JPH021461A - 非対称ジチオアセタール及びジチオケタールの製造方法 - Google Patents
非対称ジチオアセタール及びジチオケタールの製造方法Info
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- JPH021461A JPH021461A JP1027745A JP2774589A JPH021461A JP H021461 A JPH021461 A JP H021461A JP 1027745 A JP1027745 A JP 1027745A JP 2774589 A JP2774589 A JP 2774589A JP H021461 A JPH021461 A JP H021461A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/18—Halogen atoms or nitro radicals
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はアリールアルデヒド及びケトンから非対称ジチ
オアセクール及びジチオケクールを製造する新規な方法
に関する。更に詳細には本発明は特定の２−置換キノリ
ンジチアアルカンジオイックアシッド（ａｌｋａｎｅｄ
ｉｏｉｃ ａｃｉｄ）の製造方法に関する。
オアセクール及びジチオケクールを製造する新規な方法
に関する。更に詳細には本発明は特定の２−置換キノリ
ンジチアアルカンジオイックアシッド（ａｌｋａｎｅｄ
ｉｏｉｃ ａｃｉｄ）の製造方法に関する。
アルデヒド又はケトン前駆物質からジチオアセクール及
びジチオケクールを製造する様々な方法は当業界でよく
知られており特に２つのチオエーテル部分が同一である
か又は環状官能基の構成部分であるものである。例えば
チオール又は活性子オール試薬とカルボニル含有又は活
性カルボニル含有試薬との反応は対称及び環状ジチオア
セクール及びジチオケクールを生成することができる。
びジチオケクールを製造する様々な方法は当業界でよく
知られており特に２つのチオエーテル部分が同一である
か又は環状官能基の構成部分であるものである。例えば
チオール又は活性子オール試薬とカルボニル含有又は活
性カルボニル含有試薬との反応は対称及び環状ジチオア
セクール及びジチオケクールを生成することができる。
適当なルイス酸又はトリアルキルシリルハロゲン化物の
添加による活性化が報告されている。このように特定の
対称及び環状ジチオアセタールは三フフ化ホウ素エーテ
レートの存在下メルカプタンとアルデヒド（又は対応す
るジメチルアセクール）の反応により製造されていた。
添加による活性化が報告されている。このように特定の
対称及び環状ジチオアセタールは三フフ化ホウ素エーテ
レートの存在下メルカプタンとアルデヒド（又は対応す
るジメチルアセクール）の反応により製造されていた。
Ｃ，Ｄ、パーコノツク等、Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ、第２
９巻、１４４２〜１４５２頁（１９８６年）。しかしな
がら非対称ジチオアセクール及びジチオケクールの製造
には特別の合成問題が存在する。前述の反応に於て２種
類の異なったチオールの混合物を使用した場合対称及び
非対称生成物の統計上の混合物の一成分としてのみ非対
称生成物が生成する。
９巻、１４４２〜１４５２頁（１９８６年）。しかしな
がら非対称ジチオアセクール及びジチオケクールの製造
には特別の合成問題が存在する。前述の反応に於て２種
類の異なったチオールの混合物を使用した場合対称及び
非対称生成物の統計上の混合物の一成分としてのみ非対
称生成物が生成する。
非対称ジチオアセクール及びジチオケクールを製造する
１つの方法は存在する対称ジチオアセクール及びジチオ
ケクールを変性することを包含する、例えば同時係属中
の米国特許出願出願番号筒０１１、Ｉ８１号、出願口１
９８７年２月５日。２つの同じ千オニーチル部分の１つ
だけを選択的に変性することはまれにしか有効でないた
めに、この方法が限定された適用性を有するにすぎない
ことが予想される。
１つの方法は存在する対称ジチオアセクール及びジチオ
ケクールを変性することを包含する、例えば同時係属中
の米国特許出願出願番号筒０１１、Ｉ８１号、出願口１
９８７年２月５日。２つの同じ千オニーチル部分の１つ
だけを選択的に変性することはまれにしか有効でないた
めに、この方法が限定された適用性を有するにすぎない
ことが予想される。
ヘミチオアセクールを製造する選択的方法が報告されて
いる。例えば種々のアルデヒド及びケトンと式Ｒ５５ｉ
（Ｃ１１３）＋のアルキル−及びアリールチオシランと
の反応は使用される特定の条件に依存して式Ａ で表わされるＯ−シリルヘミチオアセタール及びケター
ル又は弐Ｂ ル 〔式中Ｒは特にアルキル、アルキレン（環状ジチオケク
ールを生成する）又は他の飽和又は不飽和炭化水素類で
あり、アルデヒドに対するＲ′及びＲ）ｌの１つは水素
であり、別の１つは特にアルキル又は他の飽和又は不飽
和炭化水素類であり、ケトンに対するＲ′及びＲ“は独
立して特にアルキル、アルキレン（環状ケトンから誘導
される）又は他の飽和又は不飽和炭化水素類である〕を
生成することが報告されている、Ｄ、Ｖ、エバンス等、
Ｊ、Δｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、第９９巻、５００９〜５
０１７頁（１９７７年）。しかしながら非対称ジチオア
セクールの選択的製造方法に対して実際的な方法は報告
されていない。例えばエバンスによって記載された方法
は本発明で記載した２−置換キノリンジチアルカンジオ
イソクアシッドの製造に有用であることは見い出されて
いない。
いる。例えば種々のアルデヒド及びケトンと式Ｒ５５ｉ
（Ｃ１１３）＋のアルキル−及びアリールチオシランと
の反応は使用される特定の条件に依存して式Ａ で表わされるＯ−シリルヘミチオアセタール及びケター
ル又は弐Ｂ ル 〔式中Ｒは特にアルキル、アルキレン（環状ジチオケク
ールを生成する）又は他の飽和又は不飽和炭化水素類で
あり、アルデヒドに対するＲ′及びＲ）ｌの１つは水素
であり、別の１つは特にアルキル又は他の飽和又は不飽
和炭化水素類であり、ケトンに対するＲ′及びＲ“は独
立して特にアルキル、アルキレン（環状ケトンから誘導
される）又は他の飽和又は不飽和炭化水素類である〕を
生成することが報告されている、Ｄ、Ｖ、エバンス等、
Ｊ、Δｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、第９９巻、５００９〜５
０１７頁（１９７７年）。しかしながら非対称ジチオア
セクールの選択的製造方法に対して実際的な方法は報告
されていない。例えばエバンスによって記載された方法
は本発明で記載した２−置換キノリンジチアルカンジオ
イソクアシッドの製造に有用であることは見い出されて
いない。
キラルな非対称ジチオアセクールを製造する同時係属中
の米国特許出願番号筒０１１，１６６号出願日１９８７
年２月５日の米国出願に記載される方法は、アルデヒド
を式１１ＳＲ“のチオールと式１１５Ｃ（０）Ｒ４のチ
オイックＳ−酸の混合物と酸触媒反応させて式Ｃ ａ ビ （式中Ｒ”及びＲｂは特に水素及び２−Ｗ換キノリン部
分を含む種々の置換基であることができ、Ｒ“は特にア
ルキル及びカルボキシアルキルを含む種々の置換基であ
ることができＲ４はキラル又はアキラルのアルキル又は
任意に置換されたアリールであることができる）で表わ
される化合物（統計分布成分の１成分として）を生成す
ることを包含する。式Ｃの化合物のＳ−アシル基を塩基
加水分解した後生じたチオール遊離基をアルキル化する
と弐Ｄ ｐＨ が、使用される試薬及び条件が異なり生成される中間体
が異なり区別される。
の米国特許出願番号筒０１１，１６６号出願日１９８７
年２月５日の米国出願に記載される方法は、アルデヒド
を式１１ＳＲ“のチオールと式１１５Ｃ（０）Ｒ４のチ
オイックＳ−酸の混合物と酸触媒反応させて式Ｃ ａ ビ （式中Ｒ”及びＲｂは特に水素及び２−Ｗ換キノリン部
分を含む種々の置換基であることができ、Ｒ“は特にア
ルキル及びカルボキシアルキルを含む種々の置換基であ
ることができＲ４はキラル又はアキラルのアルキル又は
任意に置換されたアリールであることができる）で表わ
される化合物（統計分布成分の１成分として）を生成す
ることを包含する。式Ｃの化合物のＳ−アシル基を塩基
加水分解した後生じたチオール遊離基をアルキル化する
と弐Ｄ ｐＨ が、使用される試薬及び条件が異なり生成される中間体
が異なり区別される。
本発明はアリールアルデヒド及びケトンがら非対称ジチ
オアセクール及びジチオケクールを製造する特に有利な
二工程方法を提供する。
オアセクール及びジチオケクールを製造する特に有利な
二工程方法を提供する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ａ）適当な有機溶媒中、適当なＮ−複素環触媒の存
在下で式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物１モル部を式Ｒ＾２ＳＨで表わされ
るチオール約０．８〜１．２モル部と適当なヘキサアル
キルジシラザンの過剰量との混合物と反応させておき、
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるトリアルキルシリル化ヘミチオアセタール
中間体を生成し、 ｂ）このトリアルキルシリル化ヘミチオア セタール中間体を適当な有機溶媒中、適当なルイス酸の
存在下で式Ｒ＾３ＳＨで表わされるチオールの少なくと
も約０．８〜１．２モル部と反応させておくことを特徴
とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ａｒは （ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛Ｒ＾４はｉ）水素 ｉｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル ｉｉｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ ｉｖ）ハロゲン ｖ）シアノ ｖｉ）ニトロ ｖｉｉ）ホルミル ｖｉｉｉ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルカノイル又はｉｘ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （ＹはＡ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルキレン Ｂ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニレン又は Ｃ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルキニレンであり、 Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ｒ＾９及びＲ＾１＾０は独立に Ａ）水素 Ｂ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル Ｃ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ Ｄ）ハロゲン Ｅ）シアノ又は Ｆ）ニトロである）であり Ｒ＾５及びＲ＾６は独立に ｉ）水素 ｉｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル ｉｉｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ ｉｖ）ハロゲン ｖ）シアノ ｖｉ）ニトロ ｖｉｉ）ホルミル又は ｖｉｉｉ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルカノイルである｝ （ｂ）１０又は１４核環炭素原子を有するアリール又は ｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル ｉｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ ｉｉｉ）ハロゲン ｉｖ）シアノ ｖ）ニトロ ｖｉ）ホルミル及び ｖｉｉ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルカノイル からなる群から選択される１種以上の置換基で置換され
た該アリール （ｃ）５又は６核環原子を有し、この少なくとも１核環
原子がＯ、Ｓ又はＮであるヘテロアリール又は ｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル ｉｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ ｉｉｉ）ハロゲン ｉｖ）シアノ ｖ）ニトロ ｖｉ）ホルミル及び ｖｉｉ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルカノイル から成る群から選択される１種以上の置換基で置換され
た該ヘテロアリールである。 Ｒ＾１は（ａ）水素 （ｂ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルキル （ｃ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニル （ｄ）Ｃ＿３〜Ｃ＿７シクロアルキル （ｅ）Ｃ＿４〜Ｃ＿１＿１（シクロアルキル）アルキル
又は （ｆ）Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキルである。 Ｒ＾２及びＲ＾３は独立に （ａ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル （ｂ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルケニル （ｃ）Ｃ＿１〜Ｃ＿７シクロアルキル （ｄ）Ｃ＿４〜Ｃ＿１＿１（シクロアルキル）アルキル （ｅ）Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキル （ｆ）−（ＣＨ＿２）＿ｍ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾１ ｛Ｚ＾１はｉ）ヒドロキシ ｉｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又は ｉｉｉ）ＮＲ＾１＾１Ｒ＾１＾２（Ｒ＾１＾１及びＲ＾
１＾２は独立に水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルであり
、一緒に結合したＲ＾１＾１とＲ＾１＾２はＣ＿２〜Ｃ
＿６アルキレンである）であり ｍは１〜１０の整数である｝又は （ｇ）−（ＣＨ＿２）＿ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾２ ｛Ｚ＾２はｉ）ヒドロキシ ｉｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又は ｉｉｉ）ＮＲ＾１＾３Ｒ＾１＾４（Ｒ＾１＾３及びＲ＾
１＾４は独立に水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルであり
、一緒に結合したＲ＾１＾３とＲ＾１＾４はＣ＿２〜Ｃ
＿６アルキレンである）であり ｎは１〜１０の整数である｝である。〕 を有する化合物の製造方法。 ２、ａ）適当な有機溶媒中、適当なＮ−複素環触媒の存
在下で ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物１モル部を式Ｒ＾３ＳＨで表わされ
るチオール約０．８〜１．２モル部と適当なヘキサアル
キルジシラザンの過剰量との混合物と反応させておき、
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるトリアルキルシリル化ヘミチオアセタール
中間体を生成し、 ｂ）このトリアルキルシリル化ヘミチオアセタール中間
体を適当な有機溶媒中、適当なルイス酸の存在下で式Ｒ
＾３ＳＨで表わされるチオールの少なくとも約０．８〜
１．２モル部と反応させておくことを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は （ａ）水素 （ｂ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル （ｃ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニル （ｄ）Ｃ＿３〜Ｃ＿７シクロアルキル （ｅ）Ｃ＿４〜Ｃ＿１＿１（シクロアルキル）アルキル
又は （ｆ）Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキルである。 Ｒ＾２及びＲ＾３は独立に （ａ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル （ｂ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルケニル （ｃ）Ｃ＿３〜Ｃ＿７シクロアルキル （ｄ）Ｃ＿４〜Ｃ＿１＿１（シクロアルキル）アルキル （ｅ）Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキル （ｆ）−（ＣＨ＿２）＿ｍ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾１ ｛Ｚ＾１はｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又は ｉｉ）ＮＲ＾１＾１Ｒ＾１＾２（Ｒ＾１＾１及びＲ＾１
＾２は独立に水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルであり一
緒に結合したＲ＾１＾１とＲ＾１＾２はＣ＿２〜Ｃ＿６
アルキレンである）であり ｍは１〜１０の整数である）又は （ｇ）−（ＣＨ＿２）＿ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾２ ｛Ｚ＾２はｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又は ｉｉ）ＮＲ＾１＾３Ｒ＾１＾４（Ｒ＾１＾３及びＲ＾１
＾４は独立に水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルであり、 一緒に結合したＲ＾１＾３とＲ＾１＾４はＣ＿２〜Ｃ＿
６アルキレンであるであり ｎは１〜１０の整数である｝である。 Ｒ＾５、Ｒ＾６、Ｒ＾７、Ｒ＾８、Ｒ＾９及びＲ＾１＾
０は独立に （ａ）水素 （ｂ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル （ｃ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ （ｄ）ハロゲン （ｅ）シアノ又は （ｆ）ニトロである。 Ｙは （ａ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルキレン （ｂ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニレン又は （ｃ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルキニレンである。〕を有する
化合物を製造する請求項１記載の方法。 ３、ａ）適当な有機溶媒中、適当なＮ−複素環触媒の存
在下で式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物１モル部を式Ｒ＾３ＳＨで表わされ
るチオール約０．８〜１．２モル部と適当なヘキサアル
キルジシラザンの過剰量との混合物と反応させておき式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるトリアルキルシリル化ヘミチオアセタール
中間体を生成し、 ｂ）このトリアルキルシリル化ヘミチオア セタール中間体を適当な有機溶媒中、適当なルイス酸の
存在下で式Ｒ＾３ＳＨで表わされるチオールの少なくと
も約０．８〜１．２モル部と反応させておくことを特徴
とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾１は （ａ）水素 （ｂ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル （ｃ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニル （ｄ）Ｃ＿３〜Ｃ＿７シクロアルキル （ｅ）Ｃ＿４〜Ｃ＿１＿１（シクロアルキル）アルキル
又は （ｆ）Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキルである。 Ｒ＾２及びＲ＾３は独立に （ａ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル （ｂ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニル （ｃ）Ｃ＿３〜Ｃ＿７シクロアルキル （ｄ）Ｃ＿４〜Ｃ＿１＿１（シクロアルキル）アルキル （ｅ）Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿４アラルキル （ｆ）−（ＣＨ＿２）＿ｍ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾１ ｛Ｚ＾１はｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又は ｉｉ）ＮＲ＾１＾１Ｒ＾１＾２（Ｒ＾１＾１及びＲ＾１
＾２は独立に水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルであり、
一緒に結合したＲ＾１＾１とＲ＾１＾２はＣ＿２〜Ｃ＿
６アルキレンである）であり ｍは１〜１０の整数である｝又は （ｇ）−（ＣＨ＿２）＿ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾２ ｛Ｚ＾２はｉ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又は ｉｉ）ＮＲ＾１＾３Ｒ＾１＾４（Ｒ＾１＾３及びＲ＾１
＾４は独立に水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルであり、
一緒に結合したＲ＾１＾３と Ｒ＾１＾４はＣ＿２〜Ｃ＿６アルキレンである）であり ｎは１〜１０の整数である｝である。 Ｒ＾３は（ａ）水素 （ｂ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル （ｃ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ （ｄ）ハロゲン （ｅ）シアノ又は （ｆ）ニトロである。 Ｙは（ａ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルキレン （ｂ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニレン又は （ｃ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキニレンである。〕 を有する化合物を製造する請求項２記載の方法。 ４、ヘキサアルキルジシラザンがヘキサメチルジシラザ
ンである請求項３記載の方法。 ５、Ｎ−複素環触媒がイミダゾールである請求項３記載
の方法。 ６、ルイス酸が三フッ化ホウ素エーテレートである請求
項３記載の方法。 ７、ａ）適当な有機溶媒中、イミダゾールの存在下で式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物１モル部を式 ＨＳ−（ＣＨ＿２）＿ｎ−（Ｃ＝お）−Ｚ＾２で表わさ
れるチオール約０．８〜１．２モル部とヘキサメチルジ
シラザンの過剰量との混合物と反応させておき、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるトリメチルシリル化ヘミチオアセタール中
間体を生成し、 ｂ）このトリメチルシリル化ヘミチオアセタール中間体
を適当な有機溶媒中、三フッ化ホウ素エーテレートの存
在下で式 ＨＳ−（ＣＨ＿２）＿ｍ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾１で表わさ
れるチオールの少なくとも約０．８〜１．２モル部と反
応させておくことを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｒ＾３は （ａ）水素 （ｂ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキル （ｃ）Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又は （ｄ）ハロゲンである。 Ｙは（ａ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルキレン又は （ｂ）Ｃ＿２〜Ｃ＿６アルケニレンである。 Ｚ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又はＮＲ＾１＾１Ｒ
＾１＾２（Ｒ＾１＾１及びＲ＾１＾２は独立に水素又は
Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキルである）である。 Ｚ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又はＮＲ＾１＾３Ｒ
＾１＾４（Ｒ＾１＾３及びＲ＾１＾４は独立に水素又は
Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキルである）である。 ｍ及びｎは独立に１〜１０の整数である。〕を有する化
合物を製造する請求項３記載の方法。 ８、ａ）適当な有機溶媒中、イミダゾールの存在下で式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物１モル部を式 ＨＳ−（ＣＨ＿２）＿２−（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾２で表わさ
れるチオール約０．８〜１．２モル部とヘキサメチルジ
シラザンの過剰量との混合物と反応させておき式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるトリメチルシリル化ヘミチオアセタール中
間体を生成し、 ｂ）このトリメチルシリル化ヘミチオアセタール中間体
を適当な有機溶媒中、三フッ化ホウ素エーテレートの存
在下で式 ＨＳ−（ＣＨ＿２）＿２（Ｃ＝Ｏ）−Ｚ＾１で表わされ
るチオールの少なくとも約０．８〜１．２モル部と反応
させておくことを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中Ｚ＾１はＣ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又はＮＲ＾１
＾１Ｒ＾１＾２（Ｒ＾１＾１及びＲ＾１＾２は独立に水
素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルである）である。 Ｚ＾２はＣ＿１〜Ｃ＿６アルコキシ又はＮＲ＾１＾３Ｒ
＾１＾４（Ｒ＾１＾３及びＲ＾１＾４は独立に水素又は
Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキルである）である。〕 を有する化合物を製造する請求項７記載の方法。 ９、Ｚ＾１がＣ＿１〜Ｃ＿６アルコキシであり、Ｚ＾２
がＮＲ＾１＾３Ｒ＾１＾４（Ｒ＾１＾３及びＲ＾１＾４
は独立に水素又はＣ＿１〜Ｃ＿６アルキルである）であ
る請求項８記載の方法。 １０、Ｚ＾１がメトキシであり、Ｚ＾２がＮ（ＣＨ＿３
）＿２である請求項８記載の方法。 １１、有機溶媒がジクロロメタン、ジエチルカーボネー
ト、プロピレンカーボネート又はニトロメタンである請
求項１０記載の方法。 １２、ａ）ジクロロメタン中、イミダゾールの存在下で
式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物１モル部を ＨＳ−（ＣＨ＿２）＿２−ＣＯＮ（ＣＨ＿３）＿２約０
．８〜１．２モル部とヘキサメチルジシラザンの過剰量
との混合物と反応させておき式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるトリメチルシリル化ヘミチオアセタール中
間体を生成し、 ｂ）このトリメチルシリル化ヘミチオアセタール中間体
をジクロロメタン、ジエチルカーボネート、プロピレン
カーボネート又はニトロメタン中三フッ化ホウ素エーテ
レートの存在下でＨＳ−（ＣＨ＿２）＿２−ＣＯＯＣＨ
＿３の少なくとも約０．８〜１．２モル部と反応させて
おくことを特徴とする式▲数式、化学式、表等がありま
す▼ を有するメチル５−〔３−〔２−（７−クロロ−２−キ
ノリニル）エテニル〕フェニル〕−８−ジメチルカルバ
ミル−４，６−ジチアオクタノエートを製造する請求項
１１記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/153,399 US4883878A (en) | 1988-02-08 | 1988-02-08 | Process for unsymmetrical dithioacetals and dithioketals |
| US153,399 | 1993-11-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JPH0623176B2 JPH0623176B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=22547067
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1027745A Expired - Lifetime JPH0623176B2 (ja) | 1988-02-08 | 1989-02-08 | 非対称ジチオアセタール及びジチオケタールの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4883878A (ja) |
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| JP (1) | JPH0623176B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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- 1989-02-08 JP JP1027745A patent/JPH0623176B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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|---|---|
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| EP0328188A3 (en) | 1991-05-08 |
| CA1330662C (en) | 1994-07-12 |
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| EP0328188A2 (en) | 1989-08-16 |
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