JPH02141712A - 縮小率補償機構 - Google Patents
縮小率補償機構Info
- Publication number
- JPH02141712A JPH02141712A JP63294568A JP29456888A JPH02141712A JP H02141712 A JPH02141712 A JP H02141712A JP 63294568 A JP63294568 A JP 63294568A JP 29456888 A JP29456888 A JP 29456888A JP H02141712 A JPH02141712 A JP H02141712A
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- JP
- Japan
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- support structure
- lens
- reduction rate
- reduction
- image distortion
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は縮小投影露光装置の縮小率補償に関するもので
あり、気圧、温度変動機構系および構造系の微小な経時
変動の補償に好適な機構に関する。
あり、気圧、温度変動機構系および構造系の微小な経時
変動の補償に好適な機構に関する。
従来の装置においては、像歪補正はレンズ支持構造体部
で行い、縮小率調整はレンズ支持構造体と装置本体側支
持構造体とを連結するねじ要素により上下微動する方式
であり、縮小率調整に際しては上記の２つの部位での微
調整を必要とするようになっている。
で行い、縮小率調整はレンズ支持構造体と装置本体側支
持構造体とを連結するねじ要素により上下微動する方式
であり、縮小率調整に際しては上記の２つの部位での微
調整を必要とするようになっている。
従来技術の実施例を第２図により述べる。縮小率調整を
行う場合、レンズ支持構造体１の接合面で露光々軸に垂
直な面の微小傾斜を調整することにより、像歪を適正状
態に補正する。また露光パターンの倍率の微小な変動す
なわち縮小率変動の補正は、レンズ支持構造体と装置本
体側支持構造体２とを連結するねじ要素３により、レン
ズ支持構造体を上下方向に微動し調整する方式である。
行う場合、レンズ支持構造体１の接合面で露光々軸に垂
直な面の微小傾斜を調整することにより、像歪を適正状
態に補正する。また露光パターンの倍率の微小な変動す
なわち縮小率変動の補正は、レンズ支持構造体と装置本
体側支持構造体２とを連結するねじ要素３により、レン
ズ支持構造体を上下方向に微動し調整する方式である。
従来技術は上記のように、それぞれ独立した２つの部位
により縮小率調整を人手により実施する必要があり、実
際の調整作業において、２つの部位の調整に相互干渉も
存在し、したがってかなりの熟練と、調整作業時間の短
縮化において問題がある。
により縮小率調整を人手により実施する必要があり、実
際の調整作業において、２つの部位の調整に相互干渉も
存在し、したがってかなりの熟練と、調整作業時間の短
縮化において問題がある。
本発明の目的は従来技術の問題点を解決するため、つぎ
の点を狙いとするものである。
の点を狙いとするものである。
（１）像歪および倍率補正の相互干渉を回避するために
、同一部位における微調整を可能とする。
、同一部位における微調整を可能とする。
（２）調整時間の短縮化と熟練作業技術の排除。
（３）高精度調整を可能とする機構の実現。
上記目的はつぎのような技術的手段により達成すること
ができる。すなわち第２図においてレンズ支持構造体１
と装置本体側支持構造体２との間に存在するねじ要素に
置換えて、たとえばピエゾ形圧電アクチュエータを円周
方向に少なくとも３ヶ以上配置し、これら複数個の圧電
アクチュエータの高さを制御することにより、露光々軸
方向および露光々軸に垂直な面の傾斜量を高精度に決定
することができ、一つの部位で熟練技術なしでしかも短
時間で縮小率調整を実現できる。
ができる。すなわち第２図においてレンズ支持構造体１
と装置本体側支持構造体２との間に存在するねじ要素に
置換えて、たとえばピエゾ形圧電アクチュエータを円周
方向に少なくとも３ヶ以上配置し、これら複数個の圧電
アクチュエータの高さを制御することにより、露光々軸
方向および露光々軸に垂直な面の傾斜量を高精度に決定
することができ、一つの部位で熟練技術なしでしかも短
時間で縮小率調整を実現できる。
縮小投影露光装置の縮小率調整においては、般に像歪お
よび倍率の両者を適正な状態に設定することが必要であ
る。まず像歪のない理想的な露光転写においては、正方
パターンとなくべきパターンが台形パターンあるいはこ
れらが変形した四辺形パターンの如き歪んだパターンと
なる。この像歪発生の要因としては、レンズ本体の各種
収差露光々頓に対するレンズ光軸の傾斜、支持構造体ま
わりの微小な経時変化などが挙げられる。また倍率変動
はレンズ本体内レンズ群の幾何学的配置変動、装置構造
体およびレンズ系支持構造体の幾何学的変動に起因する
ものと推定される。
よび倍率の両者を適正な状態に設定することが必要であ
る。まず像歪のない理想的な露光転写においては、正方
パターンとなくべきパターンが台形パターンあるいはこ
れらが変形した四辺形パターンの如き歪んだパターンと
なる。この像歪発生の要因としては、レンズ本体の各種
収差露光々頓に対するレンズ光軸の傾斜、支持構造体ま
わりの微小な経時変化などが挙げられる。また倍率変動
はレンズ本体内レンズ群の幾何学的配置変動、装置構造
体およびレンズ系支持構造体の幾何学的変動に起因する
ものと推定される。
本発明はレンズ系支持構造体と装置本体側支持構造体と
の連結部に例えばピエゾ形圧電アクチュエータを円筒方
向に少なくとも３ケ配置し、露光評価結果の像歪および
倍率値をもとに補正すべき換算値を圧電アクチュエータ
にフィードバック制御することにより、各アクチュエー
タの上下方向微動量を調整し、上下および傾斜を最適な
状態に調整することが可能となる。
の連結部に例えばピエゾ形圧電アクチュエータを円筒方
向に少なくとも３ケ配置し、露光評価結果の像歪および
倍率値をもとに補正すべき換算値を圧電アクチュエータ
にフィードバック制御することにより、各アクチュエー
タの上下方向微動量を調整し、上下および傾斜を最適な
状態に調整することが可能となる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。縮小
レンズ本体５をレンズ支持構造体１に結合し、装置本体
４側には別途に装置本体側支持構造体２が設けられてい
る。これら両者の支持構造体の連結部の例えば円周方向
３等分位置にピエゾ形圧電アクチュエータ６を配置する
。また同一円周上の適当な位置にばねを配置し１両支持
構造体１および２とが互いに一定保持力で連結されるよ
うに取付けられている。ピエゾ形圧電アクチュエータの
軸方向変位と印加電圧との関係は別途手段により予め較
正したものを実装する。別途手段による演算により求め
られる値を各々の圧電アクチュエータ制御回路８を介し
て指令することにより、像歪のない適正倍率状態を作り
出すことが可能となる。これにより安定した縮小率を保
証することができる。
レンズ本体５をレンズ支持構造体１に結合し、装置本体
４側には別途に装置本体側支持構造体２が設けられてい
る。これら両者の支持構造体の連結部の例えば円周方向
３等分位置にピエゾ形圧電アクチュエータ６を配置する
。また同一円周上の適当な位置にばねを配置し１両支持
構造体１および２とが互いに一定保持力で連結されるよ
うに取付けられている。ピエゾ形圧電アクチュエータの
軸方向変位と印加電圧との関係は別途手段により予め較
正したものを実装する。別途手段による演算により求め
られる値を各々の圧電アクチュエータ制御回路８を介し
て指令することにより、像歪のない適正倍率状態を作り
出すことが可能となる。これにより安定した縮小率を保
証することができる。
本発明によれば、レンズ支持構造体と装置本体側支持構
造体との連結部位のみによる像歪および倍率を含む縮小
率調整が可能となり、従来技術で問題とされた２つの部
位での調整による相互干渉を回避できるとともに、熟練
を要することなく、短時間で縮小率調整を高精度に実施
するととが可能となる。したがってつねに安定した縮小
率を補償することができる。
造体との連結部位のみによる像歪および倍率を含む縮小
率調整が可能となり、従来技術で問題とされた２つの部
位での調整による相互干渉を回避できるとともに、熟練
を要することなく、短時間で縮小率調整を高精度に実施
するととが可能となる。したがってつねに安定した縮小
率を補償することができる。
第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図は従来技術
を示す図である。 １・・・レンズ支持構造体、２・・・装置本体側支持構
造体、３・・・ねじ要素、４・・・装置本体、５・・・
縮小レンズ本体、６・・・圧電アクチュエータ、７川引
張りばね、８・・・圧電アクチュエータ用制御回路。 第 第 図
を示す図である。 １・・・レンズ支持構造体、２・・・装置本体側支持構
造体、３・・・ねじ要素、４・・・装置本体、５・・・
縮小レンズ本体、６・・・圧電アクチュエータ、７川引
張りばね、８・・・圧電アクチュエータ用制御回路。 第 第 図
Claims (1)
- １、縮小レンズ本体を保持するレンズ支持構造体と装置
本体側支持構造体との間に縮小レンズ系本体が露光々軸
方向に微動でき、かつ露光々軸に対し垂直な面が任意方
向に縮小傾斜できるようにすることにより、像歪および
縮小率の変動を補償するようにしたことを特徴とする縮
小率補償機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63294568A JPH02141712A (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | 縮小率補償機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63294568A JPH02141712A (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | 縮小率補償機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02141712A true JPH02141712A (ja) | 1990-05-31 |
Family
ID=17809467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63294568A Pending JPH02141712A (ja) | 1988-11-24 | 1988-11-24 | 縮小率補償機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02141712A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006308709A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Tohoku Univ | 顕微鏡ステージ、および、焦点位置計測装置と共焦点顕微鏡システム |
| JP2011150117A (ja) * | 2010-01-21 | 2011-08-04 | Nikon Corp | レンズ鏡筒及び撮像装置 |
| CN109604817A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-04-12 | 东北大学 | 一种超声振动透镜微转动辅助激光加工装置 |
-
1988
- 1988-11-24 JP JP63294568A patent/JPH02141712A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006308709A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Tohoku Univ | 顕微鏡ステージ、および、焦点位置計測装置と共焦点顕微鏡システム |
| JP2011150117A (ja) * | 2010-01-21 | 2011-08-04 | Nikon Corp | レンズ鏡筒及び撮像装置 |
| US9297981B2 (en) | 2010-01-21 | 2016-03-29 | Nikon Corporation | Lens barrel and imaging device |
| CN109604817A (zh) * | 2018-12-10 | 2019-04-12 | 东北大学 | 一种超声振动透镜微转动辅助激光加工装置 |
| CN109604817B (zh) * | 2018-12-10 | 2020-07-21 | 东北大学 | 一种超声振动透镜微转动辅助激光加工装置 |
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