JPH02159090A - Connection of circuit board - Google Patents

Connection of circuit board

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JPH02159090A
JPH02159090A JP63314427A JP31442788A JPH02159090A JP H02159090 A JPH02159090 A JP H02159090A JP 63314427 A JP63314427 A JP 63314427A JP 31442788 A JP31442788 A JP 31442788A JP H02159090 A JPH02159090 A JP H02159090A
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circuit board
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adhesive
electrodes
layer
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浩司 松原
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田草 孝
Takashi Nukui
貫井 孝
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/321Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by conductive adhesives

Abstract

PURPOSE:To prevent shortcircuiting and leak and to improve reliability of connection greatly by connecting electrodes mutually by an interposed object which is held by a holding layer between a first circuit board and a second circuit board. CONSTITUTION:A thermosetting resin adhesive is applied all over a substrate 1 whereon an electrode 2 and a surface protecting layer 3 are formed in advance, to form an adhesive layer 8a. Ultraviolet rays are irradiated through a mask 9. A conductive particle 5 is attached to the adhesive layer 8a formed as a fine patter. A projecting electrode is formed by attaching the conductive particle 5 selectively only to a region whereon the electrode 2 is formed in this way. A surface whereon a projecting electrode of a semiconductor device 6 is formed and a surface whereon a wiring electrode 13 of a liquid crystal display plate 12 is formed are opposed, and the conductive particle 5 and the wiring electrode 13 are registered. An adhesive 14 which cures at a relatively low temperature is injected and filled between substrate 1, 12. Pressure is applied until a distance between the electrodes 2 and 13 becomes a specified distance l1. The adhesive layer 14 is hardened in this state to mount the semiconductor device 6 on the liquid crystal display plate 12.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、I C(Integrated C1rcu
it)などの半導体素子が形成された回路基板と、プリ
ント基板、フレキシブル基板、あるいはセラミック基板
などの回路基板とを電気的に接続するために好適に実施
される回路基板の接続方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention is directed to an IC (Integrated C1rcu)
The present invention relates to a circuit board connection method suitably implemented for electrically connecting a circuit board on which a semiconductor element such as .

従来の技術 従来、回路基板間の接続には、主に、半田r−tけによ
る方法や異方性導電シートを用いる方法がとられてきた
。半田付けによる方法の場き、一方の回路基板の電極上
にめっきや印刷法などによって半田層を形成し、この半
田層を加熱溶融して地方の回路基板の電極に接続してい
た。また異方性導電シートを用いる方法の1%合、一方
の回路基板の電極上に異方性導電シートを貼着し、地方
の回路基板の対応する電極と相互に位置会わせした後に
、両回路基板を加圧、加熱して両方の電極を電気的に接
続していた。
2. Description of the Related Art Conventionally, circuit boards have been connected mainly by soldering R-T or by using an anisotropic conductive sheet. In the case of the soldering method, a solder layer was formed on the electrodes of one circuit board by plating or printing, and this solder layer was heated and melted to connect to the electrodes of the local circuit board. In addition, in the 1% method using an anisotropic conductive sheet, an anisotropic conductive sheet is pasted on the electrode of one circuit board, and after mutually aligning with the corresponding electrode of the local circuit board, both The circuit board was pressurized and heated to electrically connect both electrodes.

半田付けによる方法では、電極材料として予めAu、C
u、Niなとの親半田金属を用いる必要がある。また液
晶表示板などの回路基板を接続する場合には、液晶表示
板に用いられているITO(Indium Tin 0
xide)膜などは直接半田金属とは溶融接きしにくい
ために、別途に新たに親半田金属層をITOl上に形成
する必要がありコスト高であった。また半田を加熱溶融
して両電極間を接続するために、接続する電極のピッチ
が微細な場合には隣接端子間に短絡が生じ易いという間
圧があった。
In the soldering method, Au and C are used as electrode materials in advance.
It is necessary to use parent solder metals such as u and Ni. In addition, when connecting a circuit board such as a liquid crystal display board, ITO (Indium Tin 0
Since it is difficult to melt and bond directly to solder metal, it is necessary to separately form a new parent solder metal layer on ITOl, resulting in high cost. Furthermore, since the two electrodes are connected by heating and melting the solder, there is a pressure between adjacent terminals that tends to cause a short circuit when the pitch of the electrodes to be connected is fine.

異方性導電シートなどを用いる方法では、樹脂中に導電
性微粒子が分散した構成の異方性導電シートが、接続す
る電極のピンチ幅が150μm程度までは良好に相互に
対向する電極を接続することができるけれども、これ以
下の微細ピンチを有する電極では隣接する電極端子間に
おいて、シート中に分散した導電性微粒子のために導通
可能な状態が生じ、短絡の原因となっていた。
In a method using an anisotropic conductive sheet, the anisotropic conductive sheet, which has conductive particles dispersed in a resin, connects opposing electrodes well up to a pinch width of about 150 μm. However, in electrodes with smaller pinches than this, conductive particles dispersed in the sheet create a state of conductivity between adjacent electrode terminals, causing short circuits.

さらにこれら半田1寸ならびに異方性導電シートを用い
る方法においては、電極の接続時に150〜250℃の
加熱を必要とする。また特に異方性導電シートの場合に
は、接続する回路基板相互に約20 k g / c 
rn 2の加圧が必要である。したがって、たとえば前
述の液晶表示板にフレキシブル基板を接続する場きにお
いては、熱応力と加圧力とによって基板自体が破損する
といった不所望な事態が生じ兼ねなかった。
Furthermore, in the method using one inch of solder and an anisotropic conductive sheet, heating at 150 to 250° C. is required when connecting the electrodes. In addition, especially in the case of anisotropic conductive sheets, the connecting circuit boards are approximately 20 kg/c
A pressurization of rn 2 is required. Therefore, for example, when connecting a flexible substrate to the above-mentioned liquid crystal display panel, an undesirable situation may occur in which the substrate itself is damaged due to thermal stress and pressurizing force.

ICなどの半導体回路基板と他の回路基板との接続にお
いては、通常、W B (Wire Bonding)
方式、T A B (Tape AuLomaLed 
Bonding)方式、FC(F I i p CIt
 i p )方式などがとられている。近年では、実装
面精の縮小化、接続時間の短縮化、接続長の短縮化など
の点において有利なFC方式が注目されている。
When connecting a semiconductor circuit board such as an IC to another circuit board, WB (Wire Bonding) is usually used.
Method, T A B (Tape AuLomaLed
Bonding) method, FC (F I i p C It
ip) method etc. are used. In recent years, attention has been paid to the FC method, which is advantageous in terms of reducing mounting surface precision, shortening connection time, and shortening connection length.

本件の接続方法が該当するFC方式では、一般に、IC
などの半導体回路基板に半田金属などから成る突起電極
を設けて、他の回路基板と対向させた状態でこの半田金
属の突起電極を加熱溶融して他方の回路基板の電極に接
続するものである。
In the FC method, to which the connection method in this case applies, generally the IC
Protruding electrodes made of solder metal etc. are provided on a semiconductor circuit board such as, and the protruding electrodes made of solder metal are heated and melted while facing another circuit board and connected to the electrodes of the other circuit board. .

したがって半導体回路基板が接続される相手方の回路基
板の配線は、親半田金属にする必要がありコスト高であ
る。また接続においては半田金属の融点以上の加熱を必
要とし、相手方回路基板およびその基板に搭載される電
子部品が限定されてしまうなどといった欠截がある。さ
らにこの半田金属を加熱溶融して接克する際には、半導
体回路基板と相手方回路基板との間゛で熱膨張率の差が
あるために、加熱時に生じた熱応力が残留して接続部の
破断の原因となるなど問題がある。
Therefore, the wiring of the other circuit board to which the semiconductor circuit board is connected needs to be made of parent solder metal, resulting in high costs. In addition, the connection requires heating above the melting point of the solder metal, which limits the number of circuit boards to be used and the electronic components mounted on the board. Furthermore, when this solder metal is heated and melted to make a connection, because there is a difference in the coefficient of thermal expansion between the semiconductor circuit board and the other circuit board, the thermal stress generated during heating remains and the connection is made. There are problems such as causing breakage.

以上の問題点を解決する方法の試みが、特開昭63−1
3337に開示されている。この方法では、一方の回路
基板の電極上に突起電極を設け、他方の回路基板の電極
と相互に位置合わせした状態でこれらを圧接し、予め各
回路基板間に充填された常温硬化性接着剤で固定するも
のである。
An attempt to solve the above problems was made in JP-A-63-1
No. 3337. In this method, protruding electrodes are provided on the electrodes of one circuit board, and these are pressed together while being aligned with the electrodes of the other circuit board, and a room-temperature curing adhesive is applied between each circuit board in advance. It is fixed with.

この突起電極としては通常、Au、Cu、Ni、r’b
−s口などの金属材料が用いられ、突起電極の形成には
、めっき法、蒸着法あるいは転写法がとられている。
This protruding electrode is usually made of Au, Cu, Ni, r'b
A metal material such as -s port is used, and the protruding electrodes are formed by plating, vapor deposition, or transfer.

めっき法とは、電極本体上に電気めっきによって突起電
極を形成する方法である。めっき法においては、たとえ
ばリフトオフ法による渇きには、リフトオフ用のレジス
トを形成し、その上に金属の拡散を防止するために全面
にバリアメタル層を形成し、さらにその上にめっき不要
部をレジストでマスキングした?支に電気めっきを行わ
なければならない。したがってこのようなめっき法にお
いては、作業工程がむやみに複雑化するという問題があ
る。
The plating method is a method of forming protruding electrodes on the electrode body by electroplating. In the plating method, for example, when using the lift-off method, a resist is formed for lift-off, a barrier metal layer is formed on the entire surface to prevent metal diffusion, and then the parts not to be plated are covered with the resist. Did you mask it? The supports shall be electroplated. Therefore, in such a plating method, there is a problem that the working process becomes unnecessarily complicated.

蒸着法とは、突起電極を形成すべき位置に対応して透孔
が形成されたメタルマスクを回路基板上に配置し、この
状態でスパッタリングあるいはエレクトロンビーム蒸着
などによって金属層を形成し、この金属によって突起電
極を形成する方法である。この蒸着法では、バリアメタ
ル層を形成した漫に再度メタルマスクを介して突起電極
を形成する金属を蒸着する必要がある。したがって作業
工程が複雑化するばかりでなく、多くの材料を必要とし
、また精密なメタルマスクを作成しなければならず、コ
スト高である。
In the vapor deposition method, a metal mask with through holes formed in it corresponding to the positions where protruding electrodes are to be formed is placed on the circuit board, a metal layer is formed in this state by sputtering or electron beam evaporation, and this metal layer is formed by sputtering or electron beam vapor deposition. This is a method of forming protruding electrodes using the following method. In this vapor deposition method, it is necessary to vapor-deposit the metal for forming the protruding electrodes again through a metal mask over the area where the barrier metal layer has been formed. This not only complicates the work process, but also requires a large amount of materials and requires the creation of a precise metal mask, resulting in high costs.

また転写法では、仮基板上の所定の位置に、たとえばめ
っきなどによって金(A 11 >の突起物を形成し、
この仮基板を突起電極が形成されるべき回路基板に積層
した状態で加熱加圧する。これによって金の突起物が前
記回路基板に熱転写され、突起電極が形成される。
In addition, in the transfer method, protrusions of gold (A 11 >) are formed at predetermined positions on the temporary substrate by, for example, plating,
This temporary substrate is heated and pressed while being laminated on a circuit board on which protruding electrodes are to be formed. As a result, the gold protrusions are thermally transferred to the circuit board, forming protruding electrodes.

このような転写法においては、突起物の形成材料として
全以外の金属を使用することができない。
In such a transfer method, metals other than metal cannot be used as the material for forming the protrusions.

したがってコスト高である。さらに金をめっきする際の
条件、ならびに熱転写を行ってこの金の突起物を回路基
板上に突起電極として形成するための温度条件および加
圧条件などが厳しい。したがって所望の形状で突起電極
を形成することが困難であるという問題がある。
Therefore, the cost is high. Furthermore, the conditions for plating gold, as well as the temperature and pressure conditions for performing thermal transfer to form these gold protrusions as protruding electrodes on a circuit board, are severe. Therefore, there is a problem in that it is difficult to form a protruding electrode in a desired shape.

上述した各種の方法を用いて、金属の突起電極を一方の
回路基板上に形成し、前記特開昭6113337に従っ
て両回路基板を接続したとしても、これら突起電極の金
属と常温硬化性接着剤の高分子との間には熱膨張率の差
がある。したがって外部環境が熱的に変化した場合にお
いては、その接続状態が不安定となり、たとえば比較的
高温時には突起電極の熱膨張に比較して接着剤の熱膨張
が大きいために相互に位置のずれを引起こしてしまい接
続不良が発生し易くなる。したがってこのような接続方
法は信頼性に劣ると言わなければならない。
Even if metal protruding electrodes are formed on one circuit board using the various methods described above and both circuit boards are connected according to the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 6113337, the difference between the metal of these protruding electrodes and the room-temperature curing adhesive There is a difference in thermal expansion coefficient between it and polymers. Therefore, when the external environment changes thermally, the connection state becomes unstable. For example, at relatively high temperatures, the thermal expansion of the adhesive is larger than that of the protruding electrodes, resulting in mutual positional deviation. This may cause connection failures to occur. Therefore, it must be said that such a connection method is inferior in reliability.

上記の問題点は、特開昭61−259548に開示され
ているように、突起電極としてその表面が導電性物質で
被覆されたゴノ、状弾性体を用いることで解決すること
ができると考えられる。しかしながらこの方法において
は、弾性部材であるシリコーンゴノ、を回路基板の電極
上に形成する場合と、そのシリコーンゴノ、表面に金の
導電層を形成する場合とにおいて少なくとも2回トドフ
ォl−レジストを塗布し、マスクを介して露光を行うな
どの工程が必要である。したがって突起電極を形成する
工程がむやみに複雑化するという問題がある。
It is believed that the above problems can be solved by using a gono-shaped elastic body whose surface is coated with a conductive material as a protruding electrode, as disclosed in JP-A No. 61-259548. It will be done. However, in this method, Todofol-resist is applied at least twice: when forming a silicone layer, which is an elastic member, on the electrode of a circuit board, and when forming a gold conductive layer on the surface of the silicone layer. A process such as exposure through a mask is required. Therefore, there is a problem that the process of forming the protruding electrode becomes unnecessarily complicated.

また−最に、シリコーンゴノ、と金などの導電層とはそ
の密着性が悪い。したがってたとえばシリコーンゴノ、
表面から導電層が剥離してしまい、この突起電極が両回
路基板を電気的に接続する働きをなさなくなるといった
不所望な事態を生じかねない。
Moreover, the adhesion between silicone and conductive layers such as gold is poor. Therefore, for example, silicone gono,
An undesirable situation may occur in which the conductive layer peels off from the surface and the protruding electrodes no longer function to electrically connect the two circuit boards.

発明が解決しようとするa題 本発明の目的は、上述した技術的問題点を解決し、簡単
な方法であって容易かつ低コストで信頼性の高い回路基
板の接続方法を提供することである。
Problem to be Solved by the Invention An object of the present invention is to solve the above-mentioned technical problems and to provide a method for connecting circuit boards that is simple, easy, low cost, and highly reliable. .

課題を解決するための手段 本発明は、電極が形成された第1回路基板と、この電極
と対応する位置に電極が形成された第2回路基板とを相
互に接続する方法において、第1回路基板の電極上に形
成された保持層に、導電性を有すると共に前記保持層の
層厚よりも大きな介在体が埋設して保持され、 この第1回路基板と第2回路基板とを対向させ、上記介
在体を介して第1および第2回路基板の相互に対応する
電極が接続された状態でこれらを加圧し、予め各回路基
板間に充填された比較的低温度で硬化する接着剤を硬化
させるようにしたことを特徴とする回路基板の接続方法
である。
Means for Solving the Problems The present invention provides a method for interconnecting a first circuit board on which an electrode is formed and a second circuit board on which an electrode is formed at a position corresponding to the first circuit board. An intervening body having conductivity and having a thickness greater than the thickness of the holding layer is buried and held in a holding layer formed on the electrode of the substrate, and the first circuit board and the second circuit board are faced to each other, Pressure is applied to the first and second circuit boards while their corresponding electrodes are connected to each other via the intervening body, and the adhesive, which is cured at a relatively low temperature, that has been filled between each circuit board is cured. This is a method for connecting a circuit board, characterized in that the circuit board is connected by the following steps.

作  用 本発明の回路基板の接続方法においては、第1回路基板
の電極上に保持層を形成し、この保持層には導電性を有
すると共に保持層の層厚よりも大きな介在体が埋設して
保持される。この保持層は、導電性を有してもよいし非
導電性であってもよい。
Function: In the circuit board connection method of the present invention, a retaining layer is formed on the electrode of the first circuit board, and an intervening body having conductivity and having a thickness larger than the retaining layer is embedded in the retaining layer. is retained. This holding layer may be electrically conductive or non-conductive.

この第1回路基板と第2回路基板とは相互にその接続さ
れるべき電極が位置合わせされた状態で、予め各回路基
板間に充填された比較的低温度で硬化する接着剤によっ
て接汗される。この接着剤の充填は、各回路基板を対向
させる前に行われてもよいし対向後であってもよい。こ
の時、前記介在体、または介在体およびその保持層を介
して第1および第2回路基板の相互に対応する電極が電
気的に接続された状態に加圧し、この加圧状態で各回路
基板間に充填された接着剤が硬fヒさせられる。
With the electrodes to be connected mutually aligned, the first circuit board and the second circuit board are wetted with an adhesive that hardens at a relatively low temperature and is filled between the circuit boards in advance. Ru. This adhesive filling may be performed before or after the circuit boards are faced. At this time, pressure is applied so that the mutually corresponding electrodes of the first and second circuit boards are electrically connected through the intervening body or the intervening body and its holding layer, and in this pressurized state, each circuit board The adhesive filled in between is hardened.

用いられる接着剤としては、比較的低温度で硬1ヒする
接着剤であれば、常温硬fヒ性、嫌気性、光硬化性、反
応硬化性などの各種接着剤を用いることが可能である。
As the adhesive used, it is possible to use various adhesives such as room temperature hardening, anaerobic, light hardening, and reaction hardening adhesives as long as they harden at relatively low temperatures. .

本発明に従えば、第1および第2回路基板の電極間の電
気的接続は、前記介在体、または介在体およびその保持
層によって行われる。これによって従来形成していたよ
うな突起電極を特に設ける必要がなく、突起電極を形成
するために必要であった複雑な工程が省略される。また
導電性を有する介在体として弾性体を使用することによ
って、接続された回路基板外部からの熱的な影響を受け
に・ぐい安定な接続状態を達成することができる。
According to the invention, the electrical connection between the electrodes of the first and second circuit boards is made by the intervening body or the intervening body and its holding layer. As a result, it is not necessary to provide a protruding electrode as conventionally formed, and the complicated process required to form a protruding electrode can be omitted. Further, by using an elastic body as the conductive intervening body, a more stable connection state can be achieved without being affected by thermal influences from outside the connected circuit board.

さらに、この導電性を有する介在体は各回路基板の電極
上に選択的に配置されるから、回路基板の電極ピッチの
微細化に対応した接続が可能である。また用いられる接
着剤として特に常温硬化性のものを用いれば、両回路基
板を相互に固定してこの常温硬化性接着剤を硬化させる
だけで済み、高温加熱の必要がないとともに、加熱など
によって回路基板に熱応力などが生じたり残留したりと
いった悪影響を防止することができる。
Furthermore, since the conductive intervening body is selectively arranged on the electrodes of each circuit board, it is possible to make connections that correspond to the miniaturization of the electrode pitch of the circuit boards. In addition, if an adhesive that hardens at room temperature is used, it is sufficient to simply fix the two circuit boards together and cure the adhesive, which hardens at room temperature.There is no need for high-temperature heating, and the circuit board can be cured by heating. Adverse effects such as thermal stress occurring or remaining on the substrate can be prevented.

実施例 第1図は本発明の回路基板の接続方法に従って接続され
た回路基板6,12の断面図であり、第2図は第1図の
細部を詳細に示す拡大断面図である。また第3図は、本
発明に従って一方の液晶表示板12に半導体装置6が実
装された液晶表示装置10の断面図である。したがって
第1図は、第3図に示された液晶表示装置10の切断面
線IIから見た断面図である。
Embodiment FIG. 1 is a sectional view of circuit boards 6 and 12 connected according to the circuit board connection method of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged sectional view showing the details of FIG. 1 in detail. FIG. 3 is a sectional view of a liquid crystal display device 10 in which a semiconductor device 6 is mounted on one liquid crystal display panel 12 according to the present invention. Therefore, FIG. 1 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device 10 shown in FIG. 3 taken along the section line II.

第3図を参照して、表面に配線電極13および対向電f
i16がそれぞれ形成された一対の液晶表示板12.1
1は、シール樹脂15を介して貼合わされ、その間に液
晶17が封止されている。この液晶表示装置10におい
て、配線電極13は液晶表示板12上を図面右方に延び
て、液晶表示装置10の表示駆動を行うために実装され
た半導体装置6の電[2に接続されている。
Referring to FIG. 3, the wiring electrode 13 and the counter electrode f
A pair of liquid crystal display panels 12.1 each having an i16 formed thereon.
1 are bonded together via a sealing resin 15, and a liquid crystal 17 is sealed between them. In this liquid crystal display device 10, the wiring electrode 13 extends on the liquid crystal display board 12 toward the right side of the drawing, and is connected to the voltage [2] of the semiconductor device 6 mounted to drive the display of the liquid crystal display device 10. .

第1図ならびに第2図を参照して、第1回路基板である
半導体装置6は、シリコンあるいはガリウムヒ素などの
ウェハ上に拡散層が形成され、これによって多数のトラ
ンジスタやダイオードなどが構成されて、液晶表示装置
10の表示駆動を行う機能を有する。半導体装置6は基
板1と、基板1の最上層に形成された電極2と、たとえ
ばSiN、PSG (ガラス)、あるいはポリイミドな
どから成る表面保護層3とを含む。電極2は、たとえば
AN−3i、Ni、Ti、あるいはWなどから成る。
Referring to FIGS. 1 and 2, a semiconductor device 6, which is a first circuit board, has a diffusion layer formed on a wafer of silicon or gallium arsenide, and a large number of transistors, diodes, etc. are formed by this. , has a function of driving the display of the liquid crystal display device 10. The semiconductor device 6 includes a substrate 1, an electrode 2 formed on the top layer of the substrate 1, and a surface protection layer 3 made of, for example, SiN, PSG (glass), or polyimide. The electrode 2 is made of, for example, AN-3i, Ni, Ti, or W.

また第2回路基板である液晶表示板12の配線電極13
は、たとえばソーダガラスなどの表面上に形成された錫
添加酸化インジウム(Indiun+ Tin0xid
e、以下rlTo」と略記する)またはニッケルでめっ
きされたITOであって、通常厚みは100〜20 O
rr rn程度である。
Also, the wiring electrode 13 of the liquid crystal display board 12 which is the second circuit board
is, for example, tin-doped indium oxide (Indiun+TinOxid) formed on a surface such as soda glass.
e, hereinafter abbreviated as ``rlTo'') or nickel-plated ITO, usually with a thickness of 100 to 20 O
It is about rr rn.

半導体装置6と液晶表示板12とは、電8i213間が
所定の間隔11となるように、保持層である接着剤層8
a、14、および介在体である導電性粒子5を介して接
続される。接着剤層8a1t1としては、たとえば嫌気
性接着剤、反応硬化性接着剤、光硬化性接着剤、あるい
は熱硬化性接着剤などの各種接着剤を使用することがで
きる。
The semiconductor device 6 and the liquid crystal display board 12 are connected to each other by an adhesive layer 8 which is a holding layer so that a predetermined distance 11 is maintained between the electrodes 8i 213.
a, 14, and conductive particles 5 as intervening bodies. As the adhesive layer 8a1t1, various adhesives such as an anaerobic adhesive, a reactive curable adhesive, a photocurable adhesive, or a thermosetting adhesive can be used.

特に本実施例では、液晶表示板12が透光性材料である
ガラスから成るので、接着剤層14は高速接合可能な光
硬化性接着剤を使用することができる。
In particular, in this embodiment, since the liquid crystal display panel 12 is made of glass, which is a light-transmitting material, the adhesive layer 14 can use a photocurable adhesive that can be bonded at high speed.

接着剤層8aと接着剤N14との境界には、導電性粒子
5が配設される。この導電性粒子5は、弾性部材5L+
表面上に、金属層5aが一層、あるいは弾性部材5bと
め密着性を図るなどの目的のために二層以上で被覆され
た粒径数μm〜数十μ「口程度グ)粒径分布が均一なも
のが好ましく、接着剤層8aによって1つの接続部あた
り1個以上埋設して接着される9弾性部材5bとしては
、シリコーンゴムやウレタンゴノ、などのゴム類および
合成樹脂などの弾性を有する高分子材料から成る大略球
状の粒子が用いられる。金属層5aとしては、ALl、
Ag、Ni 、C,Cu、Pd、、Pb、Sn、あるい
はI rrなどの金属、またはこれら金属のき金が用い
られる。
Conductive particles 5 are arranged at the boundary between the adhesive layer 8a and the adhesive N14. The conductive particles 5 are elastic members 5L+
The surface is coated with one metal layer 5a, or with two or more layers for the purpose of ensuring adhesion to the elastic member 5b, and has a uniform particle size distribution. The elastic members 5b, which are embedded and bonded at least one per connection part with the adhesive layer 8a, are made of rubbers such as silicone rubber and urethane rubber, and elastic polymers such as synthetic resins. Approximately spherical particles made of material are used.As the metal layer 5a, AL1,
Metals such as Ag, Ni, C, Cu, Pd, Pb, Sn, or Irr, or metal plates of these metals are used.

この導電性粒子5は、その一部分のみが接着剤層8aに
埋設され、残余の部分は接着剤層14に接し、その一端
部は接着剤層14を貫通して配線電極13表面に接して
いる。この導電性粒子5の池端部は、電極2表面と直接
接していてもよいし、後述される実施例に示されるよう
に、導電性を有する第1接着剤層8aを介して電極2と
電気的に接続されるようにしてもよい。
Only a portion of the conductive particles 5 is embedded in the adhesive layer 8a, the remaining portion is in contact with the adhesive layer 14, and one end thereof penetrates through the adhesive layer 14 and is in contact with the surface of the wiring electrode 13. . The ends of the conductive particles 5 may be in direct contact with the surface of the electrode 2, or may be connected to the electrode 2 via a conductive first adhesive layer 8a, as shown in the examples described later. It may also be possible to connect the

第1図に示した構造は、さらに耐湿性向上などのために
構造全体を保護樹脂などでモールドしたり、IR械的に
保護するようにすることもできる6また導電性粒子5と
しては、前述の金属R5aに用いられるのと同様な金属
単体、あるいは合金から成る球状粒子とすることも可能
であるけれども、表面に金属Jl 5 aが被覆された
弾性部材5bを用いた場きには、導電性粒子5が電極1
3表面と接する面における高さのばらつきを、弾性部材
5bの弾性変形によって吸収することができ、常に電極
13表面と面接触を保持できるので安定な接続状層を保
つことができる。
The structure shown in FIG. 1 can be molded with a protective resin or the like, or can be mechanically protected by IR in order to further improve moisture resistance. Although it is possible to use spherical particles made of a single metal or an alloy similar to that used for metal R5a, when using the elastic member 5b whose surface is coated with metal Jl 5a, sexual particle 5 is electrode 1
Variations in height on the surface in contact with the electrode 13 surface can be absorbed by elastic deformation of the elastic member 5b, and surface contact with the electrode 13 surface can be maintained at all times, so that a stable connected layer can be maintained.

第4図は、第1図に示されたような半導体装置6と液晶
表示板12との接続を得るための製造工程を示す断面図
である。第4図(1)に示されるように、予め電極2お
よび表面保護層3が形成されている基板1において、こ
の電極2および表面保護膜3の図面上方には、たとえば
スピンコードあるいはロールコートなどの方法によって
光硬化性接着剤を全面に塗布して接着剤層8aを形成す
る。このとき接着剤M8aのN厚は、導電性粒子5の粒
径に対して充分に薄くして、導電性粒子5の一部分のみ
が接着剤N 8 aに埋設されるようにする。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a manufacturing process for obtaining a connection between the semiconductor device 6 and the liquid crystal display panel 12 as shown in FIG. As shown in FIG. 4(1), in the substrate 1 on which the electrodes 2 and the surface protective layer 3 are formed in advance, a spin cord or roll coat, for example, is applied above the electrodes 2 and the surface protective layer 3. The adhesive layer 8a is formed by applying a photocurable adhesive over the entire surface by the method described in (a). At this time, the thickness N of the adhesive M8a is made sufficiently thinner than the particle size of the conductive particles 5 so that only a portion of the conductive particles 5 is embedded in the adhesive N8a.

この状1で、後述する不要な導電性粒子5の除去時にお
ける接着剤層8aの流出および導電性粒子5の発散など
を防止するために、全面に適度な紫外線を照射して段階
的に接着剤層8aを硬1ヒさせ、粘度を増加させて粘着
性を改善することもできる。また高い粘度を有する接着
剤を溶剤で希釈して適当な粘度に調節し、上記スピンコ
ードあるいはロールコートなどの方法で塗布した陵、溶
剤を蒸発させて段階的に硬fヒさせてから導電性粒子5
を付着させてもよい。
In this state 1, in order to prevent the adhesive layer 8a from flowing out and the conductive particles 5 from dispersing when removing unnecessary conductive particles 5, which will be described later, the entire surface is irradiated with moderate ultraviolet rays and bonded in stages. The adhesiveness can also be improved by hardening the agent layer 8a and increasing the viscosity. In addition, the adhesive with high viscosity is diluted with a solvent to adjust the viscosity to an appropriate level, and the adhesive coated by the above-mentioned spin cord or roll coating method is hardened in stages by evaporating the solvent and then conductive. particle 5
may be attached.

さらに接着剤層8aの材料として熱硬(ヒ性を有する接
着剤を使用する場6には、低粘度の接着剤を上記方法で
塗布した後に、加熱して段階的に硬化させ粘度を増大さ
せてから導電性粒子5を付着させるようにすることもで
きる。
Furthermore, in the case 6 where a thermosetting adhesive is used as the material for the adhesive layer 8a, a low viscosity adhesive is applied by the above method and then heated to harden in stages to increase the viscosity. It is also possible to attach the conductive particles 5 after that.

上述のようにして接着剤層8aが形成された基板1に対
して、第4図(2)に示されるように、マスク9を介し
て矢符20で示される紫外線を照射する。マスク9には
、紫外線20を遮断する遮断部9 itと紫外線20が
透過可能な透孔9bとが形成されている。紫外線20の
照射は、基板1の表面保護膜3が形成されたKt域と透
孔9bとが位置会わせされて行われる。これによって表
面保護M3が形成された領域の接着剤JI8bだけが選
択的に硬化される。これに対して遮断部9aによって紫
外線20が遮断された電極2が形成されている領域の接
着剤層8aは、硬化されずに粘着性を有したままの状態
として残される。このようにして粘着性を有する接着剤
層8aをrR細パターンで形成することができる。
The substrate 1 on which the adhesive layer 8a has been formed as described above is irradiated with ultraviolet light indicated by the arrow 20 through the mask 9, as shown in FIG. 4(2). The mask 9 is formed with a blocking portion 9it that blocks ultraviolet rays 20 and a through hole 9b that allows ultraviolet rays 20 to pass through. The irradiation with the ultraviolet rays 20 is performed when the Kt region of the substrate 1 where the surface protection film 3 is formed is aligned with the through hole 9b. As a result, only the adhesive JI8b in the area where the surface protection M3 is formed is selectively cured. On the other hand, the adhesive layer 8a in the area where the electrode 2 is formed, where the ultraviolet rays 20 are blocked by the blocking portion 9a, remains uncured and remains sticky. In this way, the sticky adhesive layer 8a can be formed in an rR fine pattern.

次に第4図(3)に示されるように、微細パターンとし
て形成された接着剤層8aに導電性粒子5を付着させる
。第4図(2)において説明したように、接着剤層8a
の部分にのみ粘着性があり、接着剤N8bは紫外線20
が照射されて硬fヒされ粘着性を失っている。したがっ
て導電性粒子5は粘着性を有する接着剤層8a部分には
付着するけれども、接着剤J18bなどの他の領域には
「+着しない。
Next, as shown in FIG. 4(3), conductive particles 5 are attached to the adhesive layer 8a formed as a fine pattern. As explained in FIG. 4(2), the adhesive layer 8a
Adhesive N8b has UV 20
is irradiated and hardened and loses its tackiness. Therefore, although the conductive particles 5 adhere to the sticky adhesive layer 8a, they do not adhere to other areas such as the adhesive J18b.

また池の領域に静電気力などでζ・1着した不要な導電
性粒子5は、エアプローによって、またははけなどを使
用して除去される。さらに接着剤層8aには導電性粒子
5を単層で付着させることが好ましいけれども、後述さ
れるように半導体装置6を液晶表示板12に圧接する製
造工程の段階で、重層してけ着していた導電性粒子5が
移動してm層となる程度であれば2層以上であってもよ
い。
Further, unnecessary conductive particles 5 that have adhered to the pond area due to electrostatic force or the like are removed by air blowing or by using a brush or the like. Further, although it is preferable to attach the conductive particles 5 in a single layer to the adhesive layer 8a, it is preferable that the conductive particles 5 be attached in multiple layers at the stage of the manufacturing process in which the semiconductor device 6 is pressed against the liquid crystal display panel 12, as will be described later. There may be two or more layers as long as the conductive particles 5 move to form m layers.

このようにして電極2の形成された領域にのみ選択的に
導電性粒子5を1寸着させて突起電極を形成することが
できる。
In this way, a protruding electrode can be formed by selectively depositing one inch of the conductive particles 5 only on the region where the electrode 2 is formed.

上述のようにして導電性粒子5から成る突起電極を形成
した後に、粘着性を有する接着剤層8aを硬化させれ、
ば半導体装置6の取扱いが容易になり、半導体装置6の
製造工程における操作性が向上される。またt褒述する
ように、このような半導体装置6を池の回路基板と接続
した後に接着剤によってモールドする場合には、モール
ドするための接着剤と同一工程によって前記接着剤層8
aを硬化することもできる。
After forming the protruding electrodes made of conductive particles 5 as described above, the adhesive layer 8a having adhesiveness is cured,
Therefore, handling of the semiconductor device 6 becomes easier, and operability in the manufacturing process of the semiconductor device 6 is improved. Furthermore, as mentioned above, when molding such a semiconductor device 6 with an adhesive after connecting it to a circuit board, the adhesive layer 8 is applied in the same process as the adhesive for molding.
It is also possible to harden a.

第411m(4)は、上述した製造工程によって突起電
極が形成された基板1からさらに、接着剤層8bを選択
的に除去した断面図である。このように接着剤層8bを
除去する工程は本実施例では特に必要ではないけれども
、後述する他の実施例に示されるように特に導電性を有
する接着剤を用いて接着剤層8 ’rtを形成するPS
きには、接着剤層8bを介して相互に隣接する電極2が
電気的に短絡しないように、フォトリングラフィなどに
よって接着剤層8 bを選択的にエツチングして除去す
ることが必要である。
No. 411m(4) is a cross-sectional view in which the adhesive layer 8b is further selectively removed from the substrate 1 on which protruding electrodes are formed by the above-described manufacturing process. Although the step of removing the adhesive layer 8b is not particularly necessary in this embodiment, as shown in other embodiments described later, the adhesive layer 8'rt is removed using a particularly conductive adhesive. PS to form
In some cases, it is necessary to selectively etch and remove the adhesive layer 8b by photolithography or the like so that the electrodes 2 adjacent to each other through the adhesive layer 8b are not electrically short-circuited. .

また接着剤層8 rtは、たとえばスクリーン印刷やオ
フセント印刷などの印刷法によって電極2上に選択的に
形成することもできる。印刷法によれば、接着剤層8a
のパターン形成が容易であるとともに、導電性を有する
接着剤を用いた場合に特に必要とされる不要な接着剤J
l18bグ】除去を行う必要がなく、製造工程が簡素化
される。
Further, the adhesive layer 8 rt can also be selectively formed on the electrode 2 by a printing method such as screen printing or offset printing. According to the printing method, the adhesive layer 8a
It is easy to form a pattern, and it also eliminates the need for unnecessary adhesives, especially when using conductive adhesives.
[118b] No removal is necessary, simplifying the manufacturing process.

第4図(5)は、上述のようにして突起電極が形成され
た半導体装置6の液晶表示板12に対する接続工程を説
明するための断面図である。半導体装W6の突起電極が
形成された表面と、液晶表示板12f)配線電極13が
形成された表面とを対向させ、導電性粒子5と配線電極
13とを位置合わせする。このように位置合わせされた
基板112間に、比較的低温度で硬化する接着剤14を
デイスペンサなどの定量吐出装置によって注入して充填
する。この状態で半導体装置6を液晶表示板12に対し
て接着剤層14を介して矢符19方向に、電極2,13
間が所定の距離r1となるまで加圧する。この加圧状態
において接着剤層14を硬化させることによって、半導
体装置6が液晶表示板12に実装される。
FIG. 4(5) is a cross-sectional view for explaining the process of connecting the semiconductor device 6 on which the protruding electrodes are formed as described above to the liquid crystal display panel 12. The surface of the semiconductor device W6 on which the protruding electrodes are formed is opposed to the surface on which the wiring electrodes 13 (of the liquid crystal display panel 12f) are formed, and the conductive particles 5 and the wiring electrodes 13 are aligned. An adhesive 14 that hardens at a relatively low temperature is injected and filled between the substrates 112 aligned in this manner using a metering device such as a dispenser. In this state, the semiconductor device 6 is attached to the liquid crystal display board 12 through the adhesive layer 14 in the direction of the arrow 19, and the electrodes 2, 13
Pressure is applied until the distance between them reaches a predetermined distance r1. By curing the adhesive layer 14 in this pressurized state, the semiconductor device 6 is mounted on the liquid crystal display board 12.

基板1,12間に接着剤14を充填する他の方法として
は、基板1と液晶表示板12の電極2゜13を相互に位
置合わせする前の段階で、基板1および液晶表示板12
のどちらか一方表面あるいは両人面に接着剤1・1を印
刷などの方法によって予め塗布しておくことも可能であ
る。
Another method for filling the adhesive 14 between the substrates 1 and 12 is to fill the adhesive 14 between the substrates 1 and the liquid crystal display panel 12 before aligning the electrodes 2 13 of the substrate 1 and the liquid crystal display panel 12 with each other.
It is also possible to apply the adhesive 1.1 in advance to one or both surfaces by a method such as printing.

以上説明した製造工程によって、基板1と液晶表示板1
2の電極2.13間は電気的に接続されて、第1図に示
される接続構造を有した状態で半導体装置6が液晶表示
板12に実装される。この実装状態で、第2図に示され
るように、導電性粒子5は第4図(5)の矢符1っで示
される加圧方向に弾性変形した状態で接着剤R1llに
よって基板1,12間に固定される。
Through the manufacturing process explained above, the substrate 1 and the liquid crystal display panel 1 are
The two electrodes 2 and 13 are electrically connected, and the semiconductor device 6 is mounted on the liquid crystal display board 12 with the connection structure shown in FIG. In this mounted state, as shown in FIG. 2, the conductive particles 5 are elastically deformed in the pressing direction shown by arrow 1 in FIG. fixed between.

この状信で導電性粒子5は、表面の金R層5aが電ff
12.13間を電気的に接続する役目を果たすと共に、
基板1,12が外部からの熱的またはflltiJ的な
影響によって反りやうねりなどといった変形を生じた場
きでも、この導電性粒子−5がその弾性によって変形し
て追随し、電極2.13間の電気的接続は常に保たれる
。また特に、導電性粒子5の弾性部材5bと接着剤層8
=t、14とは、先に述べたようにその熱膨張率が同程
度の材料から構成されているから、熱膨張率の差異に起
因して接続状!D、が不安定となるといった事磐は防止
される。したがって接続の信頼性が向上される。
In this letter, the gold R layer 5a on the surface of the conductive particles 5 is
In addition to serving as an electrical connection between 12 and 13,
Even if the substrates 1 and 12 are deformed such as warping or waviness due to external thermal or fulltiJ influence, the conductive particles 5 deform and follow the elasticity of the conductive particles 5, causing a gap between the electrodes 2 and 13. electrical connection is maintained at all times. In particular, the elastic member 5b of the conductive particles 5 and the adhesive layer 8
=t, 14 is made of materials with similar coefficients of thermal expansion as mentioned above, so it is connected due to the difference in coefficient of thermal expansion! This prevents D from becoming unstable. Therefore, the reliability of the connection is improved.

また導電性粒子5の表面に被覆された金属層5rLは、
さらにその表面が接着剤層14によってモールドされた
状態となる。これによって基板1゜12間の空間が接着
剤111によって封止され、外気など侵入が防止される
。また金属層5aの弾性部材5bに対する密着性が多少
悪くとも、その表面から金属層5aが剥離して電気的接
続不良を生じるといった不所望な単信が防止されて接続
の信頼性が向上する。
Moreover, the metal layer 5rL coated on the surface of the conductive particles 5 is
Further, the surface is molded with the adhesive layer 14. As a result, the space between the substrates 1 and 12 is sealed by the adhesive 111, and outside air is prevented from entering. Further, even if the adhesion of the metal layer 5a to the elastic member 5b is somewhat poor, undesirable simplexes such as peeling of the metal layer 5a from the surface and poor electrical connection are prevented, and the reliability of the connection is improved.

第5図は、池の実施例である導電性粒子4の断面図であ
る。本実施例の導電性粒子4は、たとえばシリコーンゴ
ムやウレタンゴムなどのゴム類および合成樹脂などの弾
性を有する高分子材料中に、Au、Ag、Ni、C,C
Ll、P(1、Pb、Sr+、あるいはI rrなどの
金属、またはこれら金属のh金の微粒子を混きし、これ
を材料として形成した導電性付子4である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of the conductive particles 4 as an example of a pond. The conductive particles 4 of this example are contained in elastic polymeric materials such as rubbers such as silicone rubber and urethane rubber, and synthetic resins such as Au, Ag, Ni, C, and C.
The conductive attachment 4 is made of a metal such as Ll, P(1, Pb, Sr+, or Irr), or a mixture of these metals with fine gold particles.

したがって導電性粒子4は、弾性を有すると共に、その
き成樹脂中に含まれる金R微粒子によって導電性をも有
する。この導電性粒子4を、先の実施例において用いた
導電性粒子5の代わりに用いることによって、半導体装
置6と液晶表示板12とを電気的に接続することが可能
である。特にこの導電性粒子、=1を用いた場きには、
導電性粒子5においてそのに面に被覆された金属層5a
が製造工程中によ(1離するなどといった不所望な重信
が生じる可能性が完全に取除かれるので、接続の信頼性
がさらに一層向上される。
Therefore, the conductive particles 4 have elasticity and also have conductivity due to the gold R fine particles contained in the formed resin. By using the conductive particles 4 instead of the conductive particles 5 used in the previous embodiment, it is possible to electrically connect the semiconductor device 6 and the liquid crystal display panel 12. Especially when using this conductive particle = 1,
A metal layer 5a coated on the surface of the conductive particle 5
The reliability of the connection is further improved, since the possibility of undesired deviations, such as separation during the manufacturing process, is completely eliminated.

さらに図示はしないけれども、導電性粒子5として、A
ll、Ag、CLI、Ni 、C,Pd、I n、S 
n、pbなどの金属単体あるいはそれらの合金を用いる
こともできる。
Furthermore, although not shown, as the conductive particles 5, A
ll, Ag, CLI, Ni, C, Pd, In, S
Single metals such as n and pb or alloys thereof can also be used.

第6[2Iは、本発明の他の実施例である突起電極が形
成された半導体装置18の断面図である。なお第1[2
1に示した実施例と対応する部分には同一のり照符号を
用いる。第6図に示す構成においては、接着剤層7が導
電性を有する接着剤で構成されている。接着剤層7の材
f:1として、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、あるいはシリコーン
系樹脂などの各種合成樹脂を用い、この接着剤層7a中
に、たとえばAu、Ag、Cu、N i 、C,Pd、
pb、S rt 、あるいはI rtなどの導電性材料
あるいはこれら導電性材料の合金などから成る微粒子7
bを混かして導電性を11与する。この接着剤N7を、
第4図に関して説明した方法によって電12表面に選択
的に形成し、その表面に導電性粒子5を1・1着させて
突起電極を形成する。
No. 6 [2I] is a cross-sectional view of a semiconductor device 18 in which a protruding electrode is formed, which is another embodiment of the present invention. Note that the first [2
The same reference numerals are used for parts corresponding to those in the embodiment shown in FIG. In the configuration shown in FIG. 6, the adhesive layer 7 is made of a conductive adhesive. The material f of the adhesive layer 7: 1 is acrylic resin, polyester resin,
Various synthetic resins such as urethane resin, epoxy resin, or silicone resin are used, and in this adhesive layer 7a, for example, Au, Ag, Cu, Ni, C, Pd,
Fine particles 7 made of a conductive material such as pb, S rt or I rt or an alloy of these conductive materials
Mix b to give 11 conductivity. This adhesive N7,
The conductive particles 5 are selectively formed on the surface of the electrode 12 by the method explained in connection with FIG. 4, and the conductive particles 5 are deposited one by one on the surface to form a protruding electrode.

このようにして突起電極が形成された半導体装置18に
おいては、接着剤層7自体が導電性を有しているので、
その表面に埋設される導電性粒子5の他端部が電極2表
面と必ずしも接触していなくとも、導電性を有する接着
剤層7を介して液晶表示板12の配線電113と接触し
た金属N5ELと電極2とが電気的に接続される。また
本実施例においても、導電性粒子5の代わりに第5図に
示した導電性粒子4、またはAu、Ag、Cu、Ni 
、 C,P (1、I rt 、S rl、Pbなどの
金属あるいはそれらの合金から成る粒子を用いることが
可能である。
In the semiconductor device 18 in which the protruding electrodes are formed in this way, since the adhesive layer 7 itself has conductivity,
Even if the other end of the conductive particles 5 embedded in the surface thereof is not necessarily in contact with the surface of the electrode 2, the metal N5EL is in contact with the wiring conductor 113 of the liquid crystal display board 12 via the conductive adhesive layer 7. and electrode 2 are electrically connected. Also in this example, instead of the conductive particles 5, conductive particles 4 shown in FIG. 5 or Au, Ag, Cu, Ni
It is possible to use particles made of metals such as , C, P (1, I rt , S rl, Pb, or alloys thereof.

本実施例においては、半導体装置6,18の基板1上に
突起電極を形成して液晶表示板12に接続するt%斤に
ついて説明した。しかしながら半導体装置に関連した回
路基板の接続に限定する必要はなく、他の電子部品が実
装される回路基板、たとえばプリント基板、ガラス基板
、フレキシブル基板、セラミック基板などの電極を相互
に電気的に接続する場りにも本発明を実施することが可
能である。
In this embodiment, a t% electrode is described in which protruding electrodes are formed on the substrate 1 of the semiconductor devices 6 and 18 and connected to the liquid crystal display panel 12. However, it is not necessary to limit the connection to circuit boards related to semiconductor devices, and it is not necessary to electrically connect electrodes of circuit boards on which other electronic components are mounted, such as printed circuit boards, glass boards, flexible boards, ceramic boards, etc. It is also possible to implement the present invention wherever there is.

発明の効果 本発明によれば、第1回路基板と第2回路基板との間に
保持層によって保持された介在体によって電極相互の電
気的接続が行われる。したがって微細なピッチを有する
電極の接続においても短絡や漏電といった事態が防止さ
れ、接続の信頼性が格段に向上される。
Effects of the Invention According to the present invention, the electrodes are electrically connected to each other by the intervening body held by the holding layer between the first circuit board and the second circuit board. Therefore, even when connecting electrodes having a fine pitch, situations such as short circuits and leakage are prevented, and the reliability of the connection is significantly improved.

また本発明によれば、回路基板相互の接自には比較的低
温度で硬化する接着剤が用いられる。したがって高温加
熱処理を行って各回路基板を接きする必要がないので、
各構成要素の熱による疲労や熱応力による破損などが生
じることはなく、生産性が格段に向上される。
Further, according to the present invention, an adhesive that hardens at a relatively low temperature is used to bond the circuit boards together. Therefore, there is no need to perform high-temperature heat treatment to connect each circuit board.
There is no possibility of thermal fatigue or damage to each component due to thermal stress, and productivity is greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例を示す断面図、第2図は第1
図の細部を示す拡大断面図、第3I2!は本発明に従っ
て半導体装置6が実装された液晶表示装置10の断面図
、第4図は第1図の接続を得るためf)製造工程を示す
断面図、第5図は他の実施例の導電性粒子4の断面図、
第6図は本発明の池の実施例の半導体装置18を示す断
面図である。 1・・・基板、2・・・電極、3・・・表面保護層、4
.5導電性粒子、6,18・・半導体装置、7.814
・・・接着剤層、10・・・液晶表示装置、11.12
・・・液晶表示板、13・・・配線電極、16・・対向
電極、1つ・・・加圧方向、20・・・紫外線代理人 
 弁理士 西教 圭一部 第 図 第 図 第 図 第 図
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of the present invention, and FIG.
Enlarged sectional view showing details of the figure, No. 3I2! is a cross-sectional view of a liquid crystal display device 10 in which a semiconductor device 6 is mounted according to the present invention, FIG. 4 is a cross-sectional view showing the manufacturing process f) for obtaining the connection shown in FIG. 1, and FIG. A cross-sectional view of the sexual particle 4,
FIG. 6 is a sectional view showing a semiconductor device 18 according to an embodiment of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate, 2... Electrode, 3... Surface protective layer, 4
.. 5 conductive particles, 6,18...semiconductor device, 7.814
...Adhesive layer, 10...Liquid crystal display device, 11.12
...Liquid crystal display board, 13...Wiring electrode, 16...Counter electrode, one...Pressure direction, 20...Ultraviolet agent
Patent Attorney Keibu Saikyo

Claims (1)

【特許請求の範囲】 電極が形成された第1回路基板と、この電極と対応する
位置に電極が形成された第2回路基板とを相互に接続す
る方法において、 第1回路基板の電極上に形成された保持層に、導電性を
有すると共に前記保持層の層厚よりも大きな介在体が埋
設して保持され、 この第1回路基板と第2回路基板とを対向させ、上記介
在体を介して第1および第2回路基板の相互に対応する
電極が接続された状態でこれらを加圧し、予め各回路基
板間に充填された比較的低温度で硬化する接着剤を硬化
させるようにしたことを特徴とする回路基板の接続方法
[Claims] A method for interconnecting a first circuit board on which electrodes are formed and a second circuit board on which electrodes are formed at positions corresponding to the electrodes, comprising: An intervening body having electrical conductivity and having a thickness greater than that of the retaining layer is buried and held in the formed retaining layer, and the first circuit board and the second circuit board are faced to each other, and the intervening body is inserted through the intervening body. Pressure is applied to the first and second circuit boards while their corresponding electrodes are connected to each other, thereby curing the adhesive which is cured at a relatively low temperature and which has been filled between each circuit board in advance. A circuit board connection method characterized by:
JP63314427A 1988-12-12 1988-12-12 Circuit board connection method Expired - Lifetime JPH0793482B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63314427A JPH0793482B2 (en) 1988-12-12 1988-12-12 Circuit board connection method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63314427A JPH0793482B2 (en) 1988-12-12 1988-12-12 Circuit board connection method

Publications (2)

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