図(A),(B)は本発明の実施法を示すグリンシ
ートの平面図、 第2図は本発明に係る焼成法を示す断面図、 第3図は本発明に係る別の焼成法を示す断面図、 第4図はAlNの焼成方法を示す断面図、 である。 図において、 1はAlNシート、2はBNセッター、 3はAlN基板、4は焼成容器、 5はAlNグリンシート、6,7はスペーサ、 9は矯正用基板、10は基板固定用変形体、 である。
1 (A) and 1 (B) are plan views of a green sheet showing a method of practicing the present invention, FIG. 2 is a sectional view showing a firing method according to the present invention, and FIG. 3 is another firing method according to the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a method for firing AlN. In the figure, 1 is an AlN sheet, 2 is a BN setter, 3 is an AlN substrate, 4 is a firing container, 5 is an AlN green sheet, 6 and 7 are spacers, 9 is a correction substrate, and 10 is a substrate fixing deformable body. is there.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】窒化アルミニウム粉末を主構成材とし、該
粉末にバインダ,可塑剤および分散剤を加え、混練した
材料を用いてグリンシートを作り、該グリンシートを乾
燥した後、該グリンシートの周辺にタングステン線また
はモリブデン線を置くか、或いは該グリンシートと同時
焼成が可能なペーストを印刷してスペーサとし、脱脂処
理を行った後、焼成容器中に積層し、非酸化性雰囲気中
で焼成することを特徴とする窒化アルミニウム基板の焼
成方法。
An aluminum nitride powder is used as a main component, a binder, a plasticizer, and a dispersant are added to the powder, and a kneaded material is used to form a green sheet. After drying the green sheet, the green sheet is dried. Place a tungsten wire or molybdenum wire around, or print a paste that can be fired at the same time as the green sheet to make it a spacer, perform degreasing treatment, stack it in a firing vessel, and fire in a non-oxidizing atmosphere A method for firing an aluminum nitride substrate.
【請求項2】請求項1記載の脱脂処理を行ったグリンシ
ートを焼成容器中に縦に並べてセットし、両側に窒化硼
素からなる矯正用基板を挟着した後、焼成容器と該矯正
用基板との間に基板固定用変形体を挿入し、非酸化性雰
囲気中で焼成することを特徴とする窒化アルミニウム基
板の焼成方法。
2. The green sheet subjected to the degreasing treatment according to claim 1 is set vertically in a firing container, and a correction substrate made of boron nitride is sandwiched on both sides. And a baking method in which an aluminum nitride substrate is fired in a non-oxidizing atmosphere.
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