JPH02157761A - Photopolymerizable composition - Google Patents
Photopolymerizable compositionInfo
- Publication number
- JPH02157761A JPH02157761A JP31274888A JP31274888A JPH02157761A JP H02157761 A JPH02157761 A JP H02157761A JP 31274888 A JP31274888 A JP 31274888A JP 31274888 A JP31274888 A JP 31274888A JP H02157761 A JPH02157761 A JP H02157761A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- compd
- denotes
- atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title description 18
- -1 iron allene Chemical class 0.000 claims abstract description 46
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004985 dialkyl amino alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 4
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 abstract description 2
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 abstract 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N benzo-alpha-pyrone Natural products C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 5
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 5
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Substances C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N N-phenylglycine Chemical class OC(=O)CNC1=CC=CC=C1 NPKSPKHJBVJUKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Substances [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- SEOVTRFCIGRIMH-UHFFFAOYSA-N indole-3-acetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)O)=CNC2=C1 SEOVTRFCIGRIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Substances CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazolin-2-one Chemical class C1=CC=CC2=NC(O)=NC=C21 AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJTGLPHMQKJRIX-UHFFFAOYSA-N 2,5,5-trimethylcyclohexane-1,3-dione Chemical compound CC1C(=O)CC(C)(C)CC1=O WJTGLPHMQKJRIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOSJKENLZHUUMC-UHFFFAOYSA-N 2-(1-methylindol-2-yl)acetic acid Chemical compound C1=CC=C2N(C)C(CC(O)=O)=CC2=C1 WOSJKENLZHUUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWALJUXKWWBNEO-UHFFFAOYSA-N 2-(4-chloroanilino)acetic acid Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=C(Cl)C=C1 FWALJUXKWWBNEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJVJSULZTHOJGT-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyanilino)acetic acid Chemical compound COC1=CC=C(NCC(O)=O)C=C1 NJVJSULZTHOJGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVYVBENBIMEAJZ-UHFFFAOYSA-N 2-(n-methylanilino)acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(C)C1=CC=CC=C1 DVYVBENBIMEAJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZQSFHYYVUHUNU-UHFFFAOYSA-N 4-butylpyrazolidine Chemical compound CCCCC1CNNC1 WZQSFHYYVUHUNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006539 C12 alkyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100010166 Mus musculus Dok3 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 229960002319 barbital Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920003086 cellulose ether Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- BADXJIPKFRBFOT-UHFFFAOYSA-N dimedone Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(=O)C1 BADXJIPKFRBFOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006222 dimethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011094 fiberboard Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N furan-2,5-dione;styrene Chemical group O=C1OC(=O)C=C1.C=CC1=CC=CC=C1 WOLATMHLPFJRGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003617 indole-3-acetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000002762 monocarboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は可視光の領域にまで感度を有する新規な光重合
性組成物に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a novel photopolymerizable composition that is sensitive to visible light.
(従来の技術)
光重合性組成物は多数の用途に広く利用されており、例
えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用さ
れている。BACKGROUND OF THE INVENTION Photopolymerizable compositions are widely used in numerous applications, including commercial use in printing, copying, resist formation, and others.
これらの組成物は一般にエチレン性不飽和化合物または
その他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開始
剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはアル
カリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している。と
ころが、これらの多(の既知の有用な光重合性組成物は
、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以外
では活性化されないものが多いため、その応用範囲が限
定されているのが現状である。These compositions generally contain an ethylenically unsaturated compound or other type of polymerizable compound, a photoinitiator or photoinitiator system, and preferably a solvent-soluble or aqueous or alkali-soluble organic polymeric binder compound. However, the range of application of these known useful photopolymerizable compositions is limited because the initiators used are often not activated outside the ultraviolet region of the spectrum. This is the current situation.
また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり、アル
ゴンイオンレーザ−などの可視部領域に大きな発振強度
を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術と
して要求されている。そのために可視光線に対して高い
感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対して
高感度な光開始剤が必要である。Furthermore, image forming techniques are required to use visible light instead of ultraviolet rays as a light source, or to perform scanning exposure with a laser such as an argon ion laser that has a large oscillation intensity in the visible region. Therefore, a photopolymerizable material that is highly sensitive to visible light is required, and a photoinitiator that is highly sensitive to visible light is required.
特開昭5.i −155292号公報にはヘキサアリー
ルビスイミダゾールを含む系、特開昭58−15503
号公報には活性ハロゲン化合物と3−ケト置換クマリン
化合物の系、特開昭56−4604には3−ケト置換ク
マリンとN−フェニルグリシンの系、特開昭61−97
650号公報には3−置換クマリンとキナゾリノン誘導
体との組合せ、特開昭61−123603号公報にはへ
キサアリールビスイミダゾールと3−ケト置換クマリン
との組合せの光開始剤系が開示されている。Japanese Patent Publication No. 5. i-155292 discloses a system containing hexaarylbisimidazole, JP-A-58-15503.
No. 4604 discloses a system of an active halogen compound and a 3-keto-substituted coumarin compound, JP-A-56-4604 discloses a system of a 3-keto-substituted coumarin and N-phenylglycine, and JP-A-61-97 discloses a system of a 3-keto-substituted coumarin and N-phenylglycine.
No. 650 discloses a photoinitiator system of a combination of a 3-substituted coumarin and a quinazolinone derivative, and JP-A-61-123603 discloses a photoinitiator system of a combination of a hexaarylbisimidazole and a 3-keto-substituted coumarin. .
(発明が解決しようとする課NM)
しかしながら前記の光開始剤系では感度が不十分であり
、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するために
は、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要である
。(NM problem to be solved by the invention) However, the sensitivity of the photoinitiator system described above is insufficient, and in order to perform scanning exposure at high speed with a lower output laser, a photoinitiator with even higher sensitivity must be found. It is necessary.
(問題点を解決するための手段)
本発明者は以上の問題点を解決すべく、つまり、光重合
性組成物の可視光に対する感度を向上さ辻る目的で、光
開始剤系について鋭意、研究、努力した結果、遂に本発
明を完成するに到った。すなわら本発明は(al少なく
とも一種の常温で非ガス状のエチレン性不飽和化合物、
(b)下記−数式(1)で示される鉄アレン錯体および
(c1下記−数式(II)で示されるキサンテンまたは
千オキナンテン化合物および/または(d)下記−数式
(III)で示される化合物および/または下記−数式
(IV)で示される環状ジケトン化合物を含有すること
を特徴とする光重合性組成物である。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, that is, for the purpose of improving the sensitivity of photopolymerizable compositions to visible light, the present inventors have made extensive efforts regarding photoinitiator systems. As a result of research and efforts, we have finally completed the present invention. That is, the present invention provides (al) at least one ethylenically unsaturated compound that is non-gaseous at room temperature,
(b) Below - an iron allene complex represented by formula (1) and (c1 below - a xanthene or 1,000-ochinanthene compound represented by formula (II) and/or (d) below - a compound represented by formula (III) and/or Alternatively, it is a photopolymerizable composition characterized by containing a cyclic diketone compound represented by the following formula (IV).
(式中R
Ra は同じか又は異なる基であり、
R2はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよ
い XはBF4 、P F& AsFaSbFh F
eCff145nC1* 5bC1b、BiCj!h
を示す。)
^
〔式中、Aは酸素原子または硫黄原子、X′は水素原子
またはハロゲン原子、Yは炭素原子または窒素原子(た
だし、Yが炭素原子の場合は隣接する炭素原子との間(
点線で示した箇所)は二重結合であり、Yが窒素原子の
場合には隣接する炭素との間は一重結合である。)、Z
は酸素原子(この場合には隣接する炭素との間は二重結
合である。)アルコキシ基またはアルカノイルオキシ基
、R3はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキ
シアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、またはア
リール基、R4は水素原子、アルコキシ基、アルキル基
、ジアルキルアミノ基である。)R′
(式中R5、R4、R’l は同しか又は異なる基であ
り、R5はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していて
もよく、R6SR1はベンゼン環と結合して環を形成す
ることもできる。XはS、Se、N−R’で、R1は水
素または01〜C6のアルキル基を示す、)
(式中R′は水素または置換または非置換のアルキルま
たはアラルキル基であり、Gは二価の有機基である。)
本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
iu#ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した
単量体であり、例えば、ペンタエリスリットトリアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが
挙げられる。(In the formula, R Ra is the same or different group, and R2 may form a fused polycyclic compound with a benzene ring. X is BF4, P F & AsFaSbFh F
eCff145nC1* 5bC1b, BiCj! h
shows. ) ^ [In the formula, A is an oxygen atom or a sulfur atom, X' is a hydrogen atom or a halogen atom, and Y is a carbon atom or a nitrogen atom (however, if Y is a carbon atom, there is a
The dotted line) is a double bond, and when Y is a nitrogen atom, the bond with the adjacent carbon is a single bond. ), Z
is an oxygen atom (in this case, there is a double bond between adjacent carbon atoms) an alkoxy group or an alkanoyloxy group, R3 is an alkyl group, a hydroxyalkyl group, an alkoxyalkyl group, a dialkylaminoalkyl group, or an aryl group , R4 is a hydrogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, or a dialkylamino group. )R' (In the formula, R5, R4, and R'l are the same or different groups, R5 may form a fused polycyclic compound with a benzene ring, and R6SR1 is bonded with a benzene ring to form a ring.) (wherein R' is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl or aralkyl group, , G is a divalent organic group.) The ethylenically unsaturated compound used in the present invention is
Monomers suitable for chain growth addition reactions initiated by iu# radicals, such as pentaerythritol triacrylate, polyethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, Examples include trimethylolpropane triacrylate and trimethylolpropane trimethacrylate.
第2の成分(b)は前記−数式(1)で表わされる鉄ア
レン錯体であり、Chemiker−Zeitunt+
108(11)345〜354 (1984)に数多
くの化合物が記載されている。The second component (b) is an iron allene complex represented by the above-mentioned formula (1), and is
108(11) 345-354 (1984).
RI R” はC,〜C12のアルキル基、C2〜
C12のアルケニル基、C2〜C1□のアルキニル基、
C5〜C,のアルコキシ基、シアノ基、アルキルチオ基
、フェノキシ基、02〜C1のモノカルボン酸およびエ
ステルおよびアミド、フェニル基、C2〜C3のアルカ
ノイル基、アンモニウム塩、ピリジニウム基、ニトロ基
、アルキルスルフィニル基、アルキルスルフォニル基、
スルファモイル基より選ばれる。RI R” is a C, ~C12 alkyl group, C2~
C12 alkenyl group, C2-C1□ alkynyl group,
C5-C alkoxy group, cyano group, alkylthio group, phenoxy group, 02-C1 monocarboxylic acid and ester and amide, phenyl group, C2-C3 alkanoyl group, ammonium salt, pyridinium group, nitro group, alkylsulfinyl group, alkylsulfonyl group,
selected from sulfamoyl groups.
具体的には(η6−ベンゼン)(η5−シクロペンタジ
ェニル)鉄(Iり一へキサフルオロホスフェート、(η
6−トルエン)(η5−シクロペンタシュエル)鉄(I
I)へキサフルオロホスフェート、(η6−クメン)(
η5−シクロペンタジェニル)鉄(n)へキサフルオロ
ホスフェート、(η6−ヘンゼン)(η5−シクロペン
タジェニル)鉄(II)へキサフルオロアルセネート、
(η6−ヘンゼン)(ηS−シクロペンタジェニル)鉄
(II)テトラフルオロボレート、(ηbナフタレン)
(η5−シクロペンクジエニル)銖(■)へキサフルオ
ロホスフェート、(η6−アントラセン)(η5−シク
ロペンタジェニル)鉄(n)へキサフルオロホスフェ−
1・、(η6−ピレン)(η5−シクロペンタジェニル
)鉄(II)へキサフルオロホスフェート(η畠−ベン
ゼン)(η5−シアノシクロペンタジェニル)鉄(■)
へキサフルオロホスフェート、(η“−トルエン)(η
5−アセチルシクロペンタジェニル)鉄(ロ)へキサフ
ルオロホスフェート、(η蟲クメン)(η5−クロルシ
クロペンタジェニル)鉄(■)テトラフルオロボレート
、(η−−ベンゼン)(η5−カルボエトキンシクロへ
キサジェニル)!(II)へキサフルオロホスフェ・−
ト、(η6−ベンゼン)(η’−1,3−ジクロルシク
ロへキサジェニル)鉄(II)へキサフルオロホスフェ
ート、(η4−シアノベンゼン)(η5シクロへキサジ
ェニル)鉄(I[)へキサフルオロホスフェート、(η
1−アセトフェノン)(η5−シクロへキサジェニル)
鉄(II)へキサフルオロホスフェート、(η“−メチ
ルベンゾエート)(η5−シクロペンタジェニル)鉄(
I[)へキサフルオロホスフェート、(η6−ベンゼン
スルホンアミド)(η5−シクロペンタジェニル)銖(
■)テトラフルオロボレート、(η6−ヘンズアミド)
(η5−シクロペンタジェニル)a(n)へキサフルオ
ロホスフェ−1・、(η6シアノベンゼン)(η5−シ
アノシクロペンクジエニル)鉄(II)へキサフルオロ
ホスフェート、(η“−クロルナフタレン)(η5−シ
クロペンタジェニル)鉄(II)へキサフルオロホスフ
ェ−1・、(η6−アントラセン)(η5−シアノシク
ロペンタジェニル)鉄(■)へキサフルオロホスフェー
トなどがあげられる。これらの化合物は、Dokl、A
kd、Nauk 5SSR149615(1963)に
記載された方法により合成できる。Specifically, (η6-benzene)(η5-cyclopentadienyl)iron(Iri-hexafluorophosphate, (η
6-toluene)(η5-cyclopentasuel)iron(I
I) Hexafluorophosphate, (η6-cumene) (
η5-cyclopentadienyl) iron(n) hexafluorophosphate, (η6-hensen)(η5-cyclopentagenyl) iron(II) hexafluoroarsenate,
(η6-Hensen) (ηS-cyclopentadienyl) iron(II) tetrafluoroborate, (ηb naphthalene)
(η5-cyclopenkdienyl) (■) hexafluorophosphate, (η6-anthracene) (η5-cyclopentadienyl) iron (n) hexafluorophosphate
1., (η6-pyrene) (η5-cyclopentadienyl) iron (II) hexafluorophosphate (η Hatake-benzene) (η5-cyanocyclopentadienyl) iron (■)
Hexafluorophosphate, (η“-toluene) (η
5-acetylcyclopentadienyl) iron (b) hexafluorophosphate, (η nicumene) (η5-chlorocyclopentagenyl) iron (■) tetrafluoroborate, (η-benzene) (η5-carboethyl) Kinshikurohexagenil)! (II) Hexafluorophosphate -
(η6-benzene)(η'-1,3-dichlorocyclohexagenyl)iron(II) hexafluorophosphate, (η4-cyanobenzene)(η5cyclohexagenyl)iron(I[)hexafluorophosphate, (η
1-acetophenone) (η5-cyclohexagenyl)
Iron (II) hexafluorophosphate, (η“-methylbenzoate) (η5-cyclopentagenyl) iron (
I[)hexafluorophosphate, (η6-benzenesulfonamide) (η5-cyclopentadienyl) (
■) Tetrafluoroborate, (η6-henzamide)
(η5-Cyclopentadienyl)a(n)hexafluorophosphate-1. )(η5-cyclopentadienyl)iron(II)hexafluorophosphate-1., (η6-anthracene)(η5-cyanocyclopentagenyl)iron(■)hexafluorophosphate, etc. The compound of Dokl, A
kd, Nauk 5SSR149615 (1963).
第3成分(c)である前記一般式(II)で表わされる
キサンテンまたはチオキサンテン化合物として、具体的
には、(V)においてXは水素、塩素、臭素など、Zは
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、アセチルオキシ、プ
ロピオニルオキシなど、R1はメチル、エチル、プロピ
ル、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、メトキソメ
チル、メトキシコニチル、ジメチルアミノメチル、ジエ
チルアミノプロピル、フェニル、キシリル、トリル、フ
ェニルなど、R4としては、水素、メトキシ、エトキシ
、メチル、エチル、プロピル、ジメチルアミノ、ジエチ
ルアミノなどが挙げられる。Specifically, as the third component (c), the xanthene or thioxanthene compound represented by the general formula (II), in (V), X is hydrogen, chlorine, bromine, etc., and Z is methoxy, ethoxy, propoxy, Acetyloxy, propionyloxy, etc., R1 is methyl, ethyl, propyl, hydroxymethyl, hydroxyethyl, methoxomethyl, methoxyconityl, dimethylaminomethyl, diethylaminopropyl, phenyl, xylyl, tolyl, phenyl, etc., R4 is hydrogen, methoxy , ethoxy, methyl, ethyl, propyl, dimethylamino, diethylamino, and the like.
第4の成分(dlである前記一般式(III)で表わさ
れる化合物としては、N−フェニルグリジン、N(p−
メチルフェニル)クリシン、N−(p−メトキシフェニ
ル)グリシン、1l−(p−シアノフェニル)グリシン
、N−(p−クロロフェニル)グリシン、N−(rn−
シアノフェニル)グリシン、N−メチル−N−フェニル
グリシン、インドール酢酸、N−メチルインドール酢酸
、6−ジアツインドール酢酸などが挙げられる。Examples of the compound represented by the general formula (III), which is the fourth component (dl), include N-phenylglycine, N(p-
methylphenyl)chrycine, N-(p-methoxyphenyl)glycine, 1l-(p-cyanophenyl)glycine, N-(p-chlorophenyl)glycine, N-(rn-
Examples include cyanophenyl)glycine, N-methyl-N-phenylglycine, indoleacetic acid, N-methylindoleacetic acid, and 6-diathindoleacetic acid.
第4成分(d)である環状ジケトン化合・物は前記一般
式(IV)で表わされ、不安定な水素原子を有する活性
メチレン基のある環状β−ジカルボニル化合物である。The cyclic diketone compound/product which is the fourth component (d) is represented by the above general formula (IV) and is a cyclic β-dicarbonyl compound having an active methylene group having an unstable hydrogen atom.
式中R9は水素、アルキル、置換アルキル、またはアラ
ルキルであり、Gは二価の有機基で基の側中にベテロ原
子を含有していてもよくまた場合により炭素又はへテロ
原子の一方またはその両者が置換基を有していてもよい
ものである。前記においてアルキル基はC,%C,□の
アルキルであり、置換アルキルとして、例えばヒドロキ
シルアルキル、シアノアルキル、ハロアルキル、アルコ
キシアルキレン、アルキレンチオエーテル、アリールオ
キシアルキレンなどが挙げられる。アラルキル基のアリ
ール部分は6〜10個の炭素原子を含有し得る。前記二
価の有機基Gは環を完成させるものである。この部分は
へテロ原子、例えば窒素、酸素および硫黄を含有し得る
。これらの化合物の具体例として、5.5−ジメチル−
1,3−シクロヘキサンジオン、2−メチル−13シク
ロヘキサンジオン、2−メチル−1,3−シクロベンタ
ンジオン、2.4−ジエチル−1,3−シクロブタンジ
オン、2−メチル−13−シクロブタンジオン、5−メ
チル−2−チオバルビッール酸、バルビッール酸、3−
エチルテ]・ロン酸、2.4−ジメチル−3−オキソ−
5−ヒドロキシ−5−メトキシペンテン酸δ−ラクトン
、13.5−トリメチルバルビッール酸、l 3−ジ
メチル5−エチルバルビッール酸、2−メチルジメドン
、l、3−インダンジオン、2−メチルインダンジオン
、ビス−(5−(13−ジメチルバルビツリル)〕メタ
ン、1.5−ジフェニル3− (2−(フェニルチオ)
エチル)−24−ピロリジンジオン、■−フェニル−3
,5−ジヶトー4−n−ブチルテトラヒドロピラゾール
、2゜2−ジメチル−m−ジオキサン−4,6−ジオン
、2.2.5−)ジメチル−m−ジオキサン−4゜6−
ジオン、などがあげられる。In the formula, R9 is hydrogen, alkyl, substituted alkyl, or aralkyl, and G is a divalent organic group which may contain a beta atom on the side of the group and optionally one or more carbon or hetero atoms. Both may have a substituent. In the above, the alkyl group is an alkyl having C, %C, □, and examples of the substituted alkyl include hydroxylalkyl, cyanoalkyl, haloalkyl, alkoxyalkylene, alkylene thioether, and aryloxyalkylene. The aryl portion of the aralkyl group may contain 6 to 10 carbon atoms. The divalent organic group G completes the ring. This moiety may contain heteroatoms such as nitrogen, oxygen and sulfur. Specific examples of these compounds include 5,5-dimethyl-
1,3-cyclohexanedione, 2-methyl-13cyclohexanedione, 2-methyl-1,3-cyclobentanedione, 2,4-diethyl-1,3-cyclobutanedione, 2-methyl-13-cyclobutanedione, 5 -Methyl-2-thiobarbylic acid, barbylic acid, 3-
ethylte]・ronic acid, 2,4-dimethyl-3-oxo-
5-Hydroxy-5-methoxypentenoic acid δ-lactone, 13.5-trimethylbarbital acid, l 3-dimethyl 5-ethylbarbital acid, 2-methyldimedone, l,3-indanedione, 2- Methylindandione, bis-(5-(13-dimethylbarbituryl))methane, 1,5-diphenyl 3-(2-(phenylthio)
ethyl)-24-pyrrolidinedione, ■-phenyl-3
, 5-digate 4-n-butyltetrahydropyrazole, 2゜2-dimethyl-m-dioxane-4,6-dione, 2.2.5-)dimethyl-m-dioxane-4゜6-
Examples include Zeon.
本発明組成物中には好ましくは熱可塑性高分子量有機重
合体結合剤を存在させてもよい。重合体結合剤タイプと
しては(1)テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸
、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸に基くコ
ポリエステル、(11)ポリアミド、(iii )ビニ
リデンクロリド共重合体、(1v)エチレン/ビニルア
セテート共重合体、(■)セルロースエーテル、(vi
)ポリエチレン、(vi)合成ゴム、(vi)セルロ
ースエステル、(■)ポリビニルアセテート/アクリレ
ートおよびポリビニルアセテート/メタクリレート共重
合体を含むポリビニルエステル、(X)ポリアクリレー
トおよびポリα−アルキルアクリレートエステル例えば
ポリメチルメタクリレートおよびポリエチルメタクリレ
ート、(x i ) 4,000〜4 、000 、0
00の重量平均分子量を有する高分子量エチレンオキシ
ド重合体(ポリエチレングリコール)、(xii)ポリ
塩化ビニルおよびその共重合体、(xiii)ポリビニ
ルアセクール、(xiv)ポリホルムアルデヒド、(X
V)ポリウレタン、(xvi)ポリカーボネートおよび
(xvii)ポリスチレンがあげられる。A thermoplastic high molecular weight organic polymeric binder may preferably be present in the composition of the invention. Polymeric binder types include (1) copolyesters based on terephthalic acid, isophthalic acid, sebacic acid, adipic acid and hexahydroterephthalic acid, (11) polyamides, (iii) vinylidene chloride copolymers, (1v) ethylene/ vinyl acetate copolymer, (■) cellulose ether, (vi
) polyethylene; (vi) synthetic rubber; (vi) cellulose ester; Methacrylate and polyethyl methacrylate, (xi) 4,000 to 4,000,0
High molecular weight ethylene oxide polymer (polyethylene glycol) having a weight average molecular weight of 0.00, (xii) polyvinyl chloride and its copolymers, (xiii) polyvinyl acecool, (xiv) polyformaldehyde, (X
V) polyurethane, (xvi) polycarbonate and (xvii) polystyrene.
本発明組成物において、特に好ましい光重合性結合剤と
しては、未露光光重合性コーティングが例えばアルカリ
性溶液である主として水性の溶’t(+。Particularly preferred photopolymerizable binders in the compositions of the invention include those in which the unexposed photopolymerizable coating is a predominantly aqueous solution, for example an alkaline solution.
には可溶性であるが、活性線放射に露光後は比較的それ
に不溶性となるような光重合性結合剤が好ましい。典型
的にはこれらの要求を満足させる重合体はカルボキシル
化重合体、例えば遊離カルボン酸基含有ビニル付加重合
体である。好ましい結合剤としてはイソブタノール混合
物で部分エステル化された酸価約190、重量平均分子
盟約10,000のスチレン/マレイン酸無水物(1:
1)の共重合体、およびスチレン/マレイン酸無水物
の共重合体とエチルアクリレート/メチルメタクリレー
ト/アクリル酸のターポリマーとの組み合わせが挙げら
れる。その他の好ましい結合剤としては、ポリアクリレ
ートエステルおよびポリα−アルキルアクリレートエス
テル、特にポリメチルメタクリレートが挙げられる。Preferred are photopolymerizable binders that are soluble in, but become relatively insoluble in after exposure to actinic radiation. Polymers that typically meet these requirements are carboxylated polymers, such as vinyl addition polymers containing free carboxylic acid groups. A preferred binder is a styrene/maleic anhydride (1:
1) and a combination of a styrene/maleic anhydride copolymer and an ethyl acrylate/methyl methacrylate/acrylic acid terpolymer. Other preferred binders include polyacrylate esters and polyalpha-alkyl acrylate esters, especially polymethyl methacrylate.
その他の不活性添加剤例えば非重合性可塑剤、染料、顔
料および充填剤などは光重合性層の露光を阻害させない
程度に配合してもよい。Other inert additives such as non-polymerizable plasticizers, dyes, pigments and fillers may be added to the extent that they do not inhibit the exposure of the photopolymerizable layer.
本発明の光重合性組成物の好ましい配合比率を成分(a
)であるエチレン性不飽和化合物100重量部に対する
重量部で表わすと、成分[有])である鉄アレン錯体は
0.01〜50重量部、特に好ましくは0.1〜30重
量部、成分(c1であるキサンテンまたはチオキサンテ
ン化合物 はそれぞれ0.01〜201を置部、特に好
ましくは 0.1〜20重量部、成分(d)である一般
式(II)で表わされる化合物または環状ジケトン化合
物はそれぞれ0.01〜20重量部、特に好ましくは0
.1〜20重量部、結合剤は0−1000重量部、好ま
しくは0〜50重量部である。The preferred blending ratio of the photopolymerizable composition of the present invention is the component (a
Expressed in parts by weight based on 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound which is component (), the iron allene complex which is component The xanthene or thioxanthene compound c1 contains 0.01 to 201 parts, particularly preferably 0.1 to 20 parts by weight, and the component (d) the compound represented by the general formula (II) or the cyclic diketone compound contains 0.01 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.01 to 20 parts by weight, respectively.
.. 1 to 20 parts by weight, and the binder is 0 to 1000 parts by weight, preferably 0 to 50 parts by weight.
なお本発明光重合性組成物は広範囲な種類の碁打上にコ
ーティングすることができる。The photopolymerizable composition of the present invention can be coated on a wide variety of Go boards.
「基材」とはすべての天然または合成支持体、好ましく
は可撓性または剛性のフィルムまたはシートの形で存在
しうるちのを意味している。例えば基材は金属シートま
たは笛、合成有機樹脂のシートまたはフィルム、セルロ
ース紙、ファイバーボードその他またはこれらの物質の
2種またはそれ以上のものの複合体でありうる。特定の
4+Aとしてはアルミナブラストアルミニウム、アノー
ド処理アルミニウム、アルミブラストポリエチレンテレ
フタレートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム、静電放電処理ポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリビニルアルコールコーティングした紙、交叉結
合ポリエステルコーチインク紙、ナイロン、ガラス、セ
ルロースアセテートフィルムその他が挙げられる。By "substrate" is meant any natural or synthetic support, preferably present in the form of a flexible or rigid film or sheet. For example, the substrate can be a metal sheet or pipe, a sheet or film of synthetic organic resin, cellulose paper, fiberboard, etc. or a composite of two or more of these materials. Specific 4+A's include alumina blasted aluminum, anodized aluminum, aluminum blasted polyethylene terephthalate film, polyethylene terephthalate film, electrostatic discharge treated polyethylene terephthalate film, polyvinyl alcohol coated paper, crosslinked polyester coach ink paper, nylon, glass, cellulose acetate. Examples include film and others.
特定の凸材は一般に関連する適用目的により決定される
。例えば印刷回路が製造される場合には、基材はファイ
バーボード上に銅コーテイングしたプレートでありうる
。平版印刷プレートの製造においては、基材は7ノード
処理アルミニウムである。The particular ridge material will generally be determined by the application purpose involved. For example, if printed circuits are to be manufactured, the substrate may be a copper coated plate on fibreboard. In the manufacture of lithographic printing plates, the substrate is 7-node treated aluminum.
好ましくは光重合性組成物の層は約o、oootインチ
(0,0O025C!1 ) 〜約0.01インチ(0
,025CI+)の範囲の厚さを有しており、そして光
重合性層に活性な放射を通過しうる薄い可撓性の重合体
フィルム支持体に程度ないし中等度接着性をもって接着
さ″れている。それに保護カバー層またはカバーシート
を接着させることができる。このシートはフィルム支持
体と層との間の接着力よりも小さい接着力を層に対して
有している。特に好ましい支持体は約0.001 イ
ンチ(0,0025C11) 〜約0.4 インチ(1
,0cm)の範囲の厚さを有する透明ポリエチレンテレ
フタレートフィルムである。また、0.0005インチ
(0,0013CI ) 〜0.04インチ(0、l
Ocm ) のポリエチレンは好ましいカバーシート
であり、ポリビニルアルコールコーティングは好ましい
カバー層である。Preferably, the layer of photopolymerizable composition has a thickness of about 0,000 cm to about 0.01 cm.
. A protective cover layer or cover sheet can be adhered thereto, which sheet has an adhesive force to the layer that is less than the adhesive force between the film support and the layer.A particularly preferred support is Approximately 0.001 inch (0,0025C11) to approximately 0.4 inch (1
, 0 cm). Also, 0.0005 inch (0,0013 CI) to 0.04 inch (0, l
Ocm ) polyethylene is the preferred cover sheet and a polyvinyl alcohol coating is the preferred cover layer.
本発明組成物を露光する際、通常の光源としては405
.436および546nm(Ilg)波長に中心を有す
る狭いかまたは広い光バンドを与える蛍光燈、水銀灯、
金属添加ランプおよびアークランプが挙げられる。干渉
光源はパルス式キセノン、アルゴンイオン、ヘリウム−
カドミウム、およびイオン化ネオンレーザ−などである
、プリントアウト系に広く使用されている可視光発生陰
極線管もまた本発明の組成物に関して有用である。これ
らは−般に電気エネルギーを光エネルギーに変換させる
ための手段として紫外または可視光発生性燐光体内部コ
ーティングをそして放射を光感受性ターゲッ!・に導(
ための手段として光学ファイバーフェイスプレートを包
含している。When exposing the composition of the present invention, the usual light source is 405
.. Fluorescent lamps, mercury lamps, giving narrow or broad bands of light centered at 436 and 546 nm (Ilg) wavelengths;
Mention may be made of metal-doped lamps and arc lamps. The interference light source is pulsed xenon, argon ion, helium.
Visible light generating cathode ray tubes commonly used in printout systems, such as cadmium and ionizing neon lasers, are also useful with the compositions of the present invention. These generally include an internal coating of ultraviolet or visible light-emitting phosphor as a means to convert electrical energy into light energy and direct the radiation to a light-sensitive target.・Lead to (
A fiber optic faceplate is included as a means for this purpose.
(作 用)
本発明の増悪剤すなわち成分(c)は本来、本発明に使
用される光開始剤すなわち成分(b)が吸収し得ないか
または非常に小さな吸光度しか示さない可視光を効率よ
く吸収し、活性化される。その状態で本発明の増感剤は
本発明で使用される光開始剤に作用し、結果的に活性な
ラジカルを発生させ、そのラジカルが組成物中のエチレ
ン性不飽和化合物を攻撃して、重合を起こすわけである
。(Function) The aggravating agent of the present invention, that is, the component (c) originally effectively absorbs visible light that the photoinitiator, that is, the component (b) used in the present invention cannot absorb or exhibits a very small absorbance. absorbed and activated. In that state, the sensitizer of the present invention acts on the photoinitiator used in the present invention, resulting in generation of active radicals, which attack ethylenically unsaturated compounds in the composition, This causes polymerization.
(実施例)
以下実施例により本発明を具体的に説明するがここに部
および%は重量基準ある。(Example) The present invention will be specifically explained below with reference to Examples, in which parts and percentages are based on weight.
実施例1〜25、比較例1〜8
下引き層を有する100 μ厚さの透明なポリエチレン
テレフタレートフィルム上に下記組成の感光層塗工液を
塗布し、熱風乾燥機にて90″C1分間乾燥し、厚さ3
μの塗膜を得た0次いでその上に7%ポリビニルアルコ
ール(完全ケン化、重合度500〕の水溶液を塗布し熱
風乾燥機で100℃1分間乾燥して厚さ1μのオーバー
コート層を設けて、感度テスト片を得た。Examples 1 to 25, Comparative Examples 1 to 8 A photosensitive layer coating solution having the following composition was applied onto a 100 μ thick transparent polyethylene terephthalate film having an undercoat layer, and dried for 1 minute at 90″C in a hot air dryer. and thickness 3
After obtaining a coating film of μ, an aqueous solution of 7% polyvinyl alcohol (completely saponified, degree of polymerization 500) was applied on top of the coating, and dried in a hot air dryer at 100°C for 1 minute to form an overcoat layer with a thickness of 1μ. A sensitivity test piece was obtained.
(感光層塗工液組成)
ポリ(メタクリル酸メチル/
メタクリル酸)52部
70 / 30モル比
テトラエチレングリコール
ジアクリレート 40
成分(b)5
成分(c)3
成分(d)3
メタノール 200酢酸エ
チル 8゜クロロホルム
120上記感度テスト片上に
ネガフィルムとして21、/1’−ステップタブレット
(大日本スクリーン社製クレーフィルムスケール)を重
ねて、キセノンランプ(ウシオ電機社製tJX L−5
00D−0) 4.:東芝社製干渉フィルターKL−4
9と同色ガラスフィルターY−45を組み合わせた光i
fQ(490nmA)で15cmの距離から5分間露光
した後、30’C0,7%炭酸ナトリウム水溶液に10
秒間浸漬し、水洗して未硬化部分を除去し乾燥した後、
21部丁ステップタブレットの完全硬化の段数(ステッ
プ)を調べ、それを表1〜表3に示す。また比較例を表
4に示す0表1〜表4より明らかなように本発明の実施
例1〜25は比較例1〜8に比べ490nmの光に対し
て高感度であることが判る。(Composition of photosensitive layer coating liquid) Poly(methyl methacrylate/methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol diacrylate 40 Component (b) 5 Component (c) 3 Component (d) 3 Methanol 200 Ethyl acetate 8゜Chloroform
120 A 21,/1'-step tablet (clay film scale manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.) was placed as a negative film on the above sensitivity test piece, and a xenon lamp (tJX L-5 manufactured by Ushio Inc.
00D-0) 4. : Toshiba interference filter KL-4
Light i combining 9 and the same color glass filter Y-45
After exposure for 5 minutes from a distance of 15 cm with fQ (490 nmA), 10
After soaking for seconds, washing with water to remove uncured parts, and drying,
The number of steps for complete curing of the 21-part step tablet was investigated and is shown in Tables 1 to 3. Further, as is clear from Tables 1 to 4, which show comparative examples in Table 4, Examples 1 to 25 of the present invention are more sensitive to light of 490 nm than Comparative Examples 1 to 8.
(発明の効果)
本発明の光重合性組成物は、可視光に対して高感度を示
すため、低いエネルギーの露光光源を使用することがで
き、与えられた時間内に多数の原版を露光および現像で
きる。(Effects of the Invention) Since the photopolymerizable composition of the present invention exhibits high sensitivity to visible light, a low energy exposure light source can be used, and a large number of originals can be exposed and exposed within a given time. Can be developed.
また、露光源を原版より遠ざけることができるため、そ
の光線が平行化され、例えば網点画像形成する場合、垂
直の側部を有するシャープな網点を形成することができ
るなど種々の利点を有する。In addition, since the exposure source can be moved away from the original, the light rays are collimated, which has various advantages such as the ability to form sharp halftone dots with vertical sides when forming halftone images, for example. .
特許出願人 東洋紡績株式会社Patent applicant: Toyobo Co., Ltd.
Claims (1)
飽和化合物 (b)下記一般式( I )で示される鉄アレン錯体、 (c)下記一般式(II)で示されるキサンテンまたはチ
オキサンテン化合物および/または (d)下記一般式(III)で示される化合物および/ま
たは下記一般式(IV)で示される環状ジケトン化合物を
含有することを特徴とする光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1、R^2は同じか又は異なる基であり、R
^2はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよ
い。XはBF_4、PF_6、AsF_6、SbF_6
、FeCl_4、SnCl_6、SbCl_6、BiC
l_6を示す。) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、Aは酸素原子または硫黄原子、X′は水素原子
またはハロゲン原子、Yは炭素原子または窒素原子(た
だし、Yが炭素原子の場合は隣接する炭素原子との間(
点線で示した箇所)は二重結合であり、Yが窒素原子の
場合には隣接する炭素との間は一重結合である。)、Z
は酸素原子(この場合には隣接する炭素との間は二重結
合である。)アルコキシ基またはアルカノイルオキシ基
、R^3はアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコ
キシアルキル基、ジアルキルアミノアルキル基、または
アリール基、R^4は水素原子、アルコキシ基、アルキ
ル基、ジアルキルアミノ基である。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^5、R^6、R^7は同じか又は異なる基で
あり、R^5はベンゼン環と縮合多環化合物を形成して
いてもよく、R^6、R^7はベンゼン環と結合して環
を形成することもできる。X″はS、Se、N−R^8
で、R^8は水素またはC_1〜C_6のアルキル基を
示す。) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中R^9は水素または置換または非置換のアルキル
またはアラルキル基であり、Gは二価の有機基である。 )[Scope of Claims] (a) at least one ethylenically unsaturated compound that is non-gaseous at room temperature; (b) an iron allene complex represented by the following general formula (I); (c) an iron allene complex represented by the following general formula (II). and/or (d) a compound represented by the following general formula (III) and/or a cyclic diketone compound represented by the following general formula (IV). . ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R^1 and R^2 are the same or different groups, and R
^2 may form a fused polycyclic compound with a benzene ring. X is BF_4, PF_6, AsF_6, SbF_6
, FeCl_4, SnCl_6, SbCl_6, BiC
Indicates l_6. ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (II) [In the formula, A is an oxygen atom or a sulfur atom, X' is a hydrogen atom or a halogen atom, and Y is a carbon atom or a nitrogen atom (however, if Y is a carbon atom) between adjacent carbon atoms (
The dotted line) is a double bond, and when Y is a nitrogen atom, the bond with the adjacent carbon is a single bond. ), Z
is an oxygen atom (in this case, there is a double bond between adjacent carbon atoms) an alkoxy group or an alkanoyloxy group, R^3 is an alkyl group, a hydroxyalkyl group, an alkoxyalkyl group, a dialkylaminoalkyl group, or The aryl group R^4 is a hydrogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, or a dialkylamino group. ] ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(III) (In the formula, R^5, R^6, and R^7 are the same or different groups, and R^5 forms a fused polycyclic compound with a benzene ring. R^6 and R^7 can also be combined with a benzene ring to form a ring. X'' is S, Se, N-R^8
Here, R^8 represents hydrogen or an alkyl group of C_1 to C_6. ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(IV) (In the formula, R^9 is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl or aralkyl group, and G is a divalent organic group.)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31274888A JPH02157761A (en) | 1988-12-10 | 1988-12-10 | Photopolymerizable composition |
DE3918105A DE3918105A1 (en) | 1988-06-02 | 1989-06-02 | PHOTOPOLYMERIZABLE COMPOSITION |
US07/360,831 US4987056A (en) | 1988-06-02 | 1989-06-02 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31274888A JPH02157761A (en) | 1988-12-10 | 1988-12-10 | Photopolymerizable composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02157761A true JPH02157761A (en) | 1990-06-18 |
Family
ID=18032946
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31274888A Pending JPH02157761A (en) | 1988-06-02 | 1988-12-10 | Photopolymerizable composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02157761A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004264728A (en) * | 2003-03-04 | 2004-09-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60221403A (en) * | 1984-04-18 | 1985-11-06 | Nippon Kayaku Co Ltd | Polymerizable resin composition |
JPS6231844A (en) * | 1985-08-01 | 1987-02-10 | Nippon Paint Co Ltd | Lithographic plate material |
JPS62288603A (en) * | 1986-06-06 | 1987-12-15 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Highly sensitive photopolymerizable composition |
JPS63258903A (en) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
-
1988
- 1988-12-10 JP JP31274888A patent/JPH02157761A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60221403A (en) * | 1984-04-18 | 1985-11-06 | Nippon Kayaku Co Ltd | Polymerizable resin composition |
JPS6231844A (en) * | 1985-08-01 | 1987-02-10 | Nippon Paint Co Ltd | Lithographic plate material |
JPS62288603A (en) * | 1986-06-06 | 1987-12-15 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Highly sensitive photopolymerizable composition |
JPS63258903A (en) * | 1987-04-16 | 1988-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004264728A (en) * | 2003-03-04 | 2004-09-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4987056A (en) | Photopolymerizable composition | |
JP2757375B2 (en) | Photopolymerizable composition | |
CA1230004A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPS63178105A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH0743896A (en) | Photopolymerizable composition | |
JP2536594B2 (en) | Photopolymerization initiator and photopolymerizable composition using the same | |
JPH0829973A (en) | Photopolymerized composition | |
JPS62123450A (en) | Photopolymerizable composition | |
GB2189496A (en) | Photopolymerizable composition | |
JP2536528B2 (en) | Photopolymerization initiator and photopolymerizable composition using the same | |
JPH04184344A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH02157761A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH06332173A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH063546B2 (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH06167807A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH0980750A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH02113250A (en) | Photopolymerizable composition | |
JP2701453B2 (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH06332172A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPS60247639A (en) | Photoinsolubilizable photosensitive material | |
JPS6076735A (en) | Photosetting resin composition | |
JPH03210566A (en) | Photopolymerizable composition sensitive to visible light | |
JPH01223444A (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH06161106A (en) | Photo-polymerized composition | |
JPH02157760A (en) | Photopolymerizable composition |