JPH02132455A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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JPH02132455A
JPH02132455A JP28650588A JP28650588A JPH02132455A JP H02132455 A JPH02132455 A JP H02132455A JP 28650588 A JP28650588 A JP 28650588A JP 28650588 A JP28650588 A JP 28650588A JP H02132455 A JPH02132455 A JP H02132455A
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layer
carbon
film
charge
coating
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舜平 山崎
Shigenori Hayashi
茂則 林
Noriya Ishida
石田 典也
Naoki Hirose
直樹 広瀬
Mari Sasaki
佐々木 麻里
Junichi Takeyama
竹山 順一
Shigeto Kojima
成人 小島
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Abstract

PURPOSE:To enhance the charge holding performance of the photosensitive body and to eliminate the disturbance of images so as to stabilize the images by forming a protective layer of two layers of films consisting of carbon or essentially consisting of the carbon and forming the front side layer so as to have the specific resistivity smaller than the specific resistivity of the layer on the photoconductive layer side. CONSTITUTION:The org. photosensitive layer 47 is formed by dip coating, etc., on a conductive base 41 and the protective layer 44 consisting of the two layers which consist of the carbon or consist essentially of the carbon is formed on the layer 7. The front side of the layer 44 is formed to have the specific resistivity smaller by >=1 digits than the specific resistivity of the layer 47 side. The layer 44 is formed by putting the base formed with the layer 47 in, for example, a plasma CVD device, introducing NF3 and C2H4 into the device and forming the films by changing the film forming conditions. The generation of flaws is preferably decreased by forming the layer 44 on the front side to have the hardness higher by >=50% than the hardness on the layer 47 side.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は有機系感光層上に表面保護層を有して成る電子
写真用感光体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor having a surface protective layer on an organic photosensitive layer.

「従来技術」 従来、電子写真方式に於いて使用される感光体としでは
、導電性支持体上にセレンなどの無機系光導電材料をバ
インダー中に分散させたもの、ポIJ  N−ビニル力
ルバゾールとトリニトロフルオレオンあるいはアゾ顔料
などの有機系光導電材料を用いたもの、及び非晶質シリ
コン系材料を用いたもの等が一般に知られている。
``Prior Art'' Conventionally, photoreceptors used in electrophotography include those in which an inorganic photoconductive material such as selenium is dispersed in a binder on a conductive support, and polyurethane resin (PoIJ N-vinyl Rubazole). Generally known are those using organic photoconductive materials such as trinitrofluoreon or azo pigments, and those using amorphous silicon materials.

ここにいう「電子写真方式」とは一般的に光導電性の感
光体をまず暗所で、例えばコロナ放電によって帯電させ
、次いで像露光し、露光部のみの電荷を選択的に散逸せ
しめて静電潜像を得、この潜像部を染料,顔料などの着
色材と高分子物質などの結合剤とから構成される検電微
粒子(トナー)で現像し可視化して画像を形成する様に
した画像形成法の一つである。
The "electrophotographic method" referred to here generally refers to a photoconductive photoreceptor that is first charged in a dark place by, for example, corona discharge, and then exposed to image light to selectively dissipate the charge only in the exposed areas. An electrostatic latent image is obtained, and this latent image area is developed and visualized using electrodetecting fine particles (toner) composed of colorants such as dyes and pigments and binders such as polymeric substances to form an image. It is one of the image forming methods.

この様な電子写真法に於いて感光体に要求される基本的
な特性としては (1)暗所で適当な電位に帯電できること。
The basic characteristics required of the photoreceptor in such electrophotography are (1) the ability to be charged to an appropriate potential in a dark place;

(2)暗所において電荷の散逸がすくないこと。(2) Less charge dissipation in the dark.

(3)光照射によって速やかに電荷を散逸せしめうるこ
と。
(3) The charge can be quickly dissipated by light irradiation.

などが挙げられる。Examples include.

上記の各感光体はこれらの基本的な特性以外に実使用上
それぞれ優れた特徴及び欠点を有しているが、なかでも
近年は製造コストが安い.環境汚染が少ない,比較的自
由な感光体設計ができる等の理由により、有機系感光体
の発展が著しい。
In addition to these basic characteristics, each of the above-mentioned photoreceptors has excellent features and disadvantages in practical use, but among them, in recent years, manufacturing costs have been low. The development of organic photoreceptors is remarkable because they cause less environmental pollution and allow relatively flexible photoreceptor design.

一般に有機系感光体とは電荷輸送材料を結着樹脂の中へ
分散あるいは溶解して導電性支持体上に塗布したもので
あり、ひとつの層で電荷保持.電荷発生,電荷輸送の機
能を有する単層型と電荷発生の機能を有する電荷発生層
(CGL),帯電電荷の保持とCGLから注入された電
荷の輸送機能を有する電荷輸送層(CTL),更には必
要に応じて支持体からの電荷の注入を阻止する、あるい
は支持体での光の反射を防止する等の機能を有した層な
どを積層した構成の機能分離型とが知られている。
In general, an organic photoreceptor is one in which a charge transport material is dispersed or dissolved in a binder resin and coated on a conductive support, allowing charge retention in a single layer. A single-layer type with the function of charge generation and charge transport, a charge generation layer (CGL) with the function of charge generation, a charge transport layer (CTL) with the function of holding the charged charge and transporting the charge injected from the CGL, and A functionally separated type is known in which a layer having a function of blocking charge injection from the support or preventing light reflection from the support is laminated as necessary.

これらの有機系感光体は前述の様に優れた特徴を有して
いるが、有機材料であるがゆえに表面硬度が低く、複写
プロセスでの実使用時に現像剤,クリーニング部材等か
ら受ける機械的な負荷によって、摩耗や傷が発生しやす
いという本質的な欠点も有している。
These organic photoreceptors have excellent characteristics as mentioned above, but because they are organic materials, their surface hardness is low and they are susceptible to mechanical damage from developers, cleaning materials, etc. during actual use in the copying process. It also has the inherent drawback that it is prone to wear and scratches due to load.

この感光層の摩耗は、帯電電位の減少をひきおこし、ま
た局部的な傷はコピー上でスジ状の異常画像を発生させ
る原因になり、いずれも感光体寿命を左右する重要な問
題である。
This abrasion of the photosensitive layer causes a decrease in the charging potential, and local scratches cause streak-like abnormal images to appear on copies, both of which are important problems that affect the life of the photoreceptor.

この様な欠点を解消する為に有機系感光層の表面に保護
層を設けて、複写機内外で受ける機械的負荷に対する耐
久性を改善する方法が提案されている。たとえば、感光
層の表面に有機フィルムを設ける方法(特公昭38−1
5446) .無機酸化物を設ける方法(特公昭43−
14517) .接着層を設けた後絶縁層を積層する方
法(特公昭43−27591) .或いはプラズマCV
D法・光CVD法等によってa−Si層,a−St:N
:H層,  a−St:O:HJii等を積層する方法
(特開昭57−179859,特開昭59−58437
)などが開示されている。
In order to overcome these drawbacks, a method has been proposed in which a protective layer is provided on the surface of the organic photosensitive layer to improve its durability against mechanical loads received inside and outside the copying machine. For example, a method of providing an organic film on the surface of a photosensitive layer (Japanese Patent Publication No. 38-1
5446). Method of providing inorganic oxide (Special Publication 1977-
14517). Method of laminating an insulating layer after providing an adhesive layer (Japanese Patent Publication No. 43-27591). Or plasma CV
A-Si layer, a-St:N by D method, photo-CVD method, etc.
:H layer, a-St:O:HJii, etc. method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-179859, JP-A No. 59-58437)
) etc. are disclosed.

又近年、高硬度ダイヤモンド状カーボン膜の保護層への
応用が活発化している。たとえば、感光層上に無定形炭
素又は硬質炭素から成る保護層を設けたもの(特開昭6
0−249155) .最表面にダイヤモンド状カーボ
ン保護層を設けたもの(特開昭61255352) ,
感光層上に炭素を主成分とする高硬度絶縁層を形成した
もの(特開昭61−264355) ,あるいは、有機
感光層上に窒素原子,アルカリ金属原子等の原子を少な
くとも含むプラズマ有機重合膜から成る保護層を設けた
も2の(特開昭63−97961〜4),有機感光層上
にカルコゲン原子,■属原子,■属原子,V属原子等の
原子を少なくとも含むグロー放電により生成された非晶
質炭化水素膜から成る保護膜を設けたもの(特開昭63
−220166〜9)などを挙げることができる。
Furthermore, in recent years, the application of high-hardness diamond-like carbon films to protective layers has become active. For example, a protective layer made of amorphous carbon or hard carbon is provided on a photosensitive layer (Japanese Unexamined Patent Publication No. 6
0-249155). A diamond-like carbon protective layer provided on the outermost surface (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61255352),
A high-hardness insulating layer mainly composed of carbon is formed on a photosensitive layer (JP-A-61-264355), or a plasma organic polymer film containing at least nitrogen atoms, alkali metal atoms, etc. on an organic photosensitive layer. 2 (Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-97961-4), a glow discharge containing at least chalcogen atoms, group II atoms, group II atoms, group V atoms, etc., is formed on the organic photosensitive layer. A protective film made of amorphous hydrocarbon film (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 1983-1999)
-220166 to 9).

これらの提案はいずれも有機系感光層の表面にイオンプ
ロセス(スパッタリング,プラズマC■D,グロー放電
法,光CVD法等)により作製した炭素又は炭素を主成
分とする高硬度の薄膜(iカーボン膜あるいはダイヤモ
ンド状炭素膜という総称で呼ばれるものに属する。)を
形成したものである。
In all of these proposals, carbon or a highly hard thin film mainly composed of carbon (i-carbon) is produced on the surface of an organic photosensitive layer by an ion process (sputtering, plasma CD, glow discharge method, photo-CVD method, etc.). It belongs to what is collectively referred to as a diamond-like carbon film or a diamond-like carbon film.

「発明が解決しようとする問題点」 この様な方法によって有機系感光層の表面硬度を上げる
ことが可能になり、その結果、数万枚のコピーに耐える
感光体を作製することができたが、更に出画を続ける七
感光体表面にスジ状の傷が発生し、異常画像の原因とな
った。
``Problem to be solved by the invention'' Through this method, it became possible to increase the surface hardness of the organic photosensitive layer, and as a result, it was possible to create a photoreceptor that could withstand tens of thousands of copies. Furthermore, streak-like scratches appeared on the surface of the seven photoconductors that continued to output images, causing abnormal images.

本発明はこの問題点を解決するために有機系感光層と炭
素または炭素を主成分とする被膜から成る保護層におい
て第1及び第2の炭素または炭素を主成分とする被膜を
設け、感光層に近い第1の層の比抵抗を第2の層の比抵
抗より1桁以上大きく設けることにより第1の層を帯電
保持層として作用させ、長期的に優れた機械的耐久性を
有する電子写真感光体を提供することを目的としたもの
である。さらに最表層である第2の層の硬度を第1の層
の硬度に比べて50%以上高くしたものである。
In order to solve this problem, the present invention provides first and second carbon or carbon-based coatings in a protective layer consisting of an organic photosensitive layer and carbon or a carbon-based coating. By providing the specific resistance of the first layer close to , which is at least one order of magnitude larger than the specific resistance of the second layer, the first layer acts as a charge-retaining layer, resulting in electrophotography having excellent long-term mechanical durability. The purpose is to provide a photoreceptor. Furthermore, the hardness of the second layer, which is the outermost layer, is increased by 50% or more compared to the hardness of the first layer.

r問題点を解決するための手段」 本発明は上記の目的を達成するために導電性支持体上に
有機系感光層、必要に応じて中間層、更に最表面に保護
層をこの順に積層した構成の電子写真用感光体において
、保護層を第1および第2の炭素または炭素を主成分と
する被膜とし、前記第2の被膜の比抵抗は前記第1の被
膜の比抵抗に比べて1桁以上小さくしたものである。
In order to achieve the above object, the present invention comprises laminating an organic photosensitive layer, an intermediate layer if necessary, and a protective layer on the outermost surface in this order on a conductive support. In the electrophotographic photoreceptor having the above structure, the protective layer includes first and second carbon or carbon-based coatings, and the specific resistance of the second coating is 1 compared to the specific resistance of the first coating. This is an order of magnitude smaller.

一般に感光体表面に発生した傷は画像に影響を及ぼし、
感光体表面の荒れが激しいほど画像品質は低下する。こ
れは感光体表面に存在する電荷が表面形状に影響され、
電荷の分布が乱れることに起因すると考えられる。そこ
で、潜像を形成する電荷を感光体表面ではなく、傷が発
生してもその形状の影響を受けない様に感光体内部に保
持すればよい。これが帯電保持層であり本発明では該帯
電保持層を感光層に近い第1の炭素または炭素を主成分
とする被膜で構成したものである。ここで、第2の被膜
は惑光体表面に発生した電荷を速やかに帯電保持層に伝
導させねばならないため、該第2の被膜の比抵抗は第1
の被膜の比抵抗より1桁以上、好ましくは2桁以上小さ
くする必要がある。
Generally, scratches that occur on the surface of the photoreceptor affect the image,
The more rough the photoreceptor surface is, the lower the image quality will be. This is because the charge existing on the photoreceptor surface is affected by the surface shape.
This is thought to be caused by disordered charge distribution. Therefore, the charge forming the latent image may be held not on the surface of the photoreceptor, but inside the photoreceptor so that even if a scratch occurs, it will not be affected by the shape of the scratch. This is the charge-retaining layer, and in the present invention, the charge-retaining layer is composed of a first carbon or a film mainly composed of carbon near the photosensitive layer. Here, since the second coating must quickly conduct the charge generated on the surface of the photoconductor to the charge retention layer, the specific resistance of the second coating is the same as that of the first coating.
It is necessary to make the resistivity smaller by one or more orders of magnitude, preferably by two or more orders of magnitude, than the specific resistance of the film.

さらに第2の被膜の硬度を第1の被膜の硬度に比べて5
0%以上硬くしたものである。
Furthermore, the hardness of the second coating is 5% compared to the hardness of the first coating.
It is made harder by 0% or more.

傷の発生を極力少なくするためには、炭素または炭素を
主成分とする被膜は硬質のものが得られるため有効であ
るが、あまり硬すぎると感光層が有機物であるがゆえに
柔らかいためにあまり硬すぎる膜とのなじみが悪く、数
μm程度の厚さの膜では割れが発生してしまう。そこで
第1の層を比較的柔らかく構成し柔質膜と硬質膜の間に
バッファ一層として設け、第2の層を耐摩耗性を向上さ
せるため第1の層に比べて50%以上硬くしたものであ
る。
In order to minimize the occurrence of scratches, carbon or a film mainly composed of carbon is effective because it provides a hard film, but if it is too hard, the photosensitive layer is soft because it is an organic material, so it is not very hard. If the film is too thick, it will not fit well with the film, and if the film is several micrometers thick, cracks will occur. Therefore, the first layer is made relatively soft and provided as a buffer layer between the soft film and the hard film, and the second layer is made 50% or more harder than the first layer to improve wear resistance. It is.

「発明の構成」 本発明に使用される導電性支持体としては導電体,ある
いは導電処理をした絶縁体が用いられる。
"Structure of the Invention" As the conductive support used in the present invention, a conductor or an insulator treated for conductivity is used.

たとえばAI,Ni,Fe,Cu,Auなどの金属ある
いは合金,ポリエステル,ポリカーボネート,ポリイミ
ド,ガラス等の絶縁性基体上にAI,Ag.Au等の金
属あるいはIn203+SnOz等の導電材料の薄膜を
形成したもの.導電処理をした紙等が例示できる。
For example, AI, Ag. A thin film formed of a metal such as Au or a conductive material such as In203+SnOz. An example is paper that has been subjected to conductive treatment.

また、導電性支持体の形状は特に制約はなく必要に応じ
て板状,ドラム状,ベルト状のものが用いられる。
Further, the shape of the conductive support is not particularly limited, and a plate, drum, or belt shape may be used as required.

この導電性支持体上に直接あるいは下引き層を介して設
けられる有機系感光層には前述の様に単層型と機能分離
型とがある。
As described above, the organic photosensitive layer provided directly or via an undercoat layer on the conductive support includes a single layer type and a functionally separated type.

単層型感光層の例としては色素増感された酸化亜鉛,酸
化チタン.硫化亜鉛等の光導電性粉体,セレン粉体,無
定形シリコン粉体,スクアリツク塩顔料,フタロシアニ
ン顔料,アズレニウム塩顔料,アゾ顔料等を必要に応じ
て結着剤樹脂及び/又は後述する電子供与性化合物と共
に塗布形成されたもの、またピリリウム系染料とビスフ
ェノールA系のポリカーポネートとから形成される共晶
錯体に電子供与性化合物を添加した組成物を用いたもの
等が挙げられる。結着剤樹脂としては後述する機能分離
型感光層と同様のものを使用することができる。この単
層型感光層の厚さは5〜30μmが適当である。
Examples of single-layer photosensitive layers include dye-sensitized zinc oxide and titanium oxide. Photoconductive powder such as zinc sulfide, selenium powder, amorphous silicon powder, squirt salt pigment, phthalocyanine pigment, azulenium salt pigment, azo pigment, etc. are optionally added to the binder resin and/or the electron donor described below. Examples include those formed by coating together with a polycarbonate compound, and those using a composition in which an electron-donating compound is added to a eutectic complex formed from a pyrylium dye and a bisphenol A polycarbonate. As the binder resin, the same resin as that used in the functionally separated photosensitive layer described later can be used. The thickness of this single-layer type photosensitive layer is suitably 5 to 30 μm.

一方機能分離型感光層において画像露光により潜像電荷
を発生分離させるための電荷発生層(CGL)としては
、結晶セレン,セレン化ヒ素等の無機光導電性粉体ある
いは有機系染顔料を結着剤樹脂に分散もしくは溶解させ
たものが用いられる。
On the other hand, in the functionally separated photosensitive layer, a charge generating layer (CGL) for generating and separating latent image charges by image exposure is formed by binding inorganic photoconductive powders such as crystalline selenium and arsenic selenide, or organic dyes and pigments. Dispersed or dissolved in agent resin is used.

電荷発生物質としての有機染顔料として例えば、シーア
イピグメントブル−25〔カラーインデックス(cr)
21180) .シーアイピグメントレッド4HCI2
1200) ,  シーアイアシッドレッド52(CI
 45100),シーアイベーシックレッド3(CI 
45210),さらに、ポリフィリン骨格を有するフタ
口シアン系顔料,アズレニウム塩顔料,スクアリック塩
顔料.カルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭53
−95033号公報に記載),スチリルスチルベン骨格
を有するアゾ顔料(特開昭53−138229号公報に
記載),トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料(特
開昭53132547号公報に記載),ジベンゾチオフ
ィン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−21728号
公報に記載),オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料
(特開昭54−12742号公報に記載),フルオレノ
ン骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−22834号公
報に記載),ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料(特
開昭54−17733号公報に記載),ジスチリルオキ
サジアゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭54−21
29号公報に記載),ジスチリルカルバゾール骨格を有
するアゾ顔料(特開昭54−2129号公報に記載),
ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料(特開昭
54−17734号公報に記載),カルバゾール骨格を
有するトリアゾ顔料(特開昭57−195767号公報
,同57−195768号公報に記載)等、さらにシー
アイピグメントブル−16(Cl 74100)等のフ
タロシアニン系顔料,シーアイパッドブラウン5(CI
 73410),シーアイバッドダイ (CI 730
30)9等のインジゴ系顔料,アルゴスカーレッドB 
(パンオレット社製),インダスレンスカーレットR 
(バイエル社製)等のベリレン系顔料等を使用すること
ができる。
As an organic dye and pigment as a charge generating substance, for example, C.I. Pigment Blue-25 [Color Index (CR)]
21180). CI Pigment Red 4HCI2
1200), Sea Eye Acid Red 52 (CI
45100), CI Basic Red 3 (CI
45210), and cyanide pigments having a porphyrin skeleton, azulenium salt pigments, and squalic salt pigments. Azo pigments having a carbazole skeleton
-95033), azo pigments having a styrylstilbene skeleton (described in JP-A-53-138229), azo pigments having a triphenylamine skeleton (described in JP-A-53132547), dibenzothiophine Azo pigments having a skeleton (described in JP-A-54-21728), azo pigments having an oxadiazole skeleton (described in JP-A-54-12742), azo pigments having a fluorenone skeleton (described in JP-A-54-12742), -22834), azo pigments with a bisstilbene skeleton (described in JP-A-54-17733), azo pigments with a distyryloxadiazole skeleton (described in JP-A-54-21),
29), an azo pigment having a distyrylcarbazole skeleton (described in JP-A-54-2129),
In addition, C.I. Phthalocyanine pigments such as Pigment Blue-16 (Cl 74100), Sea Eye Pad Brown 5 (CI
73410), Sea Eye Baddie (CI 730)
30) 9 grade indigo pigment, Argo Scarlet B
(manufactured by Panolette), Indus Thread Scarlet R
(manufactured by Bayer AG) and other berylene pigments can be used.

これらの電荷発生物質は単独で、あるいは2種類以上併
用して用いられる。
These charge generating substances may be used alone or in combination of two or more.

結着剤樹脂は、電荷発生物質100重量部に対して0〜
100重量部用いるのが適当であり、好ましくはO〜5
0重量部である。
The amount of the binder resin is 0 to 100 parts by weight of the charge generating substance.
It is appropriate to use 100 parts by weight, preferably O~5
It is 0 parts by weight.

これらの有機染顔料と併用される結着剤樹脂としてはポ
リイミド,ポリウレタン,ポリエステル,エポキシ樹脂
.ポリカーボネート,ポリエーテルなどの縮合系樹脂並
びにボリスチレン,ポリアクリレートボリメタクリレー
ト.ボリーN−ビニル力ルバゾール,ポリビニルブチラ
ール,スチレンーブタジエン共重合体,スチレンーアク
リロニトリル共重合体等の重合体および共重合体等の接
着性,絶縁性樹脂が挙げられる。
Binding resins used in combination with these organic dyes and pigments include polyimide, polyurethane, polyester, and epoxy resin. Condensation resins such as polycarbonate and polyether, as well as polystyrene and polyacrylate polymethacrylate. Adhesive and insulating resins such as polymers and copolymers such as poly-N-vinyl Rubazole, polyvinyl butyral, styrene-butadiene copolymer, and styrene-acrylonitrile copolymer can be mentioned.

電荷発生層は、電荷発生物質を必要ならばバインダー樹
脂とともに、テトラヒド口フラン,シクロヘキサノン,
ジオキサン,ジクロルエタン等の溶媒を用いてボールミ
ル,アトライター,サンドミルなどにより分散し、分散
液を適度に希釈して塗布することにより形成できる。塗
布は、浸漬塗工法やスプレーコート ビードコート法な
どを用いて行なうことができる。
The charge generation layer contains a charge generation substance, along with a binder resin if necessary, tetrahydrofuran, cyclohexanone,
It can be formed by dispersing with a ball mill, attritor, sand mill, etc. using a solvent such as dioxane or dichloroethane, and diluting the dispersion liquid appropriately and applying it. Application can be performed using a dip coating method, a spray coating method, a bead coating method, or the like.

電荷発生層の膜厚は、0.01〜5μm程度が適当であ
り、好ましくは0.1〜2μmである。
The thickness of the charge generation layer is suitably about 0.01 to 5 .mu.m, preferably 0.1 to 2 .mu.m.

電荷発生物質として結晶セレン又はセレン化ヒ素合金等
の粒子を用いる場合は電子供与性結着剤及び/又は電子
供与性有機化合物と併用される。このような電子供与性
物質としてはポリビニルカルバゾールおよびその誘導体
(例えばカルバゾール骨格に塩素,臭素などのハロゲン
,メチル基,アミノ基などの置換基を有するもの),ポ
リビニルピレン,オキサジアゾール,ピラゾリン,ヒド
ラゾン,ジアリールメタン,α−フエニルスチルベン、
トリフエニルアミン系化合物などの窒素含有化合物およ
びジアリールメタン系化合物等があるが、特にポリビニ
ル力ルバゾールおよびその誘導体が好ましい。またこれ
らの物質を混合して用いても良い。混合して用いる場合
もポリビニル力ルバゾールおよびその誘導体に他の電子
供与性有機化合物を添加するのが好ましい。この種の無
機系電荷発生物質の含有量は層全体の30〜90重量%
が適当である。また無機系電荷発生物質を用いた場合の
電荷発生層の厚さは0.2〜5μmが適当である。
When particles of crystalline selenium or arsenic selenide alloy are used as the charge-generating substance, they are used in combination with an electron-donating binder and/or an electron-donating organic compound. Examples of such electron-donating substances include polyvinylcarbazole and its derivatives (for example, those having halogens such as chlorine and bromine, and substituents such as methyl and amino groups in the carbazole skeleton), polyvinylpyrene, oxadiazole, pyrazoline, and hydrazone. , diarylmethane, α-phenylstilbene,
Nitrogen-containing compounds such as triphenylamine compounds and diarylmethane compounds are included, and polyvinyl rubberazole and its derivatives are particularly preferred. Alternatively, a mixture of these substances may be used. Even when used in combination, it is preferable to add other electron-donating organic compounds to polyvinyl Rubazole and its derivatives. The content of this type of inorganic charge generating substance is 30 to 90% by weight of the entire layer.
is appropriate. Further, when an inorganic charge generating material is used, the thickness of the charge generating layer is suitably 0.2 to 5 .mu.m.

電荷輸送層(CTL)は帯電電荷を保持させ、かつ露光
により電荷発生層で発生分離した電荷を移動させて保持
していた帯電電荷と結合させることを目的とする層であ
る。帯電電荷を保持させる目的達成のために電気抵抗が
高いことが要求され、また保持した帯電電荷で高い表面
電位を得る目的を達成するためには、誘電率が小さくか
つ電荷移動性が良いことが要求される。
The charge transport layer (CTL) is a layer whose purpose is to hold electric charges and to move the electric charges generated and separated in the charge generation layer by exposure and combine them with the held electric charges. In order to achieve the purpose of retaining charged charges, it is required to have high electrical resistance, and in order to achieve the purpose of obtaining a high surface potential from the retained charges, it is necessary to have a low dielectric constant and good charge mobility. required.

これらの要件を満足させるための電荷輸送層は、電荷輸
送物質および必要に応じて用いられるバインダー樹脂よ
り構成される。すなわち、以上の物質を適当な溶剤に溶
解ないし分散してこれを塗布乾燥することにより電荷輸
送層を形成することができる。
A charge transport layer that satisfies these requirements is composed of a charge transport substance and a binder resin used as necessary. That is, the charge transport layer can be formed by dissolving or dispersing the above-mentioned substances in a suitable solvent and applying and drying the solution.

電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質がある
Charge transport materials include hole transport materials and electron transport materials.

正孔輸送物質としては、ポリーN−ビニルカルバゾール
およびその誘導体,ポリーγ一カルバゾリルエチルグル
タメートおよびその誘導体,ピレンーホルムアルデヒド
縮金物およびその誘導体,ポリビニルビレン.ポリビニ
ルフェナントレン.オキサゾール誘導体,オキサジアゾ
ール誘導体,イミダゾール誘導体.トリフェニルアミン
誘導体9−(p−ジエチルアミノスチリル)アントラセ
ン.1.1−ビス−(4−ジベンジルアミノフエニル)
プロパン,スチリルアントラセン.スチリルピラゾリン
,フエニルヒドラゾン類,α−フェニルスチルベン誘導
体等の電子供与性物質が挙げられる。
Examples of the hole transport substance include poly N-vinylcarbazole and its derivatives, poly γ-carbazolylethyl glutamate and its derivatives, pyrene-formaldehyde condensate and its derivatives, polyvinylpyrene. Polyvinylphenanthrene. Oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives. Triphenylamine derivative 9-(p-diethylaminostyryl)anthracene. 1.1-bis-(4-dibenzylaminophenyl)
Propane, styryl anthracene. Examples include electron-donating substances such as styrylpyrazoline, phenylhydrazones, and α-phenylstilbene derivatives.

電子輸送物質としては、たとえば、クロルアニル,プロ
ムアニル,テトラシアノエチレン,テトラシアノキノン
ジメタン.2.4.7− 1−リニトロ−9フルオレノ
ン,2,4,5.7−テトラニトロ−9−フルオレノン
,2,4.5.7−テトラニトロキサントン,2,4.
8− }リニトロチオキサントン,2,6.8− }リ
ニトロ−4H−インデノ (1.2−b )チオフェン
−4オン,L3,7− }リニトロジベンゾチオフェノ
ン5.5−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げら
れる。
Examples of electron transport substances include chloranil, promanil, tetracyanoethylene, and tetracyanoquinone dimethane. 2.4.7- 1-linitro-9-fluorenone, 2,4,5.7-tetranitro-9-fluorenone, 2,4.5.7-tetranitroxanthone, 2,4.
8- }linitrothioxanthone, 2,6.8- }linitro-4H-indeno (1.2-b) thiophene-4one, L3,7- }linitrodibenzothiophenone 5,5-dioxide, etc. Examples include receptive substances.

これらの電荷輸送物質は、単独又は2種類以上混合して
用いられる。
These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more.

また、必要に応じて用いられるバインダー樹脂としでは
、ポリスチレン,スチレンーアクリロニトリル共重合体
,スチレンーブタジエン共重合体,スチレンー無水マレ
イン酸共重合体、ポリエステル,ポリ塩化ビニル,塩化
ビニルー酢酸ビニル共重合体.ポリ酢酸ビニル.ポリ塩
化ビニリデン,ポリアクリレート樹脂,フェノキシ樹脂
.ポリカーボネート酢酸セルロース樹脂,エチルセルロ
ース樹脂,ポリビニルブチラール,ポリビニルホルマー
ル,ポリビニルトルエン,ポリーN−ビニルカルバゾー
ル,アクリル樹脂,シリコーン樹脂,エポキシ樹脂,メ
ラミン樹脂,ウレタン樹脂,フェノール樹脂.アルキッ
ド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂が挙げられる。
Binder resins that may be used as necessary include polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. .. Polyvinyl acetate. Polyvinylidene chloride, polyacrylate resin, phenoxy resin. Polycarbonate cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly N-vinyl carbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, phenolic resin. Examples include thermoplastic or thermosetting resins such as alkyd resins.

溶剤としては、テトラヒドロフラン,ジオキサン,トル
エン,モノクロルベンゼン,ジクロルエタン,塩化メチ
レンなどが用いられる。
As the solvent, tetrahydrofuran, dioxane, toluene, monochlorobenzene, dichloroethane, methylene chloride, etc. are used.

電荷輸送層の厚さは5〜100μm程度が適当である。The appropriate thickness of the charge transport layer is about 5 to 100 μm.

また電荷輸送層中に可塑剤やレベリング剤を添加しても
よい。可塑剤としては、ジブチルフタレート,ジオクチ
ルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤として使用されて
いるものがそのまま使用でき、その使用量は、バインダ
ー樹脂に対して0〜30重量%程度が適当である。レベ
リング剤としては、ジメチルシリコーンオイル.メチル
フエニルシリコーンオイルなどのシリコーンオイル類が
使用され、その使用量はバインダー樹脂に対して、0〜
1重量%程度が適当である。
Furthermore, a plasticizer or a leveling agent may be added to the charge transport layer. As the plasticizer, those used as plasticizers for general resins, such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate, can be used as they are, and the appropriate amount to be used is about 0 to 30% by weight based on the binder resin. Dimethyl silicone oil is used as a leveling agent. Silicone oils such as methylphenyl silicone oil are used, and the amount used is 0 to 100% relative to the binder resin.
Approximately 1% by weight is appropriate.

これらのCGLとCTLは支持体上に支持体側からCG
L,CTLの順に積層しても、CTL,CGLの順に積
層してもかまわない。
These CGL and CTL are placed on the support from the support side.
L and CTL may be stacked in this order, or CTL and CGL may be stacked in this order.

本発明における炭素または炭素を主成分とする被膜及び
その作成方法を以下に述べる。
Carbon or a coating mainly composed of carbon and a method for producing the same will be described below.

第2図は本発明で用いることのできる装置の一例を示す
。図面において、プラズマCvD装置の反応容R9r 
( 1 )はロード/アンロード用予備室(7”)とゲ
ート弁(9)で仕切られている。ガス系(30)におい
て、キャリアガスを(31)より、反応性気体を(32
)より、添加物気体を(33)より、反応容器のエッチ
ング用気体を(34)より、バルブ(28)、流量計(
29)をへて反応系(50)中にノズル(25)より導
入する。
FIG. 2 shows an example of a device that can be used in the present invention. In the drawing, the reaction volume R9r of the plasma CvD device
(1) is separated by a loading/unloading preliminary chamber (7") and a gate valve (9). In the gas system (30), carrier gas is supplied from (31) and reactive gas is supplied from (32).
), the additive gas is supplied from (33), the etching gas for the reaction vessel is supplied from (34), the valve (28), and the flow meter (
29) and introduced into the reaction system (50) through a nozzle (25).

反応系(50)では、第3図(A) , (B)に示す
如《、枠構造体(2)(電極側よりみて四角または六角
形の枠構造を有する)を有し、この上方および下方の開
口部には、この開口部を覆うようにフード(8),(8
“)を有する。このフード(8) . (8’ )に配
設された一対の同一形状を有する第1および第2の電極
(3),(3゛)をアルミニウムの金属メッシュで構成
せしめる。反応性気体はノズル(25)より下方向に放
出される。第3の電極はアルミニウムシリンダー状支持
体上に有機系感光層を設けたものとし、直流的には感光
層が絶縁材料であるが、ここに第2の交番電圧を加え、
交流的には実質的に導体化してバイアスを印加した。こ
の基体(1)上の被形成面(1゛)を一対の電極(3)
 , (3゜)で生成されるプラズマ中に保持させて配
設した。基体(1−1) , (1−2) ,・・・(
1n)即ち(1)には被形成面(1’−1),(1”−
2)・・・(1’−n)を有し、第2の交番電圧と負の
直流バイアスが印加された1〜500Kl{zの交番電
圧が印加されている。この場合の直流バイアスは第2の
交番電圧源と基体である第3の電極の間に設置したコン
デンサ(図示せず)に第2の交番電源により蓄積される
自己バイアスと直流電源により積極的に印加される直流
バイアスのどちらでもよい。第1の高周波の交番電圧に
よりグロー放電のプラズマ化した反応性気体は、反応空
間(60)に均一に分散し、このプラズマは(2) ,
 (8) , (8’ )により取り囲むようにし、こ
の外側の外部空間(6)にはプラズマ状態で放出しない
ようにして反応容器内壁に付着しないようにした。また
反応空間でのプラズマ電位を均質にした。
The reaction system (50) has a frame structure (2) (having a square or hexagonal frame structure when viewed from the electrode side) as shown in FIGS. A hood (8), (8) is provided in the lower opening to cover this opening.
A pair of first and second electrodes (3), (3') having the same shape and arranged on the hood (8), (8') are made of aluminum metal mesh. The reactive gas is emitted downward from the nozzle (25).The third electrode has an organic photosensitive layer provided on an aluminum cylindrical support, and in terms of direct current, the photosensitive layer is an insulating material. , add the second alternating voltage here,
In terms of alternating current, it was made substantially conductive and a bias was applied. The formation surface (1゛) on this base (1) is connected to a pair of electrodes (3)
, (3°). Substrate (1-1), (1-2),...(
1n), that is, (1) has the formation surfaces (1'-1), (1''-
2)...(1'-n), and an alternating voltage of 1 to 500 Kl{z to which a second alternating voltage and a negative DC bias are applied is applied. In this case, the DC bias is actively generated by the self-bias accumulated by the second AC power supply in a capacitor (not shown) installed between the second AC voltage source and the third electrode (substrate) and the DC power supply. Either DC bias may be applied. The reactive gas that has become plasma in the glow discharge due to the first high-frequency alternating voltage is uniformly dispersed in the reaction space (60), and this plasma is (2),
(8) and (8') to prevent it from being emitted in a plasma state into the external space (6) outside of this to prevent it from adhering to the inner wall of the reaction vessel. In addition, the plasma potential in the reaction space was made homogeneous.

さらにプラズマ反応空間での電位分布をより等しくさせ
るため、電源系(40)には二種類の周波数の交番電圧
が印加できるようになっている。第1の交番電圧は1〜
100MHzの高周波であり、一対をなす2つの電源(
15−1) , (15−2)よりマッチングトランス
(16−1) . (16−2)に至る。このマッチン
グトランスでの位相は位相調整器により調整し、互いに
180°または06ずれて供給できるようにしている。
Furthermore, in order to make the potential distribution in the plasma reaction space more equal, alternating voltages of two different frequencies can be applied to the power supply system (40). The first alternating voltage is 1~
It is a high frequency of 100 MHz, and a pair of two power supplies (
Matching transformer (16-1) from (15-1) and (15-2). This leads to (16-2). The phase in this matching transformer is adjusted by a phase adjuster, so that the signals can be supplied with a difference of 180° or 0.6° from each other.

そして対称型または同相型の出力を有し、トランスの一
端(4)及び他端(4゛)は一対の第1および第2の電
極(3) , (3”)にそれぞれ連結されている。ま
た、トランスの出力側中点(5)は接地レベルに保持さ
れ、第2の1〜500KHzの交番電界(17)が印加
されている。その出力はコンデンサ(図示せず)を通し
て基体(1−1’).(1−2’), ・・・(1−n
’)即ち(1)またはそれらに電気的に連結するホルダ
(2)の第3の電極に連結されている。
The transformer has a symmetrical or in-phase output, and one end (4) and the other end (4') of the transformer are respectively connected to a pair of first and second electrodes (3) and (3''). Further, the midpoint (5) on the output side of the transformer is held at ground level, and a second alternating electric field (17) of 1 to 500 KHz is applied.The output is passed through a capacitor (not shown) to the substrate (1- 1').(1-2'), ...(1-n
'), i.e. connected to the third electrode of (1) or the holder (2) electrically connected thereto.

かくして反応空間にプラズマ(60)が発生する。Thus, plasma (60) is generated in the reaction space.

排気系(20)は、圧力調整バルプ(21),ターボ分
子ポンプ(22) ,  ロータリーポンプ(23)を
へて不要気体を排気する。
The exhaust system (20) exhausts unnecessary gas through a pressure regulating valve (21), a turbo molecular pump (22), and a rotary pump (23).

これらの反応性気体は、反応空間(60)で0.001
〜1.Otorrとし、この枠構造体(2)は四角形ま
たは六角形を有し、例えば四角形の場合は第3図(A)
に示す如き巾75cm、奥行き75cm、縦50cmと
した。
These reactive gases are present in the reaction space (60) at 0.001
~1. Otorr, and this frame structure (2) has a rectangular or hexagonal shape, for example, in the case of a rectangular shape, as shown in FIG.
The width was 75 cm, the depth was 75 cm, and the height was 50 cm as shown in the figure.

そしてこの中に被形成面を有する筒状基体を(1−1)
+ (1−2)  ・・・(1−n)  ・・に示す如
く、ここでは16本を互いに等間隔で配設する。その外
側の枠構造(2)の内側にも等電界を形成するためのダ
ミーの母材(1−0) , (1−n+1)を配設して
いる。かかる空間におイテ、1〜100MHzノ高周波
を0.5 〜5KW(単位面積あたり0.3〜3W/c
m”)で第1の高周波電圧を加える。さらに第2の交番
電圧による交流バイアスの印加により、被形成面上には
−10〜−600Vの負自己バイアス電圧が印加されて
おり、この負の自己バイアス電圧により加速された反応
性気体を基体上でスバッタしつつ成膜し、がっ緻密な膜
とすることができる。この負自己バイアス電圧を制御す
ることにより被膜の硬さを!IIIIIすることができ
るが、これは本発明に用い・る炭素膜形成方法の特徴の
1つである。負自己バイアス電圧と膜硬度の関係の一例
を第5図に示す。
Then, a cylindrical substrate having a surface to be formed is placed in this (1-1).
+ (1-2) ... (1-n) ... As shown, here, 16 wires are arranged at equal intervals. Dummy base materials (1-0) and (1-n+1) are also provided inside the outer frame structure (2) to form a uniform electric field. In such a space, a high frequency of 1 to 100 MHz is applied at 0.5 to 5 KW (0.3 to 3 W/c per unit area).
A first high-frequency voltage is applied at a voltage of -10 to -600 V on the surface to be formed by applying an alternating current bias using a second alternating voltage. A film can be formed by sputtering a reactive gas accelerated by a self-bias voltage onto a substrate, resulting in a dense film.By controlling this negative self-bias voltage, the hardness of the film can be increased! This is one of the characteristics of the carbon film forming method used in the present invention.An example of the relationship between negative self-bias voltage and film hardness is shown in FIG.

キャリアガスとして水素またはアルゴンを、反応性気体
としてメタン、エチレン等炭化水素または弗化炭素等の
炭化物気体を、添加物気体として弗化窒素、アンモニア
等の窒素化物を用いることができる。反応容器のエッチ
ング用気体として酸素もしくは弗化窒素、弗化炭素等の
弗化物気体を用いることができる。反応気体として例え
ばエチレンと弗化窒素とを導入すると、窒素と弗素が添
加されたダイヤモンド状炭素膜(DLCともいうが、添
加物が添加下されたDLCを含めて本発明は炭素または
炭素を主成分とする被膜という)が成膜できる。
Hydrogen or argon can be used as the carrier gas, hydrocarbons such as methane and ethylene, or carbide gases such as carbon fluoride can be used as the reactive gases, and nitrides such as nitrogen fluoride and ammonia can be used as the additive gases. As the etching gas for the reaction vessel, oxygen or a fluoride gas such as nitrogen fluoride or carbon fluoride can be used. When ethylene and nitrogen fluoride are introduced as reaction gases, for example, the diamond-like carbon film (also referred to as DLC) to which nitrogen and fluorine are added is used. A film can be formed.

反応性気体は、例えばエチレンと弗化窒素の混合気体と
し、その割合はNF./C2H4 = 1/20 〜4
/1とする。この割合を可変することにより、透過率お
よび比抵抗を制御することができる。
The reactive gas is, for example, a mixed gas of ethylene and nitrogen fluoride, the ratio of which is NF. /C2H4 = 1/20 ~4
/1. By varying this ratio, transmittance and specific resistance can be controlled.

基体の温度は代表的には室温に保持させる。The temperature of the substrate is typically maintained at room temperature.

上記のような方法で作成された炭素または炭素を主成分
とする被膜の代表的な特性はsp’軌道を有するダイヤ
モンドと類似のc−c結合を作り、ビッカース硬度10
0 〜3000Kg/cm2、比抵抗(固有抵抗)IX
IO7〜IXIO”ΩclI1を有するとともに、光学
的エネルギバンド中(Egという)が1.OeV以上、
好ましくは1.5〜5. 5eVを有する赤外または可
視領域で透光性のダイヤモンドと類イ以の特性を有する
ものである。
Typical characteristics of carbon or a coating mainly composed of carbon created by the above method are that it forms a c-c bond similar to that of diamond with an sp' orbital, and has a Vickers hardness of 10.
0 ~ 3000Kg/cm2, specific resistance (specific resistance) IX
IO7 to IXIO"ΩclI1, and an optical energy band (referred to as Eg) of 1.OeV or more,
Preferably 1.5-5. It has properties similar to and better than that of diamond, which is transparent in the infrared or visible region with a voltage of 5 eV.

本発明に用いる第1の炭素または炭素を主成分とする被
膜は帯電保持層として作用させるため、比抵抗は101
0〜10”Ωcm、好ましくはlQ12〜IQIIΩc
m、膜厚は300〜5000人、好ましくは500〜2
000人とするのが良い。また、同時に膜の剥がれや割
れを防止するバッファ一層として作用させるため、硬度
はビッカース硬度500kg/mm”以下とするのが良
い。また、第2の炭素または炭素を主成分とする被膜は
電荷を速やかに帯電保持層である第1の炭素または炭素
を主成分とする被膜に伝導させるため、比抵抗は109
〜10I4ΩG、好ましくは10目〜1012Ωcm、
膜厚は1000人〜10μm1好ましくは5000人〜
2μmとするのが良い。硬度はあまり硬くすると膜の剥
がれや割れが発生するため、膜厚が1μm程度の場合に
は1500〜4000kg/mm2、膜厚がSam以上
の場合には1000〜1500kg/mm”とするのが
良い。
Since the first carbon or carbon-based coating used in the present invention acts as a charge retention layer, the specific resistance is 101
0~10''Ωcm, preferably lQ12~IQIIΩc
m, film thickness is 300-5000 people, preferably 500-2
It is better to set it to 000 people. At the same time, in order to act as a buffer layer to prevent peeling and cracking of the film, the hardness should preferably be less than 500 kg/mm" in terms of Vickers hardness. Also, the second carbon or carbon-based film has no electric charge. In order to quickly conduct the charge to the first carbon or the coating mainly composed of carbon, which is the charge retention layer, the specific resistance is 109
~10I4ΩG, preferably 10th ~1012Ωcm,
The film thickness is 1000 to 10 μm, preferably 5000 to 10 μm.
It is preferable to set the thickness to 2 μm. If the hardness is too hard, peeling or cracking of the film will occur, so it is recommended to set the hardness to 1500 to 4000 kg/mm2 if the film thickness is about 1 μm, and 1000 to 1500 kg/mm if the film thickness is Sam or more. .

以下に実施例に従い本発明を示す。The present invention will be illustrated below with reference to Examples.

実施例1 この実施例は第1図に示す如きシリンダー状有機系感光
層上に炭素または炭素を主成分とする被膜を作製する例
を示す。
Example 1 This example shows an example in which carbon or a film containing carbon as a main component is prepared on a cylindrical organic photosensitive layer as shown in FIG.

?1図に示す様な形状のアルミニウムシリンダー状支持
体(41)上に下記処方によって有機系感光層(47)
を製作した。
? An organic photosensitive layer (47) according to the following formulation is formed on an aluminum cylindrical support (41) having the shape shown in Figure 1.
was produced.

アルミ製シリンダー状支持体(外形40mmφ、長さ2
50 mm)に下記組成比の混合物をボールミルで12
時間分散し調整した下引層形成液を乾燥後の膜厚が約2
μmになる用に浸漬法で塗工し下引層を形成した。
Aluminum cylindrical support (outer diameter 40mmφ, length 2
50 mm) with the following composition ratio in a ball mill.
The film thickness after drying the undercoat layer forming liquid prepared by time-dispersion is approximately 2.
A subbing layer was formed by dipping to a thickness of μm.

〔下引層形成液〕[Subbing layer forming liquid]

TiO■(石原産業社製 タイベーク〕 1重量部ボリ
アミド樹脂(東レ社製 CM−8000) 1重量部メ
タノール            25重量部この下引
層上に下記処方の電荷発生層塗工液を浸漬塗工し、12
0゜Cで10分管乾燥させ、膜厚約0.15μmの電荷
発生層を形成した。
TiO■ (Tie Bake manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 1 part by weight Polyamide resin (CM-8000 manufactured by Toray Industries, Inc.) 1 part by weight Methanol 25 parts by weight A charge generation layer coating solution having the following formulation was dip coated on this subbing layer, 12
The tube was dried at 0°C for 10 minutes to form a charge generation layer with a thickness of about 0.15 μm.

〔電荷発生層塗工液〕[Charge generation layer coating liquid]

下記構造のトリスアゾ顔料     30重量部ポリエ
ステル樹脂(東洋紡社製 バイロン)12重量部 シクロヘキサン         360重量部上記混
合物をボールミルで72時間分散した後さらにシクロヘ
キサン;メチルエチルケトン−1:1(重量比)の混合
溶媒500重量部で希釈調整する。
Trisazo pigment having the following structure: 30 parts by weight Polyester resin (Vylon manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 12 parts by weight cyclohexane 360 parts After dispersing the above mixture in a ball mill for 72 hours, 500 parts by weight of a mixed solvent of cyclohexane and methyl ethyl ketone in a 1:1 (weight ratio) Adjust the dilution in 1 part.

次いでこの電荷発生層上に下記の処方の電荷輸送層塗工
液を乾燥後の膜厚が約20μmになる用に浸漬塗エして
電荷輸送層を設けた。
Next, a charge transport layer was provided on the charge generation layer by dip coating a charge transport layer coating solution having the following formulation so that the film thickness after drying was approximately 20 μm.

(電荷輸送層塗工液〕 <′2’s’> (商品名 パンライ}C1400:帝人化成■)シリコ
ン油          0.0002重量部(商品名
 KF50 :信越シリコーン■)テトラヒド口フラン
        80重量部この後電荷輸送層上に第1
の炭素または炭素を主成分とする被膜をを設けた。
(Charge Transport Layer Coating Liquid) <'2's'> (Product name Panrai C1400: Teijin Kasei ■) Silicone oil 0.0002 parts by weight (Product name KF50: Shin-Etsu Silicone ■) Tetrahydrofuran 80 parts by weight After this The first layer is placed on the charge transport layer.
Carbon or a coating mainly composed of carbon was provided.

前述の第2図の装置を用い、前述の方法でNFSの流量
を5SCCM、CzHaの流量を803CCM、反応圧
力0.05Torr,第1の交番電界周波数13.56
M}Iz,その出力400圓、第2の交番電界周波数2
50KHz、その電圧振幅100v、直流バイアス−5
0Vとして有機系感光体上に比抵抗IXIO”Ω印の赤
外または可視光に対し、透光性のアモルファス構造また
は結晶構造を有する第1の炭素または炭素を主成分とす
る被膜を0.1μm(中央部)生成させた。成膜速度は
500人/分、硬度はビッカース硬度500Kg/+n
m”光学的エネルギーバンド巾は2.4eVを有してい
た。
Using the apparatus shown in FIG. 2 and using the method described above, the flow rate of NFS was set to 5SCCM, the flow rate of CzHa was set to 803CCM, the reaction pressure was 0.05Torr, and the first alternating electric field frequency was 13.56.
M}Iz, its output 400 μm, second alternating electric field frequency 2
50KHz, voltage amplitude 100V, DC bias -5
At 0V, a first carbon or carbon-based coating having a transparent amorphous structure or crystal structure to infrared or visible light with a specific resistance IXIO" Ω mark is applied to the organic photoreceptor to a thickness of 0.1 μm. (Central part) The film formation rate was 500 persons/min, and the hardness was Vickers hardness 500 Kg/+n.
m'' optical energy band width had 2.4 eV.

同様に第1の被膜上にNF.の流量を20SCCM%C
2H4の流量を803CCM、反応圧力0.05Tor
r、第1の交番電界周波数13.56M■2、その出力
400獣第2の交番電界周波数250KHz、その電圧
振幅400v、直流バイアス−200vとして有機系感
光体上に比抵抗1×IQIIQ1の赤外または可視光に
対し、透光性のアモルファス構造または結晶構造を有す
る第2の炭素または炭素を主成分とする被膜を0.5μ
m(中央部)生成させた。成膜速度は400人/分、硬
度はビッカース硬度1800Kg/mm”、光学的エネ
ルギーバンド巾は1.8eVを有していた。
Similarly, NF. The flow rate of 20SCCM%C
The flow rate of 2H4 was 803 CCM, and the reaction pressure was 0.05 Tor.
r, first alternating electric field frequency 13.56M2, output 400 second alternating electric field frequency 250KHz, voltage amplitude 400V, DC bias -200V. Or, for visible light, apply a second carbon having a translucent amorphous structure or crystal structure or a coating mainly composed of carbon to 0.5 μm.
m (center) was produced. The film forming rate was 400 persons/min, the hardness was 1800 Kg/mm" in Vickers hardness, and the optical energy band width was 1.8 eV.

本実施例により作製された感光体に対し、−60゜C→
室温→−60゜Cの温度サイクルを100回行った結果
、被膜にクランクが入ったり基板よりはがれたリせず、
実際の複写機内においても、クリーニングブレード,分
離爪,転写紙等によって局部的に機械的な負荷がかかっ
ても、保護膜(44)にクラック、ハガレの生ずること
がなく、また、A4版の大きさの紙を10万枚コピーし
ても、複写用紙のこすりによるスクラッチが何ら表面に
発生しなかった。
-60°C →
As a result of 100 temperature cycles from room temperature to -60°C, the coating did not crack or peel off from the substrate.
Even in an actual copying machine, the protective film (44) will not crack or peel even if mechanical loads are applied locally by cleaning blades, separation claws, transfer paper, etc., and the size of the A4 size Even after copying 100,000 sheets of paper, no scratches were generated on the surface due to rubbing of the copy paper.

また、さらにコピーを続け、30万枚に達した後の実例
を第4図に示したす。初期のコピーの1例を(A)に示
し、これを30万枚コピーした後の結果を(B)に示す
。これらの間にはほとんど何らの差もみられなかった。
Figure 4 shows an example after further copying and reaching 300,000 copies. An example of initial copying is shown in (A), and the result after 300,000 copies were made is shown in (B). Almost no difference was observed between them.

30万枚コピーした後の惑光体表面にはその初期には見
られなかった荒れが発生しているが、画像乱れは発生せ
ず、良質な画像を得ることができた。これにより、帯電
電荷を第1の被膜と第2の被膜の境界もしくは近傍に保
持することができ、第2の被膜の表面が数10万回のコ
ピーにより、荒れが生じても画像乱れは発生せず、良質
な画像を得ることができることを確認できた。
After copying 300,000 copies, the surface of the photoconductor had some roughness that was not seen at the beginning, but no image disturbance occurred and a good quality image could be obtained. This allows the electrical charge to be maintained at or near the boundary between the first coating and the second coating, and even if the surface of the second coating becomes rough due to hundreds of thousands of copies, image distortion will not occur. It was confirmed that high-quality images could be obtained without the need for

比較例1 本比較例では実施例と同様の方法でアルミ製シリンダー
状支持体上に下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成
し、その後、第1の炭素または炭素を主成分とする被膜
のみを形成した感光体を示す。この感光体に対し、−6
0”C→室温→−60゜Cの温度サイクルを100回行
った結果、被膜にクランクが入ったり基板よりはがれた
リせず、実際の複写機内においても、クリーニングブレ
ード,分離爪,転写紙等によって局部的に機械的な負荷
がかかっても、クラック、ハガレの生ずることがなかっ
たが、約5万枚コピーした後の感光体表面にはその初期
には見られなかった荒れが発生し、荒れに対応した画像
乱が発生して良質な画像を得ることができなかった。こ
れは最表層である第1の炭素または炭素を主成分とする
被膜の表面に帯電電荷が保持され、該第1の被膜の表面
形状に画像が影響されていることを示している。
Comparative Example 1 In this comparative example, a subbing layer, a charge generation layer, and a charge transport layer were formed on an aluminum cylindrical support in the same manner as in the example, and then the first carbon or carbon-based layer was formed on the aluminum cylindrical support. A photoreceptor with only a coating formed thereon is shown. For this photoreceptor, -6
As a result of 100 temperature cycles from 0"C to room temperature to -60°C, the coating did not crack or peel off from the substrate, and even in an actual copying machine, cleaning blades, separating claws, transfer paper, etc. Even when mechanical loads were applied locally, no cracks or peeling occurred, but after about 50,000 copies were made, roughness that was not seen at the beginning appeared on the surface of the photoreceptor. Image disturbance corresponding to the roughness occurred, making it impossible to obtain a good quality image.This is because electrical charges are retained on the surface of the first carbon layer or a coating mainly composed of carbon, which is the outermost layer. This shows that the image is influenced by the surface shape of the coating No. 1.

比較例2 本比較例では実施例と同様の方法でアルミ製シリンダー
状支持体上に下引層、電荷発生層及び電荷輸送層を形成
しただけの惑光体を示す。1〜2万枚で画像乱が発生し
始め、3万枚で使用不能となった。この感光体の表面は
使用後において非常に激しい荒れが発生していた。
Comparative Example 2 This comparative example shows a photoreceptor in which a subbing layer, a charge generation layer and a charge transport layer were formed on an aluminum cylindrical support in the same manner as in the examples. Image distortion began to occur after 10,000 to 20,000 copies, and it became unusable after 30,000 copies. The surface of this photoreceptor was extremely rough after use.

「効果」 本発明により導電性支持体上に有機系感光層、必要に応
じて中間層、更に最表面に保護層をこの順に積層した構
成の電子写真用感光体において、保護層を第1および第
2の炭素または炭素を主成分とする被膜からなり、前記
第2の被膜の比抵抗は前記第1の被膜の比抵抗に比べて
1桁以上小さくしたため電荷を第1の被膜と第2の被膜
の境界もしくはその近傍に保持することができ、第2の
被膜の表面が機械的ストレスにより荒れても画像に乱れ
は生じず安定した良質の画像が長期にわたって得られる
ようになった。
"Effect" According to the present invention, in an electrophotographic photoreceptor having a structure in which an organic photoreceptor layer is laminated on a conductive support, an intermediate layer if necessary, and a protective layer on the outermost surface in this order, the protective layer is laminated on the first and second layers. It consists of a second carbon or a film mainly composed of carbon, and the resistivity of the second film is one order of magnitude smaller than that of the first film, so that the electric charge is transferred between the first film and the second film. It can be maintained at or near the boundary of the coating, and even if the surface of the second coating becomes rough due to mechanical stress, no image disturbance occurs and stable, high-quality images can be obtained over a long period of time.

また、第1の被膜を第2の被膜に比べて柔らかくしたた
め、第1及び第2の被膜と電荷輸送層との接着製は良好
であり、かつ第2の被膜を硬くすることにより耐摩耗性
の高い感光体を作製することができた。
In addition, since the first coating is made softer than the second coating, the adhesion between the first and second coatings and the charge transport layer is good, and the hardening of the second coating provides good wear resistance. We were able to fabricate a photoreceptor with high

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の円筒状基体に炭素または炭素を主成分
とする被膜をコートした例を示す。 第2図は本発明のプラズマCVD装置の概要を示す。 第3図(A) , (B)は第2図で示したプラズマC
VD装置における基体の配設方式を示す。 第4図は本発明方法を用いて作られた有機感光体ドラム
で静電複写した1例である。 第5図は本発明方法における直流バイアスと膜の硬度と
の関係の1例を示す。
FIG. 1 shows an example in which a cylindrical substrate of the present invention is coated with carbon or a film mainly composed of carbon. FIG. 2 shows an outline of the plasma CVD apparatus of the present invention. Figures 3 (A) and (B) show the plasma C shown in Figure 2.
The arrangement method of the base in the VD device is shown. FIG. 4 shows an example of electrostatic copying using an organic photoreceptor drum made using the method of the present invention. FIG. 5 shows an example of the relationship between DC bias and film hardness in the method of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、導電性支持体上に有機系感光層、必要に応じて中間
層、更に最表面に保護層をこの順に積層した構成の電子
写真用感光体において、保護層が第1および第2の炭素
または炭素を主成分とする被膜からなり、前記第2の被
膜の比抵抗は前記第1の被膜の比抵抗に比べて1桁以上
小さいことを特徴とする電子写真用感光体。 2、特許請求の範囲第1項において、第2の被膜は硬度
が第1の被膜に比べて50%以上大きく有せしめたこと
を特徴とする電子写真用感光体。
[Claims] 1. In an electrophotographic photoreceptor having a structure in which an organic photoreceptor layer, an intermediate layer if necessary, and a protective layer are laminated on the outermost surface in this order on a conductive support, the protective layer is the first layer. 1 and a second carbon or a film mainly composed of carbon, the resistivity of the second film being at least one order of magnitude smaller than the resistivity of the first film. body. 2. An electrophotographic photoreceptor according to claim 1, characterized in that the second coating has a hardness 50% or more greater than that of the first coating.
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