JPH03210566A - Photopolymerizable composition sensitive to visible light - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は可視光の領域にまで感度を有する新規な光重合
性組成物に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a novel photopolymerizable composition that is sensitive to visible light.
(従来の技術)
光重合性組成物は多数の用途に広く利用されており、例
えば印刷、複写、レジスト形成その他に商業的に利用さ
れている。BACKGROUND OF THE INVENTION Photopolymerizable compositions are widely used in numerous applications, including commercial use in printing, copying, resist formation, and others.
これらの組成物は一般にエチレン性不飽和化合物または
その他のタイプの重合性化合物、光開始剤または光開始
剤系そして好ましくは溶媒可溶性または水性またはアル
カリ可溶性有機重合体結合剤化合物を含有している。と
ころが、これらの多くの既知の有用な光重合性組成物は
、使用されている開始剤がスペクトルの紫外部領域以外
では活性化されないものが多いため、その応用範囲が限
定されているのが現状である。These compositions generally contain an ethylenically unsaturated compound or other type of polymerizable compound, a photoinitiator or photoinitiator system, and preferably a solvent-soluble or aqueous or alkali-soluble organic polymeric binder compound. However, the range of application of many of these known useful photopolymerizable compositions is currently limited because the initiators used are often not activated outside the ultraviolet region of the spectrum. It is.
また光源として紫外線でなく可視光線を用いたり、アル
ゴンイオンレーザ−などの可視部領域に大きな発振強度
を有するレーザーで走査露光することが画像形成技術と
して要求されている。そのために可視光線に対して高い
感度を有する光重合性材料が要望され、可視光に対して
高感度な光開始剤の開発が望まれている。Furthermore, image forming techniques are required to use visible light instead of ultraviolet rays as a light source, or to perform scanning exposure with a laser such as an argon ion laser that has a large oscillation intensity in the visible region. For this reason, there is a demand for photopolymerizable materials that are highly sensitive to visible light, and there is a demand for the development of photoinitiators that are highly sensitive to visible light.
そこで高感度を有する光開始剤として、特開昭54−1
55292号公報にはへキサアリールビスイミダゾール
を含む系、特開昭58−15503号公報には活性ハロ
ゲン化合物と3−ケト置換クマリン化合物の系、特開昭
56−4604号公報には3−ケト置換クマリンとN−
フェニルグリシンの系、特開昭6197650号公報に
は3−置換クマリンとキナゾリノン誘導体との組合せ、
特開昭61−123603号公報にはへキサアリールビ
スイミダゾールと3−ケト置換クマリンとの組合せの光
開始剤系が開示されている。Therefore, as a photoinitiator with high sensitivity, JP-A-54-1
No. 55292 discloses a system containing hexaarylbisimidazole, JP-A-58-15503 discloses a system containing an active halogen compound and a 3-keto-substituted coumarin compound, and JP-A-56-4604 discloses a system containing a 3-keto substituted coumarin compound. Substituted coumarin and N-
Phenylglycine system, JP-A-6197650 discloses a combination of 3-substituted coumarin and quinazolinone derivative,
JP-A-61-123603 discloses a photoinitiator system of a combination of hexaarylbisimidazole and a 3-keto substituted coumarin.
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら前記の光開始剤系では感度が不十分であり
、より低出力のレーザーで高速度で走査露光するために
は、さらに高感度な光開始剤を見出すことが必要である
。(Problem to be Solved by the Invention) However, the sensitivity of the photoinitiator systems described above is insufficient, and in order to perform scanning exposure at high speed with a lower output laser, it is necessary to find a photoinitiator with even higher sensitivity. is necessary.
(課題を解決するための手段)
本発明者は以上の課題を解決すべく、つまり、光重合性
組成物の可視光に対する感度を向上させる目的で、光開
始剤系について鋭意、研究、努力した結果、遂に本発明
を完成するに到った。すなわち本発明は(a)少なくと
も一種の常温で非ガス状エチレン性不飽和化合物、し)
下記一般式CI)で示される鉄アレン錯体、(c)下記
一般式〔II〕で示されるp−アミノフェニル不飽和ケ
トン化合物、を含有することを特徴とする可視光感応光
重合性組成物である。(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, that is, for the purpose of improving the sensitivity of photopolymerizable compositions to visible light, the present inventors have made extensive research and efforts regarding photoinitiator systems. As a result, we have finally completed the present invention. That is, the present invention provides (a) at least one ethylenically unsaturated compound that is non-gaseous at room temperature;
A visible light-sensitive photopolymerizable composition characterized by containing an iron allene complex represented by the following general formula CI), and (c) a p-aminophenyl unsaturated ketone compound represented by the following general formula [II]. be.
(式中RI Rzは同じか又は異なる基であり、R1
はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよい
X rはBF4、PH4,八sFa、5bFh、 Fe
C1n、SnCli、5bC1i、B1Cl1を示す。(In the formula, RI Rz are the same or different groups, R1
may form a fused polycyclic compound with a benzene ring
X r is BF4, PH4, 8sFa, 5bFh, Fe
C1n, SnCli, 5bC1i, B1Cl1 are shown.
)(II 式中、a、bはOまたは1の数を示し、R3
〜RI4は水素原子または炭素数1〜24の有機基であ
り、X2、x2はカルボニル基またはシアノ基を含有す
る置換基でありx2とx3は結合していてもよいもので
ある。)
本発明において使用されるエチレン性不飽和化合物は、
遊離ラジカルで開始される連鎖成長付加反応に適した単
量体であり、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレートなど
が挙げられる。)(II In the formula, a, b represent O or the number of 1, and R3
~RI4 is a hydrogen atom or an organic group having 1 to 24 carbon atoms, X2 and x2 are substituents containing a carbonyl group or a cyano group, and x2 and x3 may be bonded. ) The ethylenically unsaturated compound used in the present invention is
Monomers suitable for free radical initiated chain growth addition reactions, such as pentaerythritol triacrylate, polyethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, trimethylol Examples include propane triacrylate and trimethylolpropane trimethacrylate.
第2の成分(ロ)で前記一般式〔I〕で表わされる鉄ア
レン錯体は、Chesiker−Zeitung+ 1
08(11)345〜354(1984)に数多くの化
合物が記載されている。The iron allene complex represented by the general formula [I] as the second component (b) is Chesiker-Zeitung+1
08(11) 345-354 (1984).
前記一般式(1)においてR’ R” ハCI−C+
xのアルキル基、02〜C11のアルケニル基、C2
〜C1□のアルキニル基、C1〜CIのアルコキシ基、
シアへLアルキルチオ基、フェノキシ基、02〜C6の
モノカルボン酸およびエステルおよびアミド、フェニル
基、C:〜C2のアルカノイル基、アンモニウム塩、ピ
リジニウム基、ニトロ基、アルキルスルフィニル基、ア
ルキルスルフォニル基、スルファモイル基より選ばれる
。In the general formula (1), R'R'' haCI-C+
x alkyl group, 02-C11 alkenyl group, C2
~C1□ alkynyl group, C1~CI alkoxy group,
Shea L alkylthio group, phenoxy group, 02-C6 monocarboxylic acid and ester and amide, phenyl group, C:-C2 alkanoyl group, ammonium salt, pyridinium group, nitro group, alkylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, sulfamoyl selected from the following.
具体的には(〃1−ベンゼン)(η5−シクロペンタジ
ェニル)鉄〔II〕−へキサフルオロホスフェート、(
77’−トルエン)(η5−シクロペンタジニエル)鉄
(If)へキサフルオロホスフェート、(P−クメン)
(η1−シクロペンタジェニル)鉄(If)ヘキサフル
オロホスフェート、(η6−ベンゼン)(η5−シクロ
ペンタジェニル) 鉄〔II〕ヘキサフルオロアルセネ
ート、(η6−ベンゼン)(ηゝ−シクロペンタジェニ
ル)鉄(If)テトラフルオロボレート、(11″−ナ
フタレン)(η5−シクロペンタジエニル)Ik〔II
〕へキサフルオロホスフェート、(η1−アントラセン
ナ゛−(η5−シクロペンタジェニル)鉄(If)へキ
サフルオロホスフェート、(η6−ピレン)(η5−シ
クロペンタジェニル)鉄(U)ヘキサフルオロホスフェ
ート(η−−ベンゼン)(η5−シアノシクロペンタジ
ェニル)鉄〔II〕ヘキサフルオロホスフェート、(η
−−トルエン)(η5−アセチルシクロペンタジェニル
)鉄(■)へキサフルオロホスフェート、(η6−クメ
ン)(η5−クロルシクロペンタジェニル)鉄〔II〕
テトラフルオロボレート、(η6−ベンゼン)(η5−
カルボエトキシシクロへキサジェニル)鉄〔II〕へキ
サフルオロホスフェート、(η−−ベンゼン)(で!−
1,3−ジクロルシクロへキサジェニル)鉄(■)へキ
サフルオロホスフェート、(η1−シアノベンゼン)(
η5−シクロヘキサジェニル)鉄〔II〕へキサフルオ
ロホスフェート、(η6−アセトフェノン)(η5−シ
クロヘキサジェニル)鉄(■)へキサフルオロホスフェ
ート、(η6−メチルベンゾエート)(η1−シクロペ
ンタジェニル)鉄(If)へキサフルオロホスフェート
、(vh−ベンゼンスルホンアミド)(ηゝ−シクロペ
ンタジェニル)鉄〔II〕テトラフルオロボレート、(
jh−ベンズアミド)(η5−シクロペンタジエニル)
鉄(U)へキサフルオロホスフェート、(η6−ジアツ
ベンゼン)(η5−シアノシクロペンタジェニル)鉄〔
II〕ヘキサフルオロホスフェート、(η1−クロルナ
フタレン)(η5−シクロペンタジェニル)鉄〔II〕
ヘキサフルオロホスフェート、(η6−アントラセン)
(77%−シアノシクロペンタジェニル)鉄(n)へキ
サフルオロホスフェートなどがあげられる。Specifically, (1-benzene) (η5-cyclopentadienyl) iron [II]-hexafluorophosphate, (
77'-toluene) (η5-cyclopentazinyl) iron (If) hexafluorophosphate, (P-cumene)
(η1-cyclopentadienyl) iron(If) hexafluorophosphate, (η6-benzene) (η5-cyclopentadienyl) iron[II] hexafluoroarsenate, (η6-benzene) (ηゝ-cyclopentagenyl) ) iron (If) tetrafluoroborate, (11″-naphthalene) (η5-cyclopentadienyl) Ik [II
] Hexafluorophosphate, (η1-anthracene-(η5-cyclopentadienyl) iron (If) hexafluorophosphate, (η6-pyrene) (η5-cyclopentadienyl) iron (U) hexafluorophosphate (η--benzene)(η5-cyanocyclopentadienyl)iron[II]hexafluorophosphate, (η
--Toluene) (η5-acetylcyclopentadienyl) iron (■) hexafluorophosphate, (η6-cumene) (η5-chlorocyclopentagenyl) iron [II]
Tetrafluoroborate, (η6-benzene) (η5-
Carboethoxycyclohexagenyl) iron [II] hexafluorophosphate, (η--benzene) (de!-
1,3-dichlorocyclohexagenyl) iron (■) hexafluorophosphate, (η1-cyanobenzene) (
η5-cyclohexagenyl) iron [II] hexafluorophosphate, (η6-acetophenone) (η5-cyclohexagenyl) iron (■) hexafluorophosphate, (η6-methylbenzoate) (η1-cyclopentagenyl) Iron (If) hexafluorophosphate, (vh-benzenesulfonamide) (ηゝ-cyclopentagenyl) iron [II] tetrafluoroborate, (
jh-benzamide) (η5-cyclopentadienyl)
Iron (U) hexafluorophosphate, (η6-diatubenzene)(η5-cyanocyclopentagenyl)iron [
II] Hexafluorophosphate, (η1-chlornaphthalene)(η5-cyclopentagenyl)iron [II]
Hexafluorophosphate, (η6-anthracene)
(77%-cyanocyclopentagenyl) iron (n) hexafluorophosphate and the like.
これらの化合物は、Dokl、Akd、Nauk 5S
SR149615(1963)に記載された方法により
合成できる。These compounds are Dokl, Akd, Nauk 5S
It can be synthesized by the method described in SR149615 (1963).
第3の成分(c)は、前記一般式〔II〕で表わされる
p−アミノフェニル不飽和ケトン化合物である。The third component (c) is a p-aminophenyl unsaturated ketone compound represented by the general formula [II].
一般式(If)において、a、bはそれぞれ独立に0ま
たは1であり、R3R4R1,R6、RフR電、R9、
RI@、R” R” R”、R目は、水素原子、C
l−Cl!のアルキル基、C茸〜C,Rのアルケニルl
lt、C3〜C1zのアルキニルli、c、〜C1のア
ルコキシ基、C3〜C−のアルキルチオ基%C6〜CI
*のアリールオキシ基、ch−cueの置換および非置
換アリール基、カルボキシル基、シアノ基、ハロゲン原
子、アミノ基、C3〜C1zのモノアルキルアミノ基、
C8〜Ctaのジアルキルアミノ基、C,A−C,、の
シアノアルキル基、01〜C1!のアルコキシカルボニ
ル基、02〜Ctaのアルコキシカルボニルアルキル基
、C1〜C1,のヒドロキシカルボニルアルキル基、
C8〜C11のアシロ
キシ基、
または08〜C14のアシルオキシカルボニル基である
。In the general formula (If), a and b are each independently 0 or 1, R3R4R1, R6, RfR, R9,
RI@, R” R” R”, R eye is a hydrogen atom, C
l-Cl! Alkyl group of C mushroom to C, R alkenyl l
lt, C3-C1z alkynylli, c, ~C1 alkoxy group, C3-C- alkylthio group% C6-CI
Aryloxy group of *, substituted and unsubstituted aryl group of ch-cue, carboxyl group, cyano group, halogen atom, amino group, C3 to C1z monoalkylamino group,
C8-Cta dialkylamino group, C, AC, cyanoalkyl group, 01-C1! an alkoxycarbonyl group of 02 to Cta, an alkoxycarbonylalkyl group of 02 to Cta, a hydroxycarbonylalkyl group of C1 to C1, an acyloxy group of C8 to C11, or an acyloxycarbonyl group of 08 to C14.
8 X3は、 それぞれ独立に 等のカルボニル基又はシアノ基を含有する基であり、 X冨 xsは、 結合し、 等の基を形成しても良い。8 X3 is each independently A group containing a carbonyl group or a cyano group such as X wealth xs is combine, You may also form a group such as
一般式 ( ) で表わされる化合物の具体例を以 下に示す。general formula ( ) Specific examples of compounds represented by Shown below.
υ
本発明組成物中には、下記一般式(III)で示される
化合物および/または下記一般式(IV)で示される環
状ジケトン化合物を存在させてもよい。υ A compound represented by the following general formula (III) and/or a cyclic diketone compound represented by the following general formula (IV) may be present in the composition of the present invention.
(式中Cは0または1であり RIB、 RI6= R
1’?は同じか又は異なる基であり、RISはベンゼン
環と縮合多環化合物を形成していてもよく、R”、R+
tはベンゼン環と結合して環を形成することもできる。(In the formula, C is 0 or 1, RIB, RI6= R
1'? are the same or different groups, RIS may form a fused polycyclic compound with a benzene ring, R", R+
t can also be combined with a benzene ring to form a ring.
X3はS 、 5cN−R”で、RIIは水素または0
1〜C6のアルキル基を示す、)
(式RI9は水素または置換または非置換のアルキルま
たはアラルキル基であり、Gは二価の有機基である。)
前記一般式(III)表わされる化合物としては、N−
フェニルグリシン、N−(p−メチルフェニル)グリシ
ン、N−(p−メトキシフェニル)グリシン、N−(p
−シアノフェニル)グリシン、N−(p−クロロフェニ
ル)グリシン、N−(m−シアノフェニル)グリシン、
N−メチル−N−フェニルグリシン、インドール酢酸、
N−メチルインドール酢酸、6−ジアツインドール酢酸
などが挙げられる。X3 is S, 5cN-R", RII is hydrogen or 0
1-C6 alkyl group) (Formula RI9 is hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl or aralkyl group, and G is a divalent organic group.) The compound represented by the general formula (III) is , N-
Phenylglycine, N-(p-methylphenyl)glycine, N-(p-methoxyphenyl)glycine, N-(p
-cyanophenyl)glycine, N-(p-chlorophenyl)glycine, N-(m-cyanophenyl)glycine,
N-methyl-N-phenylglycine, indoleacetic acid,
Examples include N-methylindoleacetic acid and 6-diathindoleacetic acid.
前記一般式(IV)で表わされる環状ジケトン化合物と
しては、不安定な水素原子を有する活性メチレン基のあ
る環状β−ジカルボニル化合物である0式中RIMは水
素、アルキル、置換アルキルまたはアラルキルであり、
Gは二価の有機基で基の側鎖中にヘテロ原子を含有して
いてもよくまた場合により炭素又はへテロ原子の一方ま
たはその両者が置換基を有していてもよいものである.
前記においてアルキル基はC,〜CI!のアルキルであ
り、置換アルキルとして、例えばヒドロキシルアルキル
、シアノアルキル、ハロアルキル、アルコキシアルキレ
ン、アルキレンチオエーテル、アリールオキシアルキレ
ンなどが挙げられる.アラルキル基のアリール部分は6
〜10個の炭素原子を含有し得る.前記二価の有機基G
は環を完成させるものである.この部分はへテロ原子、
例えば窒素、酸素および硫黄を含有し得る。これらの化
合物の具体例として、5.5−ジメチル−1.3−シク
ロヘキサンジオン、2−メチル−1,3=シクロヘキサ
ンジオン、2−メチル−1.3−シクロペンダンジオン
、2、4−ジエチル−1,3−シクロブタンジオン、2
−メチル−1,3−シクロブタンジオン、5−メチル−
2チオバルビツール酸、バルビッール酸、3−エチルテ
トロン酸、2.4−ジメチル−3−オキソ−5ヒト、ワ
キシー5−メトキシペンテン酸δ−ラクトン、L3.5
− トリメチルバルビッール酸、1.3−ジメチル5−
エチルバルビッール酸、2−メチルジメドン、1.3−
インダンジオン、2−メチルインダンジオン、ビス−[
5−(1.3−ジメチルバルビツリル)〕メタン、1.
5−ジフェニル−3−(2−(フェニルチオ)エチル)
−2.4−ピロリジンジオン、1−フェニル−3.5
−ジケト−4−n−ブチルテトラヒドロピラゾール、2
.2−ジメチル−m−ジオキサン−4.6−ジオン、2
.2.5− )サメチル−mジオキサン−4.6−シオ
ン、などがあげられる。The cyclic diketone compound represented by the general formula (IV) is a cyclic β-dicarbonyl compound having an active methylene group having an unstable hydrogen atom, where RIM is hydrogen, alkyl, substituted alkyl or aralkyl. ,
G is a divalent organic group which may contain a heteroatom in the side chain of the group, and where appropriate, one or both of the carbon and heteroatoms may have a substituent.
In the above, the alkyl group is C, ~CI! Substituted alkyl includes, for example, hydroxylalkyl, cyanoalkyl, haloalkyl, alkoxyalkylene, alkylentioether, and aryloxyalkylene. The aryl part of the aralkyl group is 6
May contain ~10 carbon atoms. The divalent organic group G
completes the ring. This part is a heteroatom,
For example, it may contain nitrogen, oxygen and sulfur. Specific examples of these compounds include 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione, 2-methyl-1,3-cyclohexanedione, 2-methyl-1,3-cyclopendanedione, 2,4-diethyl- 1,3-cyclobutanedione, 2
-Methyl-1,3-cyclobutanedione, 5-methyl-
2thiobarbituric acid, barbituric acid, 3-ethyltetronic acid, 2,4-dimethyl-3-oxo-5-human, waxy 5-methoxypentenoic acid δ-lactone, L3.5
- Trimethylbarbic acid, 1,3-dimethyl 5-
Ethylbarbic acid, 2-methyldimedone, 1.3-
Indanedione, 2-methylindandione, bis-[
5-(1,3-dimethylbarbituryl)]methane, 1.
5-diphenyl-3-(2-(phenylthio)ethyl)
-2.4-pyrrolidinedione, 1-phenyl-3.5
-diketo-4-n-butyltetrahydropyrazole, 2
.. 2-dimethyl-m-dioxane-4,6-dione, 2
.. 2.5-) samethyl-mdioxane-4,6-sion, and the like.
本発明組成物中には好ましくは熱可塑性高分子量有機重
合体結合剤を存在させてもよい.重合体結合剤タイプと
しては(i)テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸
、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタル酸に基くコ
ポリエステル、( ii )ポリアミド、(Iii)ビ
ニリデンクロリド共重合体、(iv)エチレン/ビニル
アセテート共重合体、(V)セルロースエーテル、(■
)ポリエチレン、(vi)合成ゴム、(vj)セルロー
スエステル、(ix)ポリビニルアセテート/アクリレ
ートおよびポリビニルアセテート/メタクリレート共重
合体を含むポリビニルエステル、(X)ポリアクリレー
トおよびポリα−アルキルアクリレートエステル例えば
ポリメチルメタクリレートおよびポリエチルメタクリレ
ート、(xi ) 4.000〜4,000.00Gの
重量平均分子量を有する高分子量エチレンオキシド重合
体(ポリエチレングリコール)、(xii)ポリ塩化ビ
ニルおよびその共重合体、(xiii)ポリビニルアセ
タール、(xiv)ポリホルムアルデヒド、(Xν)ポ
リウレタン、(xvi)ポリカーボネートおよび(xv
ii)ポリスチレンがあげられる。A thermoplastic high molecular weight organic polymeric binder may preferably be present in the composition of the invention. Polymeric binder types include (i) copolyesters based on terephthalic acid, isophthalic acid, sebacic acid, adipic acid and hexahydroterephthalic acid, (ii) polyamides, (iii) vinylidene chloride copolymers, (iv) ethylene/ Vinyl acetate copolymer, (V) cellulose ether, (■
) polyethylene, (vi) synthetic rubber, (vj) cellulose esters, (ix) polyvinyl esters, including polyvinyl acetate/acrylates and polyvinyl acetate/methacrylate copolymers, (X) polyacrylates and polyα-alkyl acrylate esters such as polymethyl methacrylate and polyethyl methacrylate, (xi) high molecular weight ethylene oxide polymers (polyethylene glycol) having a weight average molecular weight of 4.000 to 4,000.00G, (xii) polyvinyl chloride and its copolymers, (xiii) polyvinyl acetal, (xiv) polyformaldehyde, (Xν) polyurethane, (xvi) polycarbonate and (xv
ii) Polystyrene can be mentioned.
本発明組成物において、特に好ましい光重合性結合剤と
しては、未露光光重合性コーティングが例えばアルカル
性溶液である主として水性の溶液には可溶性であるが、
活性線放射に露光後は比較的それに不溶性となるような
光重合性結合剤が好ましい、典型的にはこれらの要求を
満足させる重合体はカルボキシル化重合体、例えば遊離
カルボン酸基含有ビニル付加重合体である。Particularly preferred photopolymerizable binders in the compositions of the invention include those in which the unexposed photopolymerizable coating is soluble in primarily aqueous solutions, such as alkaline solutions;
Photopolymerizable binders that are relatively insoluble after exposure to actinic radiation are preferred; typically polymers that meet these requirements are carboxylated polymers, such as vinyl addition polymers containing free carboxylic acid groups. It is a combination.
メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、クロトン
酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレ
イン酸共重合体などがある。また側鎖にカルボキシル基
を有するセルロースや、水酸基を側鎖に含有する重合体
に環状酸無水物を付加させたものなどがある。Examples include methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, and partially esterified maleic acid copolymers. Further, there are cellulose having a carboxyl group in the side chain, and a polymer having a hydroxyl group in the side chain to which a cyclic acid anhydride is added.
更に、その他に光重合性組成物を製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加するこ
とが望ましい適当な熱重合禁止剤としては、ハイドロキ
ノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−
クレゾール、ピロガロール、ジ−t−ブチルカテコール
、ベンゾキノン、2−メルカプトペンズイマダゾール、
N−ニトロフフェニルヒドロキシアミン第一セリウムな
どがあげられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物に
対して、0.01〜5%が好ましい、また必要に応じて
、不活性添加物、例えば非重合性可塑剤、染料、顔料お
よび充填剤などは光重合性を著しく阻害しない程度に配
合してもよい。In addition, it is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable ethylenically unsaturated compound during production or storage of the photopolymerizable composition. Inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-
Cresol, pyrogallol, di-t-butylcatechol, benzoquinone, 2-mercaptopenzimadazole,
Examples include cerous N-nitrophenylhydroxyamine. The amount of the thermal polymerization inhibitor added is preferably 0.01 to 5% based on the total composition, and if necessary, inert additives such as non-polymerizable plasticizers, dyes, pigments, fillers, etc. may be added to the extent that photopolymerizability is not significantly inhibited.
本発明の光重合性組成物の好ましい配合比率を成分(a
)であるエチレン性不飽和化合物100重量部に対する
重量部で表わすと、成分(ロ)である鉄アレン錯体は0
.01〜50重量部、特に好ましくは0.1〜30重量
部、成分(c)であるp−アミノフェニル化合物はそれ
ぞれ0.0五〜20重量部、特に好ましくは0.1〜2
0重量部、一般式〔I〕で表わされる化合物または環状
ジケトン化合物はそれぞれ0〜20重量部、特に好まし
くは0.1〜20重量部、結合剤は、0〜1000重量
部、好ましくは0〜50重量部である。The preferred blending ratio of the photopolymerizable composition of the present invention is the component (a
), the iron allene complex which is component (b) is 0.
.. 01 to 50 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 30 parts by weight, and the p-aminophenyl compound as component (c) each contains 0.05 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 2 parts by weight.
0 parts by weight, the compound represented by the general formula [I] or the cyclic diketone compound is each 0 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 20 parts by weight, and the binder is 0 to 1000 parts by weight, preferably 0 to 20 parts by weight. It is 50 parts by weight.
なお本発明光重合性組成物は広範囲な種類の基材上にコ
ーティングすることができる。ここで「基材」とはすべ
ての天然または合成支持体、好ましくは可攪性または剛
性のフィルムまたはシートの形で存在しうるものを意味
している0例えば素材は金属シートまたは箔、合成有機
樹脂のシートまたはフィルム、セルロース紙、ファイバ
ーボードその他またはこれらの物質の2種またはそれ以
上のものの複合体でありうる。特定の素材としてはアル
ミナプラストアルミニウム、アノード処理アルミニウム
、アルミプラストポリエチレンテレノタレートフィルム
、ポリエチレンテレフタレートフィルム、静電放電処理
ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアル
コールをコーティングした紙、交叉結合ポリエステルコ
ーティング紙、ナイロン、ガラス、セルロースアセテー
トフィルムその他が挙げられる。The photopolymerizable composition of the present invention can be coated on a wide variety of substrates. "Substrate" here means any natural or synthetic support, preferably in the form of a stirrable or rigid film or sheet. For example, the material may be a metal sheet or foil, a synthetic organic It can be a sheet or film of resin, cellulose paper, fiberboard, etc. or a composite of two or more of these materials. Specific materials include aluminoplast aluminum, anodized aluminum, aluminoplast polyethylene terenotalate film, polyethylene terephthalate film, electrostatic discharge treated polyethylene terephthalate film, polyvinyl alcohol coated paper, cross-linked polyester coated paper, nylon, glass, Examples include cellulose acetate film and others.
特定の素材は一般に関連する適用目的により決定される
0例えば印刷回路が製造される場合には、素材はファイ
バーボード上に銅をコーティングしたプレートでありう
る。平版印刷プレートの製造においては、素材はアノー
ド処理アルミニウムでありうる。The particular material will generally be determined by the application purpose involved; for example, if printed circuits are to be manufactured, the material may be a copper coated plate on a fiberboard. In the manufacture of lithographic printing plates, the material may be anodized aluminum.
本発明において、光重合性組成物の層の厚みは0.1p
〜250μであり、好ましくは0.5〜50μである。In the present invention, the thickness of the layer of the photopolymerizable composition is 0.1 p.
-250μ, preferably 0.5-50μ.
望ましい厚みは用途により決められる。The desired thickness is determined by the application.
基板に設けられた光重合性組成物の層の上には、空気中
の酸素による重合抑制作用を防止するために、ポリビニ
ルアルコールなどのような酸素遮断性に優れたポリマー
よりなる保護層を設けるか、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムなどのカバ−フィルムをラミネートしてもよ
い。A protective layer made of a polymer with excellent oxygen barrier properties such as polyvinyl alcohol is provided on the photopolymerizable composition layer provided on the substrate in order to prevent the polymerization inhibiting effect of oxygen in the air. Alternatively, a cover film such as a polyethylene terephthalate film may be laminated.
本発明光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領域
の活性光線に対して高い感度を有する。The photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity to active light in a wide range from ultraviolet light to visible light.
したがって、光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の
各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノ
ン灯、メタルハライド灯、アルコンイオンレーザ−ヘリ
ウム−カドミウムレーザーなどのレーザー、蛍光灯、タ
ングステン灯、及び太陽光などが使用できる。Therefore, light sources include ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, and low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, lasers such as alcone ion lasers, helium cadmium lasers, fluorescent lamps, tungsten lamps, and You can use sunlight etc.
(作 用)
本発明の増感剤すなわち成分(c1は本来、本発明に使
用される光開始剤すなわち成分(b)が吸収し得ないか
または非常に小さな吸光度しか示さない可視光を効率よ
く吸収し、活性化される。その状態で本発明の増感剤は
本発明で使用される光開始剤に作用し、結果的に活性な
ラジカルを発生させ、そのラジカルが組成物中のエチレ
ン性不飽和化合物を攻撃して、重合を起こすわけである
。(Function) The sensitizer or component (c1) of the present invention is originally intended to efficiently absorb visible light that the photoinitiator or component (b) used in the present invention cannot absorb or exhibits very low absorbance. In that state, the sensitizer of the present invention acts on the photoinitiator used in the present invention, resulting in the generation of active radicals, which are then used to remove ethylenic compounds in the composition. It attacks unsaturated compounds and causes polymerization.
(実施例)
以下実施例により本発明を具体的に説明するがここに部
および%は重量基準である。(Example) The present invention will be specifically described below with reference to Examples, where parts and percentages are based on weight.
実施例1〜12、比較例1〜4
下引き層を有する100μ厚さの透明なポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に下記組成の感光層塗工液を塗
布し、熱風乾燥機にて90℃1分間乾燥し、厚さ3μの
塗膜を得た0次いでその上に7%ポリビニルアルコール
(完全ケン化、重合度500)の水溶液を塗布し熱風乾
燥機で100’C1分間乾燥して厚さ1μのオーバーコ
ート層を設けて、感度テスト片を得た。Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 4 A photosensitive layer coating solution having the following composition was applied onto a 100μ thick transparent polyethylene terephthalate film having an undercoat layer, and dried at 90°C for 1 minute in a hot air dryer. Then, a 7% polyvinyl alcohol (completely saponified, degree of polymerization 500) aqueous solution was applied on top of the coating film with a thickness of 3μ, and dried for 1 minute at 100°C in a hot air dryer to form an overcoat with a thickness of 1μ. A layer was applied to obtain a sensitivity test piece.
(感光層塗工液組成)
ポリ(メタクリル酸メチル/
メタクリル酸)52部
70 / 30モル比
テトラエチレングリコール
ジアクリレート 40
成分(b)(表1〜3に示す) 5次分(
c)(BK−1〜BK−3に示す) 3次
分(d)(一般式(III)で表わされる化合物または
環状ジケトン化合物) 3メタノール
200酢酸エチル
80クロロホルム 12
0上記感度テスト片上にネガフィルムとして21.71
”−ステップタブレット(大日本スクリーン社製グレー
フィルムスケール)を重ねて、キセノンランプ(ウシオ
電機社製11XL−500D −0)に東芝社製干渉フ
ィルター1[L−49と同色ガラスフィルターY−45
を組み合わせた光源(490n−Δ)で15C11の距
離から5分間露光した後、30℃0.7%炭酸ナトリウ
ム水溶液に10秒間浸漬し、水洗して未硬化部分を除去
し乾燥した後、21ffステツプタブレツトの完全硬化
の段数(ステップ)を調べ、それを表1に示す、また比
較例を表2に示す0表1〜表2より明らかに本発明の実
施例1〜12は比較例1〜4に比べ490nmの光に対
して高感度であることが判る。(Photosensitive layer coating liquid composition) Poly(methyl methacrylate/methacrylic acid) 52 parts 70/30 molar ratio Tetraethylene glycol diacrylate 40 Component (b) (shown in Tables 1 to 3) 5th order part (
c) (shown in BK-1 to BK-3) Tertiary component (d) (compound represented by general formula (III) or cyclic diketone compound) 3 methanol
200 ethyl acetate
80 chloroform 12
0 21.71 as a negative film on the above sensitivity test piece
”-Layer the step tablet (gray film scale manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.) and add the interference filter 1 manufactured by Toshiba Corporation [L-49 and the same color glass filter Y-45 to the xenon lamp (11XL-500D-0 manufactured by Ushio Inc.)
After exposure for 5 minutes from a distance of 15C11 using a light source (490n-Δ) that combines The number of steps for complete curing of the tablet was investigated and is shown in Table 1. Comparative examples are shown in Table 2. From Tables 1 to 2, it is clear that Examples 1 to 12 of the present invention are different from Comparative Examples 1 to 12. It can be seen that the sensitivity to light of 490 nm is higher than that of 4.
以下余白
表
表
2
(発明の効果)
本発明の光重合性組成物は、
可視光に対して高
感度を示すため、低いエネルギーの露光光源を使用する
ことができ、与えられた時間内に多数の原版を露光およ
び現像できる。Table 2 (Effects of the Invention) The photopolymerizable composition of the present invention exhibits high sensitivity to visible light, so a low-energy exposure light source can be used, and a large number of light can be produced within a given time. The original plate can be exposed and developed.
また、露光源を原版より遠ざけることができるため、そ
の光線が平行化され、例えば網点画像形成をする場合、
垂直の側部を有するシャープな網点を形成することがで
きるなど種々の利点を有する。In addition, since the exposure source can be moved away from the original, the light rays are collimated, and for example, when forming halftone images,
It has various advantages such as being able to form sharp halftone dots with vertical sides.
Claims (1)
ン性不飽和化合物、(b)下記一般式〔 I 〕で示され
る鉄アレン錯体、(c)下記一般式〔II〕で示されるp
−アミノフェニル不飽和ケトン化合物、を含有すること
を特徴とする可視光感応光重合性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中R^1、R^2は同じか又は異なる基であり、R
^2はベンゼン環と縮合多環化合物を形成していてもよ
い。X′はBF_4、PE_6、AsF_6、SbF_
6、FeCl_4、SnCl_6、SbCl_6、Bi
Cl_6を示す。)▲数式、化学式、表等があります▼
〔II〕 (II式中、a、bは0または1の数を示し、R^2〜R
^1^4は水素原子または炭素数1〜24の有機基であ
り、X^2、X^3はカルボニル基またはシアノ基を含
有する置換基でありX^2とX^3は結合していてもよ
いものである。)(1) (a) At least one ethylenically unsaturated compound that is non-gaseous at room temperature, (b) an iron allene complex represented by the following general formula [I], (c) represented by the following general formula [II] p
- an aminophenyl unsaturated ketone compound. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼[I] (In the formula, R^1 and R^2 are the same or different groups, and R
^2 may form a fused polycyclic compound with a benzene ring. X' is BF_4, PE_6, AsF_6, SbF_
6, FeCl_4, SnCl_6, SbCl_6, Bi
Indicates Cl_6. ) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼
[II] (In formula II, a, b represent the number 0 or 1, R^2~R
^1^4 is a hydrogen atom or an organic group having 1 to 24 carbon atoms, X^2 and X^3 are substituents containing a carbonyl group or a cyano group, and X^2 and X^3 are not bonded. It is a good thing. )
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP748390A JPH03210566A (en) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | Photopolymerizable composition sensitive to visible light |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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ID=11667014
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JP748390A Pending JPH03210566A (en) | 1990-01-16 | 1990-01-16 | Photopolymerizable composition sensitive to visible light |
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JP (1) | JPH03210566A (en) |
-
1990
- 1990-01-16 JP JP748390A patent/JPH03210566A/en active Pending
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