JPH0214495A - Read only memory - Google Patents

Read only memory

Info

Publication number
JPH0214495A
JPH0214495A JP63163604A JP16360488A JPH0214495A JP H0214495 A JPH0214495 A JP H0214495A JP 63163604 A JP63163604 A JP 63163604A JP 16360488 A JP16360488 A JP 16360488A JP H0214495 A JPH0214495 A JP H0214495A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
potential
bit line
transistor
pair
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63163604A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Daisuke Miura
大祐 三浦
Kazuyuki Asai
浅井 一行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP63163604A priority Critical patent/JPH0214495A/en
Publication of JPH0214495A publication Critical patent/JPH0214495A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

PURPOSE:To attain high speed of readout by providing a memory cell comprising a transistor (TR) pair whose gate is connected to a word line and a bit line pair of 2 line one pair in common, giving a ground potential to one bit line and giving a power potential to other bit line and detecting a difference voltage to the bit line pair. CONSTITUTION:Gates of 1st and 2nd TRs Q1, Q2 constituting each memory cell are connected in common to a word line WL, the bit line is constituted by it line pair of 2 line one pair, the source S of the 1st TR Q1 is connected to a ground potential VSS and the source S of the TR Q2 is connected to a power potential VDD. Then one bit line potential descends from an intermediate potential VMID to ground potential VSS and other bit line potential VMID rises from the intermediate potential to the power potential VDD, a potential difference is caused to the bit line pair and the potential difference is detected by a difference sense amplifier 5. Thus, the bit line potential is increased/decreased from the middle of the ground potential and the readout time is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は、リード・オンリ・メモリ(以下、ROMとい
う、)に係り、特にマスクROMに間し、 回路的にビット線電位の変化時間の短縮化を図り、もっ
て読み出し動作の高速化を可能とするR、OMを提供す
ることを目的とし、 2本一対のビット線対と、ゲートがワード線に共通接続
され、前記一方のビット線に接地電位を与える第1のト
ランジスタおよび他方のビット線に電源電位を与える第
2のトランジスタのトランジスタ対からなるメモリセル
と、前記ビット線対の差電圧を検出する差動センスアン
プと、を具備して構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention relates to a read-only memory (hereinafter referred to as ROM), and in particular to a mask ROM, and aims to shorten the change time of the bit line potential in terms of circuitry. , the purpose of this is to provide an R, OM that enables faster read operations, and includes a pair of bit lines, the gates of which are commonly connected to a word line, and a ground potential is applied to one of the bit lines. The memory cell includes a memory cell including a transistor pair of a first transistor and a second transistor that applies a power supply potential to the other bit line, and a differential sense amplifier that detects a voltage difference between the bit line pair.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は、ROMに係り、特にマスクROMに関する。 The present invention relates to a ROM, and particularly to a mask ROM.

マスクROMは、データのプログラム(書き込み)をウ
ェーハプロセス中に行うものである6通常は、ユーザが
指定したプログラムデータに基づいてメーカ側でマスク
パターンを作成し、このマスクパターンによりプログラ
ムを行う、マスクROMのプログラム方式には主として
3種類ある。
Mask ROM is a device in which data is programmed (written) during the wafer process.6 Normally, a mask pattern is created by the manufacturer based on program data specified by the user, and programming is performed using this mask pattern. There are mainly three types of ROM programming methods.

1つはメモリセル・トランジスタの有無で“1″“0”
を定義する拡散層プログラム方式、2つはメモリセル・
トランジスタのしきい値電圧を変えることによりプログ
ラムするイオン注入プログラム方式、3つはコンタクト
孔の有無により“1”“0”を定義するコンタクト孔プ
ログラム方式である。このようなマスクROMは記憶密
度が高いことから、多量データの高速読み出しを必要と
する画像処理装置の画像メモリ等に好適である。
One is “1” or “0” depending on the presence or absence of memory cells and transistors.
The diffusion layer programming method that defines the
The third method is an ion implantation programming method in which programming is performed by changing the threshold voltage of a transistor, and the other is a contact hole programming method in which "1" and "0" are defined depending on the presence or absence of a contact hole. Since such a mask ROM has a high storage density, it is suitable for use as an image memory of an image processing device that requires high-speed reading of a large amount of data.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

まず、第4図に一般的なマスクROMの概要図を示す、
第4図において、XアドレスデータA。0〜A が入力
されると、−旦アドレスバッファ1n 内に格納される。XアドレスデータA。0”inはXデ
コーダ2により解読され、メモリセル・マトリクス3内
の特定のワード線WLを1本選択する。
First, FIG. 4 shows a schematic diagram of a general mask ROM.
In FIG. 4, X address data A. When 0 to A are input, -1 is stored in the address buffer 1n. X address data A. 0''in is decoded by the X decoder 2 and selects one specific word line WL in the memory cell matrix 3.

一方、このときメモリセル・マトリクス3内のビット線
すに読み出しイネーブル信号φが与えられると、対応す
るアドレスのメモリセルの記憶内容がセンスアンプ4に
より検出され、読み出しデータD。0〜DIInとして
出力される。
On the other hand, when the read enable signal φ is applied to the bit line in the memory cell matrix 3 at this time, the storage contents of the memory cell at the corresponding address are detected by the sense amplifier 4, and the read data D is detected. It is output as 0 to DIIn.

次に、第5図に従来のマスクROMに用いられている1
トランジスタ(NMO8PET)形のメモリセルの例を
示す。
Next, FIG. 5 shows 1
An example of a transistor (NMO8PET) type memory cell is shown.

第5図において、ワード線WLとビット線■。In FIG. 5, word line WL and bit line ■.

blとの各交点にはメモリセルとなるトランジスタQH
1,Q142が配置されている。各トランジスタQ81
’ Q)42のゲートはワード線WLに共通接続されて
いる。一方のトランジスタQH1のドレインはビット線
す。に接続されて論理“0”にプログラムされており、
ソースは接地電位■s8に接地されている。他方のトラ
ンジスタQ142のドレインは未接続であり論理“1″
にプログラムされている。
At each intersection with bl, there is a transistor QH which becomes a memory cell.
1, Q142 is placed. Each transistor Q81
' Q) The gates of 42 are commonly connected to the word line WL. The drain of one transistor QH1 is connected to the bit line. connected to and programmed to logic “0”,
The source is grounded to the ground potential ■s8. The drain of the other transistor Q142 is not connected and has logic “1”.
is programmed to.

トランジスタQ およびQP2はプリチャージ用のトラ
ンジスタであり、そのゲートにイネーブル信号φが入力
される。各ビット線す0、■lはセンスアンプ4に接続
され、このセンスアンプ4により各トランジスタQH1
,QH□の出力電圧を検出し、その読み出しデータD 
 、D2が読み出される。
Transistors Q and QP2 are precharge transistors, and an enable signal φ is input to their gates. Each bit line S0, ■1 is connected to a sense amplifier 4, and each transistor QH1
, QH□, and read the read data D.
, D2 are read.

次に、動作を説明する。Next, the operation will be explained.

読み出しイネーブル信号φが“H″レベルなると、各ビ
ット線す0、■lに電源電位VD、が与えられる、この
とき、ワードIIWLが選択されたとすると、そのワー
ド線WLは活性化されて“H”レベルとなる。すると、
トランジスタQH1はONとなり、電源電圧V は接地
電位vs8に吸収されD るので、ビット線■の出力電圧は“L″レベルあり、し
たがって出力データD1は0”である、なお、トランジ
スタQH□は未接続であるから、ビット線b1の出力電
圧は“H”レベルのままであり、出力データD2として
は“1”となる。
When the read enable signal φ goes to "H" level, the power supply potential VD is applied to each bit line S0, ■l. At this time, if word IIWL is selected, that word line WL is activated and goes to "H" level. “It becomes a level. Then,
Transistor QH1 is turned on, and the power supply voltage V is absorbed by the ground potential vs8, so the output voltage of bit line ■ is at the "L" level, so the output data D1 is 0. Note that transistor QH□ is not yet activated. Since the bit line b1 is connected, the output voltage of the bit line b1 remains at the "H" level, and the output data D2 becomes "1".

このように、データの読み出し時間は、ビット線電位が
電源電位■。0から接地電位vS8に立下がるまでの時
間で決まる。
In this way, during the data read time, the bit line potential is at the power supply potential ■. It is determined by the time it takes to fall from 0 to ground potential vS8.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上述したように、従来のマスクROMにおけるデータの
読み出し時間は、“H”レベルに対応する電源電位■8
.(例えば、5V)から“L″ルベル対応する接地電位
v、s(例えば、0.)によで低下する時間に依存する
。この時間は、結局において、メモリセル・トランジス
タ自体の性能と周辺回路の寄生容量に原因するものであ
るため、根本的になくすことは困難である。しかし、近
年の情報量の増大傾向や情報処理の高速化の要請により
、読み出し時間の短縮は依然解決すべき課題として残さ
れている。
As mentioned above, the data read time in the conventional mask ROM is as follows:
.. (for example, 5V) to the ground potential v, s (for example, 0.) corresponding to the "L" level. This time is ultimately caused by the performance of the memory cell transistor itself and the parasitic capacitance of the peripheral circuit, so it is difficult to fundamentally eliminate it. However, due to recent trends in the increase in the amount of information and demands for faster information processing, shortening the readout time still remains an issue to be solved.

そこで、本発明は回路的にビット線電位の変化時間の短
縮化を図り、もって読み出し動作の高速化を可能とする
ROMを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a ROM in which the change time of the bit line potential can be shortened in terms of the circuit, thereby making it possible to speed up the read operation.

〔課題を解決するための手段〕 上記課題を解決するために、本発明は、2本−対のビッ
ト線対(b0、■)と、ゲート(G)がワード線(WL
)に共通接続され、前記一方のビット*(b  )に接
地電位(V88)を与える第1のトランジスタ(Q1)
および他方のビット線(b。)に電源電位(V、、)を
与える第2のトランジスタ(Q2)のトランジスタ対か
らなるメモリセルと、前記ビット線対(b0、■)の多
電圧を検出する差動センスアンプ(5)と、を具備して
構成する。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the present invention provides two bit line pairs (b0, ■) and a gate (G) connected to a word line (WL).
) and a first transistor (Q1) that is commonly connected to
and a memory cell consisting of a transistor pair of a second transistor (Q2) that applies a power supply potential (V, , ) to the other bit line (b.), and detects multiple voltages on the bit line pair (b0, ■). A differential sense amplifier (5) is provided.

〔作用〕[Effect]

本発明において、ワード線(WL)の選択時の状態では
、ビット線対(b0、■)のそれぞれは互に同電位(v
HIO)となっている、この電位(vHID)は、電源
電圧■。、と接地電位V3.との中間電位であり、例え
ばV  =5V、V、=Ovとすると、約2゜5■であ
る。
In the present invention, when the word line (WL) is selected, each of the bit line pairs (b0, ■) has the same potential (v
This potential (vHID), which is HIO), is the power supply voltage ■. , and ground potential V3. For example, if V=5V and V=Ov, it is about 2°5■.

この状態でワード線(WL>が選択されたとすると、メ
モリセルを構成する第1および第2のトランジスタ(Q
、Q2)は双方共にONとなる。
If the word line (WL> is selected in this state, the first and second transistors (Q
, Q2) are both turned ON.

すると、第1のトランジスタ(Q1)は一方のビット線
(b  )に接地電位(v88)を与え、換言すると当
該ビット線電位(vH□、)を吸収して接地電位(v8
8)に立下げる。この電圧降下の開始電位は上記中間電
位(vF4□、)である、また、第2.のトランジスタ
(Q2)は他方のビット線(b  )に電源電圧(Vo
0)を与え、換言すると当該ビット線電位(VHID)
を上昇させて電源電圧(Vo、)に立上げる。この電圧
上昇の開始電位は上記中間電位(vHI。)である。
Then, the first transistor (Q1) applies a ground potential (v88) to one bit line (b), in other words, it absorbs the bit line potential (vH□,) and returns to the ground potential (v8).
8) Lower it. The starting potential of this voltage drop is the above-mentioned intermediate potential (vF4□,). transistor (Q2) connects the other bit line (b) to the power supply voltage (Vo
0), in other words, the bit line potential (VHID)
is raised to the power supply voltage (Vo, ). The starting potential of this voltage increase is the above-mentioned intermediate potential (vHI.).

このように、一方のビット線電位は中間電位(V s□
、)から接地電位(V、、)に立下り、他方のビット線
電位(vHI0)は同じ中間電位から電源電圧(VD0
)に立上る。その結果、ビット線対には電源電圧と接地
電位との電位差が生じる。この電位差は差動センスアン
プにより検出され、センスアンプから論理″0″のデー
タが読み出されたことになる。
In this way, one bit line potential is the intermediate potential (V s□
, ) to the ground potential (V, , ), and the other bit line potential (vHI0) falls from the same intermediate potential to the power supply voltage (VD0
) stand up. As a result, a potential difference occurs between the power supply voltage and the ground potential in the bit line pair. This potential difference is detected by the differential sense amplifier, and data of logic "0" is read from the sense amplifier.

かくして、ビット線電位は電源電圧と接地電位の間を立
上ったり、立下ったりするのではなく、その中間電位か
ら立上り、立下りが生じるため、その分だけ読み出し時
間が短縮されることになる。
In this way, the bit line potential does not rise and fall between the power supply voltage and the ground potential, but instead rises and falls from an intermediate potential, which shortens the read time accordingly. Become.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described based on the drawings.

第1図に本発明の実施例を示す、なお、第5図と同一も
しくは重複する部分には同一符号を附して以下説明する
An embodiment of the present invention is shown in FIG. 1, and the same or overlapping parts as in FIG. 5 are given the same reference numerals and will be described below.

第1図において、各メモリセルは、第1トランジスタQ
 および第2トランジスタQ2の2つのトランジスタで
構成される。第1および第2トランジスタQ1rQ2の
ゲートはワード線WLに共通接続されている。ビット線
は2本一対のビット線対で構成され、それぞれをb  
0、■o0、■l。
In FIG. 1, each memory cell has a first transistor Q
and a second transistor Q2. The gates of the first and second transistors Q1rQ2 are commonly connected to the word line WL. The bit line consists of two bit line pairs, each with b
0, ■o0, ■l.

b とする、第1トランジスタQ1のドレインDは第1
ビツト線す。°に接続され、ソースSは接地電位V88
に接続されている。第2トランジスタQ のドレインD
は第2ビツト線す。に接続され、ソースSは電源電位v
00に接続されている。つまり、第1トランジスタQ1
と第2トランジスタQ、にはそれぞれ逆の電位が与えら
れるようになっている、第1ビツト線b と第2ビツト
線す。
b, the drain D of the first transistor Q1 is the first
Bit line. °, source S is connected to ground potential V88
It is connected to the. Drain D of second transistor Q
is the second bit line. and the source S is connected to the power supply potential v
Connected to 00. In other words, the first transistor Q1
and the second transistor Q, opposite potentials are applied to the first bit line b and the second bit line B, respectively.

との間には、イコライズ用トランジスタQ3が接続され
、そのゲートGに読み出しイネーブル信号φが与えられ
るようになっている。また、第1とット線す。は差動セ
ンスアンプ5の+側入力端子に接続され、第2ビツトl
1■は差動センスアンプ5の一側入力端子に接続されて
いる。
An equalizing transistor Q3 is connected between the transistor Q3 and the gate G of the equalizing transistor Q3, and a read enable signal φ is applied to its gate G. Also, the first cut line. is connected to the + side input terminal of the differential sense amplifier 5, and the second bit l
1■ is connected to one side input terminal of the differential sense amplifier 5.

以上の構成単位で各メモリセルが構成されるので、他の
メモリセル部分には対応する符号を附してその説明は省
略する。
Since each memory cell is constituted by the above-mentioned structural units, corresponding reference numerals are given to other memory cell portions, and explanations thereof will be omitted.

以上のメモリセルを用いたマスクROMをマスタースラ
イス構造のIC上に実装する場合のパターン例を第3図
(’a)に示し、その対応する等価回路を第3図(b)
に示す、第37 (a)に示すように、図上縦方向のA
j既配線メタル第1層とし、横方向をメタル第2層とし
て多層配線を行い、O印で示すコンタクトによりメタル
第1層とトランジスタQ、Q2と接続し、・印で示すコ
ンタクトによりメタル第1層と第2層を接続し、第1図
に示す回路を構成する。
An example of a pattern when a mask ROM using the above memory cells is mounted on an IC with a master slice structure is shown in FIG. 3('a), and the corresponding equivalent circuit is shown in FIG. 3(b).
As shown in No. 37 (a), A in the vertical direction in the figure
j Perform multilayer wiring with the already-wired metal as the first layer and the horizontal direction as the second metal layer, and connect the first metal layer to the transistors Q and Q2 through the contacts indicated by O, and connect the first metal layer to the transistors Q and Q2 through the contacts indicated by . The layer and the second layer are connected to form the circuit shown in FIG.

次に、動作を説明する(第2図参照)。Next, the operation will be explained (see FIG. 2).

まず、読み出しイネーブル信号φもワード線WLへの選
択信号も与えられていない状態、すなわち当該メモリセ
ルの読み出し以前の状態においては、前回の読み出し時
での電位関係が第1ビツト線■については“H”レベル
(v■)、第2ビツト線■については“し”レベル(v
■)とする。
First, in a state where neither the read enable signal φ nor the selection signal to the word line WL is applied, that is, before the memory cell is read, the potential relationship at the previous read is " For the H” level (v ■) and the second bit line ■, the “H” level (v
■).

する。do.

いま、時刻t1で読み忠しイネーブル信号φ(“H″L
Lレベル与えられたとする。すると、イコライズトラン
ジスタQ3はONとなり、第1ピツト線b と第2ビツ
ト線す。が短絡される。
Now, at time t1, the enable signal φ(“H”L
Suppose you are given an L level. Then, the equalizing transistor Q3 is turned on, and the first bit line b and the second bit line are connected. is shorted.

この短絡より時刻t において第1ビツト線す。Due to this short circuit, the first bit line is switched on at time t.

および第2ビットmb。共に電源電位V。、(“H”レ
ベル)と接地電位v88(″L″レベル)との中間電位
vH4Dでフローティング状態となる0例えば、VDD
= 5 V 、 Vss= OVとすると、v141D
 =2.5vとなる。
and second bit mb. Both power supply potentials are V. , (“H” level) and the ground potential v88 (“L” level), which is in a floating state at an intermediate potential vH4D. For example, VDD
= 5 V, Vss= OV, then v141D
=2.5v.

次に、ワード線WLが選択されて活性化(“H”レベル
)されると、第1トランジスタQ1および第2トランジ
スタQ2共にONとなる。すると、第1トランジスタQ
1にあっては第1ビツト線b の電位■■を中間電位■
H1oから電源電位vDDに上昇させる。一方、第2ト
ランジスタQ2にあっては第2ビツト線b の電位v■
を中間電位■  から接地電位Vs、に降下せしめる、
ID その結果、第1ビツト線す。と第2ビツト線■間には接
地電位v88と電源電位700間の電位差に対応する差
電圧が生じる。この差電圧は差動センスアンプ5に入力
され、当該差動センスアンプ5は論理″0″のデータD
1を出力して読み出し動作を完了する。
Next, when the word line WL is selected and activated (“H” level), both the first transistor Q1 and the second transistor Q2 are turned on. Then, the first transistor Q
1, the potential of the first bit line b is set to the intermediate potential
The power supply potential is raised from H1o to vDD. On the other hand, in the second transistor Q2, the potential v■ of the second bit line b
is lowered from the intermediate potential ■ to the ground potential Vs,
ID As a result, the first bit line. A differential voltage corresponding to the potential difference between the ground potential v88 and the power supply potential 700 is generated between the second bit line and the second bit line (2). This differential voltage is input to the differential sense amplifier 5, and the differential sense amplifier 5 receives data D of logic "0".
Outputs 1 to complete the read operation.

以上のように、第1、第2のビット線b□。As described above, the first and second bit lines b□.

■の電位v■、v、oの変化は常に中間零位V  から
始まるため、従来のようにvDDとvssID の電位間を変化することにより、データが時刻t で出
力されるのと異なり目的電位(voo又は■3.)まで
の到達時間が早くなり、このことは読出し時間の短縮化
、すなわち読み出し動作の高速化を達成することを意味
する。
Changes in the potentials v■, v, and o of (voo or ■3.) becomes faster, which means that the read time is shortened, that is, the read operation is faster.

なお、本発明によれば、1つのメモリセルを2つのトラ
ンジスタQ1.Q2で構成することになり、従来の1ト
ランジスタ方式に比べてトランジスタ数が増えることに
なる。しかし、本発明を汎用のICに適用する場合には
使用可能なトランジスタに制限が生じるためにある程度
制約を受けることになるが、ASIC(^pplica
tion 5pecificIC>等のカスタムICに
適用する場合、ユーザの仕様により不使用トランジスタ
が出るのでそれを流用することが可能であるという点、
および、たとえトランジスタ数が増加したとしても従来
よりも大幅な読み出し時間の高速化(約10ns)が可
能となる点を考慮すれば、別設不利とはならない。
Note that according to the present invention, one memory cell is connected to two transistors Q1. Q2, and the number of transistors increases compared to the conventional one-transistor system. However, if the present invention is applied to a general-purpose IC, there will be some restrictions due to limitations on the transistors that can be used.
When applied to a custom IC such as tion 5 specific IC, there are unused transistors depending on the user's specifications, so it is possible to reuse them.
Furthermore, even if the number of transistors is increased, there is no disadvantage in separately providing the device, considering that the readout time can be significantly faster (approximately 10 ns) than in the conventional case.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上に述べた通り、本発明によれば、データ読み出し時
におけるビット線電位の変化量を小さくすることができ
るため、高速読み出しが可能となる。
As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the amount of change in the bit line potential during data reading, thereby enabling high-speed reading.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例を示す回路図、第2図は本発明
の動作説明図、 第3図(a)はマスタースライスICへの実装例を示す
平面図、(b)は対応する等価回路図、第4図は従来の
マスクROMの概要図、第5図は従来のマスクFtOM
のメモリセルの回路図である。 Ql・・・第1トランジスタ Q2・・・第2トランジスタ ■0、■l・・・第1ビツト線 ■0、■i・・・第2ビツト線 WL・・・ワード線 φ・・・読み出しイネーブル信号 vDO・・・電源電位 ■ss・・・接地電位 代理人弁理士  井  桁  貞 本発明の動作説明図 池2M 従来のマスクROMの概要図 懺4図 D+:”、売み出しテーク
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram of the operation of the present invention, FIG. 3(a) is a plan view showing an example of mounting on a master slice IC, and FIG. 3(b) is a corresponding diagram. Equivalent circuit diagram, Figure 4 is a schematic diagram of a conventional mask ROM, Figure 5 is a conventional mask FtOM.
FIG. 2 is a circuit diagram of a memory cell of FIG. Ql...first transistor Q2...second transistor ■0, ■l...first bit line ■0, ■i...second bit line WL...word line φ...read enable Signal vDO...Power supply potential ■ss...Ground potential Patent attorney Igata Sadamoto Operation explanation diagram of the invention 2M Outline diagram of conventional mask ROM Figure 4D+:", Sale take

Claims (1)

【特許請求の範囲】 2本一対のビット線対(b_0、■)と、 ゲート(G)がワード線(WL)に共通接続され、前記
一方のビット線(b_0)に接地電位(V_S_S)を
与える第1のトランジスタ(Q_1)および他方のビッ
ト線(■)に電源電位(V_D_D)を与える第2のト
ランジスタ(Q_2)のトランジスタ対からなるメモリ
セルと、 前記ビット線対(b_0、■)の差電圧を検出する差動
センスアンプ(5)と、 を具備したことを特徴とするリード・オンリ・メモリ。
[Claims] A pair of bit lines (b_0, ■) and a gate (G) are commonly connected to a word line (WL), and one bit line (b_0) is connected to a ground potential (V_S_S). a memory cell consisting of a transistor pair of a first transistor (Q_1) to supply a power supply potential (V_D_D) to the other bit line (■) and a second transistor (Q_2) to supply a power supply potential (V_D_D) to the other bit line (■); A read-only memory characterized by comprising: a differential sense amplifier (5) that detects a differential voltage;
JP63163604A 1988-06-30 1988-06-30 Read only memory Pending JPH0214495A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63163604A JPH0214495A (en) 1988-06-30 1988-06-30 Read only memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63163604A JPH0214495A (en) 1988-06-30 1988-06-30 Read only memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0214495A true JPH0214495A (en) 1990-01-18

Family

ID=15777085

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63163604A Pending JPH0214495A (en) 1988-06-30 1988-06-30 Read only memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0214495A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001107889A (en) * 1999-09-16 2001-04-17 Boc Group Plc:The Improvement of vacuum pump
US7116571B2 (en) 2002-02-20 2006-10-03 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit
JP2008234808A (en) * 2007-03-23 2008-10-02 Renesas Technology Corp Semiconductor device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001107889A (en) * 1999-09-16 2001-04-17 Boc Group Plc:The Improvement of vacuum pump
US7116571B2 (en) 2002-02-20 2006-10-03 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit
US7324397B2 (en) 2002-02-20 2008-01-29 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit
JP2008234808A (en) * 2007-03-23 2008-10-02 Renesas Technology Corp Semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100385572C (en) Semiconductor device and semiconductor storage device
US6891742B2 (en) Semiconductor memory device
KR0164199B1 (en) Semiconductor memory device
US5241503A (en) Dynamic random access memory with improved page-mode performance and method therefor having isolator between memory cells and sense amplifiers
US7102946B2 (en) Local bit select circuit with slow read recovery scheme
CN103187100A (en) Quantifying the read and write margins of memory bit cells
TW200418028A (en) Semiconductor memory device and its refreshing method
KR20070049266A (en) Memory core capable of writing a full data pattern to edge sub arrays, semiconductor memory device having the same, and method for testing edge sub arrays
US7177176B2 (en) Six-transistor (6T) static random access memory (SRAM) with dynamically variable p-channel metal oxide semiconductor (PMOS) strength
US4079462A (en) Refreshing apparatus for MOS dynamic RAMs
US20010022752A1 (en) Method and apparatus for rapidly testing memory devices
US5761700A (en) ROM mapping and inversion apparatus and method
US6424556B1 (en) System and method for increasing performance in a compilable read-only memory (ROM)
KR20040012241A (en) Read only memory cell, program and layout method of the cell, and read only memory device comprising the cell
US10755774B2 (en) Coupling compensation circuitry
JPH10144889A (en) Structure of memory cell array of semiconductor memory device
CA1160742A (en) Static ram memory cell
US5612919A (en) Method of testing an operation of a semiconductor memory device and semiconductor memory device which can be subjected to such an operation test
JPH0214495A (en) Read only memory
US20210407617A1 (en) Integrated circuit memory with built-in self-test (bist)
JPS61222090A (en) Static ram with flash clearing function
JPH06314498A (en) Semiconductor integrated circuit
KR20060055114A (en) Bit line layout structure in semiconductor memory device
JPH11328966A (en) Semiconductor memory and data processor
CN101552035B (en) Storage system