JPH0213903Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0213903Y2 JPH0213903Y2 JP14144783U JP14144783U JPH0213903Y2 JP H0213903 Y2 JPH0213903 Y2 JP H0213903Y2 JP 14144783 U JP14144783 U JP 14144783U JP 14144783 U JP14144783 U JP 14144783U JP H0213903 Y2 JPH0213903 Y2 JP H0213903Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- temperature
- solution
- burner
- tube
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 10
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000009972 noncorrosive effect Effects 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Sorption Type Refrigeration Machines (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は吸収冷凍機用高圧再生器に関する。
従来の吸収冷凍機用高圧再生器においては、第
1図縦断面図に示すように、炉筒2内でバーナ1
によりガスを燃焼させ、高温ガスを平滑管3およ
びひれ付き管4よりなる管群を通過させ、煙道5
より排出すると、溶液入口管6より流入した希溶
液7が炉筒2周囲および平滑管3内、ひれ付き管
4内を流れながらガスと熱交換し、冷媒蒸気11
を発生して濃溶液12となり、出口管8より流出
する。こゝで9はエリミネータである。
1図縦断面図に示すように、炉筒2内でバーナ1
によりガスを燃焼させ、高温ガスを平滑管3およ
びひれ付き管4よりなる管群を通過させ、煙道5
より排出すると、溶液入口管6より流入した希溶
液7が炉筒2周囲および平滑管3内、ひれ付き管
4内を流れながらガスと熱交換し、冷媒蒸気11
を発生して濃溶液12となり、出口管8より流出
する。こゝで9はエリミネータである。
このような吸収冷凍機用高圧再生器は、ガス温
度が高いので、過大熱負荷による過熱腐食防止と
ひれ付き管群への幅射に対するシールドの目的の
ために、バーナ側管群は平滑管とし後部管群はひ
れ付管群としているのが特徴であるが、臭化リチ
ウム溶液の場合、高温で腐食性が強く、管内熱伝
達率が小さいこと、更にそれに対応するために内
面に充分な面積のひれを設けることが加工困難で
あること等により、局所的な過大熱負荷および管
内流れの淀みやアンバランスによつてバーナ側管
群に局部的な壁温上昇を生じ、過熱腐食が生じや
すい。
度が高いので、過大熱負荷による過熱腐食防止と
ひれ付き管群への幅射に対するシールドの目的の
ために、バーナ側管群は平滑管とし後部管群はひ
れ付管群としているのが特徴であるが、臭化リチ
ウム溶液の場合、高温で腐食性が強く、管内熱伝
達率が小さいこと、更にそれに対応するために内
面に充分な面積のひれを設けることが加工困難で
あること等により、局所的な過大熱負荷および管
内流れの淀みやアンバランスによつてバーナ側管
群に局部的な壁温上昇を生じ、過熱腐食が生じや
すい。
本考案はこのような事情に鑑みて提案されたも
ので、臭化リチウム溶液に接する伝熱面の壁温を
下げてその過熱腐食を防止し、高温ガスと臭化リ
チウム溶液を直接熱交換する代わりに腐食性のな
い中間媒体を介して熱交換するようにし、さらに
ひれ付面等の加工を容易にする吸収冷凍機用高圧
再生器を提供することを目的とする。
ので、臭化リチウム溶液に接する伝熱面の壁温を
下げてその過熱腐食を防止し、高温ガスと臭化リ
チウム溶液を直接熱交換する代わりに腐食性のな
い中間媒体を介して熱交換するようにし、さらに
ひれ付面等の加工を容易にする吸収冷凍機用高圧
再生器を提供することを目的とする。
そのために本考案は、炉筒後部を横切つて設け
られバーナにより溶液を加熱する熱交換管群を設
けたガス直焚き吸収冷凍機用高圧再生器におい
て、バーナ寄りの上記熱交換管群の一例ないし複
数列をそれぞれ炉筒を横切り端部が溶液中に浸漬
されたヒートパイプで構成したことを特徴とす
る。
られバーナにより溶液を加熱する熱交換管群を設
けたガス直焚き吸収冷凍機用高圧再生器におい
て、バーナ寄りの上記熱交換管群の一例ないし複
数列をそれぞれ炉筒を横切り端部が溶液中に浸漬
されたヒートパイプで構成したことを特徴とす
る。
本考案の一実施例を図面について説明すると、
第2図はその縦断面図、第3図は第2図の−
に沿つた部分断面図、第4図は第1図および第2
図の壁温と液温の温度差をそれぞれ比較する線図
である。
第2図はその縦断面図、第3図は第2図の−
に沿つた部分断面図、第4図は第1図および第2
図の壁温と液温の温度差をそれぞれ比較する線図
である。
まず第2図において、第1図と同一の記号はそ
れぞれ同図と同一の部材を示し、本考案において
は、平滑管3の代わりにバーナ側にヒートパイプ
33を設け、ヒートパイプ33の上方部分すなわ
ちヒートパイプ上部35は臭化リチウム溶液13
中に浸漬されその表面にフイン34が突設され、
ヒートパイプ33の内部には腐食性のない作動媒
体として例えば水が封入されている。
れぞれ同図と同一の部材を示し、本考案において
は、平滑管3の代わりにバーナ側にヒートパイプ
33を設け、ヒートパイプ33の上方部分すなわ
ちヒートパイプ上部35は臭化リチウム溶液13
中に浸漬されその表面にフイン34が突設され、
ヒートパイプ33の内部には腐食性のない作動媒
体として例えば水が封入されている。
このような構造において水は高温ガスにさらさ
れるヒートパイプ下部36で蒸発して水蒸気とな
り、水蒸気は臭化リチウム液13で冷却されてい
るヒートパイプ上部35に流れて冷却凝縮液化さ
れ、再びヒートパイプ下部36へ帰還する。
れるヒートパイプ下部36で蒸発して水蒸気とな
り、水蒸気は臭化リチウム液13で冷却されてい
るヒートパイプ上部35に流れて冷却凝縮液化さ
れ、再びヒートパイプ下部36へ帰還する。
その際のヒートパイプ上部35の壁温T35は(1)
式で表わされる。
式で表わされる。
T35=Tl+A/A′ q/αl ……(1)
たゞし、
Tl:臭化リチウム液温度、
A,A′:それぞれヒートパイプ下部36と
ヒートパイプ上部35の伝熱面積、 q:ヒートパイプ下部36への単位面積当り
熱負荷、 αl:臭化リチウム液の熱伝達率、 これに対し第1図に示した従来例の壁温T0は
(2)式で表わされる。
ヒートパイプ上部35の伝熱面積、 q:ヒートパイプ下部36への単位面積当り
熱負荷、 αl:臭化リチウム液の熱伝達率、 これに対し第1図に示した従来例の壁温T0は
(2)式で表わされる。
T0=Tl+q/αl ……(2)
従つて熱負荷q、液温Tl、熱伝達率αlをそれぞ
れ同一としたとき、A/A′<1とすることによ
り、T35<T0とすることが可能である。
れ同一としたとき、A/A′<1とすることによ
り、T35<T0とすることが可能である。
A/A′<1とするには、ヒートパイプ上部3
5の部分にひれを加工すれば良く、この加工は管
外であるため容易である。
5の部分にひれを加工すれば良く、この加工は管
外であるため容易である。
第4図は本考案による効果を示す線図で、14
は第1図に示した従来の場合、15は第2図に示
した本考案の場合の壁温と液温との温度差T35−
Tl又はT0−Tlをそれぞれ示す。
は第1図に示した従来の場合、15は第2図に示
した本考案の場合の壁温と液温との温度差T35−
Tl又はT0−Tlをそれぞれ示す。
たゞし、同図で熱負荷qおよび温度差T35−Tl
又はT0−Tlは、第1図に示した公知構造におけ
る最大値をそれぞれ1としている。
又はT0−Tlは、第1図に示した公知構造におけ
る最大値をそれぞれ1としている。
このような構造によれば、下記の効果が奏せら
れる。
れる。
(1) 臭化リチウムに接する伝熱面温度を下げるこ
とが可能である。
とが可能である。
(2) 高温ガスに接する伝熱面においては、作動媒
体に腐食性がないため過熱腐食の問題がなくな
る。
体に腐食性がないため過熱腐食の問題がなくな
る。
上記説明例ではヒートパイプはバーナ側管群と
しては下部が裸管となつているが、裸管の表面に
ひれを加工しても良く、効果としては、第1図の
従来例に外面ひれを付けた場合ひれのない場合よ
り熱負荷が大きくなり一層過熱腐食し易いので、
本考案の効果は上記実施例より更に増加する。
しては下部が裸管となつているが、裸管の表面に
ひれを加工しても良く、効果としては、第1図の
従来例に外面ひれを付けた場合ひれのない場合よ
り熱負荷が大きくなり一層過熱腐食し易いので、
本考案の効果は上記実施例より更に増加する。
要するに本考案によれば、炉筒後部を横切つて
設けられバーナにより溶液を加熱する熱交換管群
を設けたガス直焚き吸収冷凍機用高圧再生器にお
いて、バーナ寄りの上記熱交換管群の一例ないし
複数列をそれぞれ炉筒を横切り端部が溶液中に浸
漬されたヒートパイプで構成したことにより、長
寿命の吸収冷凍機用高圧再生器を得るから、本考
案は産業上極めて有益なものである。
設けられバーナにより溶液を加熱する熱交換管群
を設けたガス直焚き吸収冷凍機用高圧再生器にお
いて、バーナ寄りの上記熱交換管群の一例ないし
複数列をそれぞれ炉筒を横切り端部が溶液中に浸
漬されたヒートパイプで構成したことにより、長
寿命の吸収冷凍機用高圧再生器を得るから、本考
案は産業上極めて有益なものである。
第1図は公知の吸収冷凍機用高圧再生器を示す
縦断面図、第2図は本考案の一実施例を示す縦断
面図、第3図は第2図の−に沿つた部分断面
図、第4図は第1図および第2図の壁温と液温の
温度差をそれぞれ比較する線図である。 1……バーナ、2……炉筒、4……ひれ付管、
5……煙道、6……溶液入口管、7……希溶液、
8……溶液出口管、9……エリミネータ、10…
…蒸気出口管、11……冷媒蒸気、12……濃溶
液、13……臭化リチウム液、14……第1図に
おける壁温と液温との温度差、15……第2図に
おける壁温と液温との温度差、33……ヒートパ
イプ、34……フイン、35……ヒートパイプ上
部、36……ヒートパイプ下部。
縦断面図、第2図は本考案の一実施例を示す縦断
面図、第3図は第2図の−に沿つた部分断面
図、第4図は第1図および第2図の壁温と液温の
温度差をそれぞれ比較する線図である。 1……バーナ、2……炉筒、4……ひれ付管、
5……煙道、6……溶液入口管、7……希溶液、
8……溶液出口管、9……エリミネータ、10…
…蒸気出口管、11……冷媒蒸気、12……濃溶
液、13……臭化リチウム液、14……第1図に
おける壁温と液温との温度差、15……第2図に
おける壁温と液温との温度差、33……ヒートパ
イプ、34……フイン、35……ヒートパイプ上
部、36……ヒートパイプ下部。
Claims (1)
- 炉筒後部を横切つて設けられバーナにより溶液
を加熱する熱交換管群を設けたガス直焚き吸収冷
凍機用高圧再生器において、バーナ寄りの上記熱
交換管群の一列ないし複数列をそれぞれ炉筒を横
切り端部が溶液中に浸漬されたヒートパイプで構
成したことを特徴とする吸収冷凍機用高圧再生
器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14144783U JPS6050763U (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 吸収冷凍機用高圧再生器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14144783U JPS6050763U (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 吸収冷凍機用高圧再生器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6050763U JPS6050763U (ja) | 1985-04-10 |
JPH0213903Y2 true JPH0213903Y2 (ja) | 1990-04-17 |
Family
ID=30316355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14144783U Granted JPS6050763U (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 吸収冷凍機用高圧再生器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6050763U (ja) |
-
1983
- 1983-09-14 JP JP14144783U patent/JPS6050763U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6050763U (ja) | 1985-04-10 |
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