JPH02131935A - Flexible copper-clad board - Google Patents

Flexible copper-clad board

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JPH02131935A
JPH02131935A JP28571688A JP28571688A JPH02131935A JP H02131935 A JPH02131935 A JP H02131935A JP 28571688 A JP28571688 A JP 28571688A JP 28571688 A JP28571688 A JP 28571688A JP H02131935 A JPH02131935 A JP H02131935A
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JP
Japan
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copper foil
copper
oxide
heat
alloy
Prior art date
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Pending
Application number
JP28571688A
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Japanese (ja)
Inventor
Moriji Morita
守次 森田
Shunji Yoshida
芳田 俊爾
Kenji Tanabe
健二 田辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority to JP28571688A priority Critical patent/JPH02131935A/en
Publication of JPH02131935A publication Critical patent/JPH02131935A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K1/03Use of materials for the substrate
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal

Abstract

PURPOSE:To increase adhesive strength between a heat resistant polymer film and a copper foil by forming a silane coupling agent on the surface of a copper foil layer in contact with a heat resistance polymer film layer, and then securing simple metal, its oxide or its alloy thereto. CONSTITUTION:After a silane coupling agent is formed on a copper foil, simple metal, its oxide or alloy is formed thereon. The simple metal, its oxide or alloy desirably selectively includes, for example, copper, zinc, chromium, nickel, copper oxide, chromium oxide, nickel-copper alloy, zinc-chromium alloy. A heat resistance polymer film layer is formed of heat resistant polymer having an imide bond and/or heat resistant polymer having heterocycle except the imide bond. The polymer having the imide bond includes, for example, polyimide, polyamideimide, polyhydantoin, polyparabanic acid, polyoxazinedion, etc., and the polymer having the heterocycle includes, for example, polybenzoimidazole, polyimidazopyrrolon, triazine derivatives, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子工業分野において普及しつつあるフレキ
シブル銅張り積層板(Flexible Copper
Clad Laminate 、以下FCLと略す)に
関するものであり、特に耐熱、耐湿劣化等の耐久性に優
れたFCLに関するものである. [従来の技術] FCLは、主として可撓性を有するプリント配線板用の
基材として使用されるが、その他面発熱体、電磁波シー
ルド用材料、フラットケーブル、包装材料等に使用され
る。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is applied to flexible copper-clad laminates that are becoming popular in the electronics industry.
It relates to Clad Laminate (hereinafter abbreviated as FCL), and particularly relates to FCL which has excellent durability such as heat resistance and humidity resistance to deterioration. [Prior Art] FCL is mainly used as a base material for flexible printed wiring boards, but is also used for surface heating elements, electromagnetic shielding materials, flat cables, packaging materials, and the like.

近年においては、プリント配線板が収容されるケース類
がコンパクトになるなどのために、FCLのプリント配
線板用の基材としての利用が増大している。
In recent years, as cases in which printed wiring boards are housed have become more compact, FCL has been increasingly used as a base material for printed wiring boards.

このようなFCLは従来、通常は厚さ5μm以上の有機
重合体からなる接着剤を用いて銅箔に耐熱性重合体フィ
ルムを張り合わせることにより製造されている.しかし
ながら、この接着剤を使用したFCLは、その接着剤の
特性が不十分であるため耐熱性重合体フィルムの優れた
特性を十分に生かされず、特に耐熱性の点で問題があっ
た。
Such FCLs have conventionally been manufactured by laminating a heat-resistant polymer film to a copper foil using an adhesive made of an organic polymer, usually with a thickness of 5 μm or more. However, FCL using this adhesive does not take full advantage of the excellent properties of the heat-resistant polymer film because the properties of the adhesive are insufficient, and there are problems particularly in terms of heat resistance.

そのために、耐熱性重合体フィルムと銅箔が接着剤を介
することなく直接的に固着させられてぃるFCLとする
方法が従来から検討されている。
For this purpose, a method of forming an FCL in which a heat-resistant polymer film and a copper foil are directly bonded to each other without using an adhesive has been studied.

たとえば、米国特許3,179,634 ,同3,73
6, 170、特開昭49−129,862号、同58
−190.091号、同59−162,044号などが
ある. しかしながら、これらの方法による接着剤不使用のFC
Lは耐熱性重合体フィルムと銅箔との接着力が不十分で
あること、あるいは接着力が十分であってもその強度が
安定せず、特に高温雰囲気での接着力の劣化が大きいな
どの欠点があった.特に、耐熱性重合体の中でもポリイ
ミドとポリアミドイミドの場合は、種々の原因により安
定して大きい接着力を得ることは難しい. さらに、米国特許3,736,170 ,特開昭59−
162,044の実施例に記述されているように、FC
L用の耐熱性重合体として好適なフェノール性溶媒に不
溶のポリイミドの場合には、耐熱性重合体フィルムと銅
箔との間の引き剥がし強度が、実施例で見られるように
0.30〜0.60kg/cmであり、折り曲げ応力が
大きい場合、あるいは回路幅が狭い場合には、回路の信
鯨性から考えて接着力が十分であるとは言えない. [発明が解決しようとする課題] ポリイミドフィルムが厚さ5μm以上のエポキシ樹脂、
アクリル樹脂等の有機重合体からなる接着剤層を介して
銅箔に張り合わせられたFCLはすでに提案されている
が、そのような有機重合体からなる接着剤を使用する既
存のFCLは、その特性が多くの点において要求水準に
達していない.一方、接着剤層の存在しないFCLは耐
熱性の点では接着剤層の存在するFCLに比べて優れて
いるが、接着力や耐熱性重合体フィルムの強度等の点で
は要求水準に達していない. かかる状況に鑑み、本発明は耐熱性重合体フィルムの優
れた特性が活用される状況を維持しながら、耐熱性重合
体フィルムが銅箔に強固に安定に接着されられ、かつ接
着力の耐久性に優れたFCLを提供使用とするものであ
り、このようなFCLは産業上、特に電子工業上掻めて
有用なものである. [課題を解決するための千段] すなわち、本発明は、 耐熱性重合体フィルム層と、該耐熱性重合体フィルム層
の少なくとも一方に銅箔層を有するフレキシブル銅張り
積層板であって、咳銅箔層が、少なくとも一方の咳銅箔
層の該耐熱性重合体に接する面にシランカップリング剤
を形成した後に、金属単体、その酸化物またはその合金
が固着されているフレキシブル銅張り積N仮、であり、
また、シランカノプリング剤が、アミン系、エポキシ系
、メルカプト系から選ばれる一種以上であるフレキシブ
ル銅張り積層板、であり、また、金属単体またはその酸
化物またはその合金が、銅、亜鉛、ニッケル、クロムま
たはこれらの酸化物、またはこれらの合金から選ばれる
一種以上であるフレキシフ゛ノレ銅張り積層{反、であ
る.すなわち、本発明の要旨は、 m1Bの少なくとも一方の表面上にシランカップリング
剤からなる層を設けた後に、金属単体またはその酸化物
またはその合金を固着させ、その層上に耐熱性重合体、
あるいはその前駆体の溶液が塗布され、加熱乾燥させら
れて耐熱性重合体フィルムが形成されることによって、
前述の課題が解決された特に接着性の顕著に向上したF
CLが提供される点にあるのである. 本来、銅箔表面と耐熱性重合体との接着力は小さい.そ
こで一般には、銅箔上に金属単体またはその酸化物、合
金等を形成させて耐熱性重合体との接着力を高めている
.しかしながら、銅箔上に形成された金属単体またはそ
の酸化物、合金等はマクロ的に見れば、実際は、#JA
箔表面上をすべて覆っている訳ではないので、接着力は
銅箔上の上記金属単体またはその酸化物、合金等と耐熱
性重合体との接着力に依存し、上記金属単体またはその
酸化物、合金等が形成されていない部分は接着力が低い
ままであると考えざるを得ない.しかして、本発明にお
いては、銅箔上に上記金属単体またはその酸化物、合金
等を形成する前にまず、銅箔表面にシランカップリング
剤を固着した後に該金属単体またはその酸化物、合金等
を形成させるのである.シランカンプリング剤はfI箔
とSi−0結合を介して結合するので、w4箔上にかか
るシランカンプリング剤を処理すると表面上にはアミノ
基、エポキシ基、メルカプト基等の有機反応基が露出し
ていることになる.この後に金属単体またはその酸化物
、合金等を形成させるが、これらは一般に存機物と反応
しにくいため、シランカソブリング剤が付着している部
分には金属単体またはその酸化物、合金等は実際には形
成されないのである.このような表面処理を行なうと、
銅箔表面は金属単体またはその酸化物、合金等が露出し
ている部分と、シランカップリング剤が露出している部
分とが存在することになるため、この後に形成される耐
熱性重合体と強固に接着することができるのである. また、銅箔上に単にシランカップリング則を形成しただ
けで金属単体またはその酸化物゛、合金等を形成させな
い場合には銅箔の表面に銅が露出してしまい、酸化され
易い. 以上のごとき表面処理を行った上に耐熱性重合体を形成
した場合には、樹脂の加熱乾燥、半田浸漬、高温連続処
理、高温高温処理等の過酷な条件下でも劣化はほとんど
なく、大きな引き剥がし強度を保ち続けることが可能と
なるのである,本発明において使用される銅箔の厚さは
任意に選択可能であるが、通常lO〜100μm程度の
範囲内であり、好ましくは10〜50μm程度の範囲内
のものである. 本発明における銅箔は表面処理がなされる前に、表面の
浄化処理が施されることが好ましい.また、本発明にお
いて使用されるシランカップリング剤は、次に示される
ものの中から選択される。
For example, U.S. Patent No. 3,179,634, U.S. Patent No. 3,73
6, 170, JP-A-49-129,862, JP-A No. 58
-190.091, 59-162,044, etc. However, adhesive-free FC using these methods
L indicates that the adhesive strength between the heat-resistant polymer film and the copper foil is insufficient, or even if the adhesive strength is sufficient, the strength is unstable, and the adhesive strength deteriorates significantly in a high-temperature atmosphere. There was a drawback. In particular, among heat-resistant polymers, it is difficult to obtain stable and high adhesive strength with polyimide and polyamide-imide due to various reasons. Furthermore, U.S. Patent No. 3,736,170, Japanese Patent Application Laid-open No. 1987-
162,044, as described in the FC
In the case of polyimide insoluble in a phenolic solvent, which is suitable as a heat-resistant polymer for L, the peel strength between the heat-resistant polymer film and the copper foil is 0.30 to 0.30, as seen in the examples. 0.60 kg/cm, and if the bending stress is large or the circuit width is narrow, it cannot be said that the adhesive strength is sufficient considering the reliability of the circuit. [Problem to be solved by the invention] An epoxy resin whose polyimide film has a thickness of 5 μm or more,
FCL laminated to copper foil through an adhesive layer made of organic polymers such as acrylic resin has already been proposed, but existing FCLs that use adhesives made of such organic polymers have limited characteristics. has not reached the required level in many respects. On the other hand, although FCL without an adhesive layer is superior to FCL with an adhesive layer in terms of heat resistance, it does not reach the required level in terms of adhesive strength and strength of the heat-resistant polymer film. .. In view of this situation, the present invention has been developed to ensure that the heat-resistant polymer film is firmly and stably adhered to the copper foil, and that the adhesive strength is durable while maintaining the situation where the excellent properties of the heat-resistant polymer film are utilized. This type of FCL is extremely useful in industry, especially in the electronics industry. [A thousand steps to solve the problem] That is, the present invention provides a flexible copper-clad laminate having a heat-resistant polymer film layer and a copper foil layer on at least one of the heat-resistant polymer film layers, which A flexible copper laminate N in which an elemental metal, an oxide thereof, or an alloy thereof is fixed to the copper foil layer after a silane coupling agent is formed on the surface of at least one copper foil layer in contact with the heat-resistant polymer. provisional, is,
In addition, the silane canopring agent is one or more selected from amine type, epoxy type, and mercapto type. , chromium, oxides thereof, or alloys thereof. That is, the gist of the present invention is that after providing a layer made of a silane coupling agent on at least one surface of m1B, a simple metal, its oxide, or its alloy is fixed, and a heat-resistant polymer,
Alternatively, a solution of the precursor is applied and dried by heating to form a heat-resistant polymer film.
F, which has solved the above-mentioned problems and has particularly improved adhesion.
The point is that CL is provided. Originally, the adhesive strength between the copper foil surface and the heat-resistant polymer is small. Therefore, in general, metals, their oxides, alloys, etc. are formed on copper foil to increase the adhesive strength with heat-resistant polymers. However, from a macroscopic perspective, simple metals, their oxides, alloys, etc. formed on copper foil are actually #JA
Since the entire surface of the foil is not covered, the adhesive strength depends on the adhesive strength between the above-mentioned simple metal or its oxide, alloy, etc. on the copper foil and the heat-resistant polymer. , it is inevitable to think that the adhesion strength remains low in the areas where alloy etc. are not formed. Therefore, in the present invention, before forming the above-mentioned elemental metal, its oxide, alloy, etc. on the copper foil, first, a silane coupling agent is fixed on the surface of the copper foil, and then the elemental metal, its oxide, alloy, etc. etc. are formed. The silane camping agent binds to the fI foil through Si-0 bonds, so when the silane camping agent is treated on the w4 foil, organic reactive groups such as amino groups, epoxy groups, and mercapto groups are exposed on the surface. That means you are doing it. After this, simple metals, their oxides, alloys, etc. are formed, but since these generally do not easily react with existing materials, the simple metals, their oxides, alloys, etc. It is not actually formed. With this kind of surface treatment,
On the surface of the copper foil, there are parts where the metal itself or its oxides, alloys, etc. are exposed, and parts where the silane coupling agent is exposed, so the heat-resistant polymer formed later and This allows for strong adhesion. Furthermore, if a silane coupling rule is simply formed on the copper foil without forming a single metal or its oxide, alloy, etc., the copper will be exposed on the surface of the copper foil and will be easily oxidized. When a heat-resistant polymer is formed after the above surface treatment, there is almost no deterioration even under harsh conditions such as heat drying of the resin, solder immersion, high temperature continuous treatment, high temperature high temperature treatment, etc., and there is no significant The thickness of the copper foil used in the present invention can be arbitrarily selected, but it is usually within the range of about 10 to 100 μm, and preferably about 10 to 50 μm, making it possible to maintain peel strength. It is within the range of . It is preferable that the surface of the copper foil in the present invention be subjected to surface purification treatment before being subjected to surface treatment. Moreover, the silane coupling agent used in the present invention is selected from those shown below.

NRz −Si (OCH3 OH CH, HS  Rz   Si  (ORn).+CH3 HS   Rz   Si (OR4)z O CH3 ここにおいて、 X (×はハロゲン元素) R2  =  + CH2  h Rs  =  + C Hz 袷 (m=1〜5) (n=1〜5) 更に好ましいものは、R..R.およびRi がR2 
: →CH2十T n=1 〜3 R4 : −+C I{ t +−r−C H 3    n =
 O 〜2これらのシランカップリング剤は、市販品な
どとして容易に入手できるものである. これらのそれを加水分解して得られるシロキサン化合物
であってもよく、これらのシロキサン化合物もカップリ
ング剤としての効能を有するものである. これらカップリング剤としては、その分子中に少なくと
も1個の加水分解し得る基を残存させたものとすること
がよいのであって、この加水分解可能基は、珪素原子に
結合した水素基であってもよく、これはまた他の加水分
解可能なシランとの混合物とされ、それらが共に加水分
解されたものであってもよい. 本発明においては、銅箔上にシランカップリング剤が形
成された後に、金属単体またはその酸化物、合金等が形
成されるが、この金属単体、またはその酸化物、合金等
は銅、亜鉛、クロム、ニッケル、酸化銅、酸化クロム、
ニッケル銅合金、亜鉛クロム合金の中から選ばれること
が好ましい.本発明において使用される耐熱性重合体フ
ィルム層は、イミド結合を有する耐熱ボリマー、および
/またはイミド結合以外の複素環を存する耐熱ボリマー
からなるものであり、イミド結合を存するボリマーとし
ては、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリヒダントイ
ン、ポリバラバン酸、ポリオキサジンジオンなどであり
、またイミド結合以外の複素環保有耐熱ボリマーとして
はポリベンゾイミダゾール、ポリイミダゾピロロン、ト
リアジン誘導体等が挙げられる。
NRz -Si (OCH3 OH CH, HS Rz Si (ORn).+CH3 HS Rz Si (OR4)z O CH3 Here, ~5) (n=1~5) More preferably, R..R. and Ri are R2
: →CH20T n=1 ~3 R4 : −+C I{ t +−r−C H 3 n =
O ~2 These silane coupling agents are easily available as commercial products. Siloxane compounds obtained by hydrolyzing these compounds may also be used, and these siloxane compounds also have efficacy as coupling agents. These coupling agents preferably have at least one hydrolyzable group remaining in their molecules, and this hydrolyzable group is a hydrogen group bonded to a silicon atom. It may also be a mixture with other hydrolyzable silanes, and they may be hydrolyzed together. In the present invention, after the silane coupling agent is formed on the copper foil, an elemental metal or its oxide, alloy, etc. is formed. Chromium, nickel, copper oxide, chromium oxide,
Preferably, it is selected from nickel-copper alloys and zinc-chromium alloys. The heat-resistant polymer film layer used in the present invention is made of a heat-resistant polymer having an imide bond and/or a heat-resistant polymer having a heterocycle other than an imide bond. Examples of the polymer having an imide bond include polyimide, These include polyamideimide, polyhydantoin, polybalabanic acid, polyoxazinedione, etc. Heat-resistant polymers having heterocycles other than imide bonds include polybenzimidazole, polyimidazopyrrolone, triazine derivatives, and the like.

本発明においては、イミド結合を有する耐熱ボリマーが
好ましく、さらに好ましくはポリイミド、ポリアミドイ
ミドと称されるもののであり、これらは復合されてもよ
い。
In the present invention, heat-resistant polymers having imide bonds are preferred, and polyimides and polyamideimides are more preferred, and these may be polymerized.

ポリイミドの代表的なものは、その構造式が次に示され
るものである. また、構造式(1)にて表される反復単位を有するとロ
メリット酸二無水物と芳香族ジアミンとから得られる重
合体、構造式(2)にて表される反復単位を有する3.
3’,4.4゜−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物と芳香族ジアミンから得られる重合体、および構造
式(3)にて表される反復単位を存する3,3゜,4.
4’−ビフエニルテトラヵルボン酸二無水物と芳香族ジ
アミンとから得られる重合体も適している. また、ポリアミドイミドとしては、その構造式Q Q が次に示されるものである。
Typical polyimides have the structural formulas shown below. Further, a polymer obtained from romellitic dianhydride and an aromatic diamine having a repeating unit represented by the structural formula (1), a polymer having a repeating unit represented by the structural formula (2), and a polymer having a repeating unit represented by the structural formula (2).
A polymer obtained from 3',4.4°-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine, and a 3,3°,4.
Polymers obtained from 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and aromatic diamines are also suitable. Further, the polyamideimide has the structural formula Q Q shown below.

上記の溝遣式において、Rは原料であるジアミンのアミ
ノ基を除いた残基であり、原料となるRを含むジアミン
の例としては、O+I+p−フェニレンジアミン、4,
4′−ジアミノジフエニルメタン、3,3゛−ジアミノ
ジフェニルメタン、4,4゜−ジアミノビフェニル、3
,3゜−ジアミノビフェニル、4.4 −ジアミノター
フエニル、3.3”−ジアミノクーフエニル、44゜−
ジアミノジフェニルエーテル、3.3’−ジアミノジフ
ェニルエーテル、4,4゜ジアミノジフエニルスルホン
、3.3’ジアミノジフェニルスルホン、4,4゜−ジ
アミノジフェニルスルフイド、3,3゜−ジアミノジフ
エニルスルフイド、4,4゛−ジアミノジフェニルスル
フォキシド、3.3“−ジアミノジフェニルスルフォキ
シド、4.4″−ジアミノベンゾフェノン、3.3゜−
 ジアミノベンゾフエノン、22−ビス(4−アミノフ
エニル)プロパン、2.2−ビス(3−アミノフェニル
)プロパン、ビス[4− (4−アミノフエノキシ)フ
エニル]メタン、ビス[4− (3−アミノフェノキシ
)フエニルコメタン、2.2−ビス[4− (.4−ア
ミノフエノキシ)フエニル]プロパン、2.2−ピス[
4− (3−アミノフエノキシ)フエニル]プロパン、
2.2−ビス[4− (4−アミノフエノキシ)フエニ
ル]−1.1,L3,3.3−ヘキサフルオ口プロパン
、2,2−ビス[4− (3−アミノフエノキシ)フェ
ニル]−1.1,1,3,3.3−ヘキサフルオ口プロ
パン、1.3−ビス(4−アミノフエノキシ)ベンゼン
、1.3ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4.
4゜−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフエニル、4.
4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス
[4(4−アミノフェノキシ)フエニル]ケトン、ビス
[4− (3−アミノフェノキシ)フェニル1ヶトン、
ビス[4− (4−アミノフェノキシ)フエニル]スル
フィド、ビス[4− (3−アミノフエノキシ)フエニ
ル〕スルフィド、ビス[4− (4−アミノフェノキシ
)フエニル1スルホン、ビス[4− (3−アミノフエ
ノキン)フエニル]スルホン、ビス[4− (4−アミ
ノフエノキシ)フェニル1スルホキシド、ビス[4−(
3−アミノフエノキシ)フェニル]スルホキシド、ビス
[4− (4−アミノフエノキシ)フェニル]エーテル
、ビス[4− (3−アミノフエノキシ)フェニルコエ
ーテル、4,4゜−ビス(4−アミノフエニルスルホニ
ル)ジフェニルエーテル、4.4”−ビス(3−アミノ
フエニルスルホニル)ジフェニルエーテル、4,4゜−
ビス(4−アミノチオフエノキシ)ジフエニルスルホン
、4.4″−ビス(3−アミノチオフェノキシ)ジフェ
ニルスルホン、1.4−ビス[4− (3アミノフエノ
キシ)ペンゾイル]ベンゼン等の対称のジアミンが挙げ
られ、これらは単独あるいは二種以上混合したり、共重
合体として用いることができる. 上記の耐熱性重合体を合成するには、存機溶媒中たとえ
ばN−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、γ−プチロラクトン、クレゾール、フェノール、
ハロゲン化フェノール等の溶媒中で行なわれることが好
ましい。
In the above-mentioned Mizokari formula, R is the residue of the raw material diamine from which the amino group has been removed. Examples of diamines containing R that are the raw materials include O+I+p-phenylenediamine, 4,
4'-diaminodiphenylmethane, 3,3゛-diaminodiphenylmethane, 4,4゜-diaminobiphenyl, 3
, 3゜-diaminobiphenyl, 4.4-diaminoterphenyl, 3.3''-diaminocuphenyl, 44゜-
Diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4°diaminodiphenyl sulfone, 3,3'diaminodiphenyl sulfone, 4,4°-diaminodiphenyl sulfide, 3,3°-diaminodiphenyl sulfide , 4,4゛-diaminodiphenylsulfoxide, 3.3''-diaminodiphenylsulfoxide, 4.4''-diaminobenzophenone, 3.3゜-
Diaminobenzophenone, 22-bis(4-aminophenyl)propane, 2,2-bis(3-aminophenyl)propane, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methane, bis[4-(3-aminophenoxy) ) phenylcomethane, 2,2-bis[4-(.4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-pis[
4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane,
2.2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1.1,L3,3.3-hexafluoropropane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]-1.1, 1,3,3.3-hexafluoropropane, 1.3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1.3bis(3-aminophenoxy)benzene, 4.
4°-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4.
4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, bis[4(4-aminophenoxy)phenyl]ketone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl 1 ton,
Bis[4- (4-aminophenoxy)phenyl] sulfide, bis[4- (3-aminophenoxy)phenyl] sulfide, bis[4- (4-aminophenoxy)phenyl 1 sulfone, bis[4- (3-aminophenoquine) phenyl] sulfone, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl 1 sulfoxide, bis[4-(
3-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl coether, 4,4°-bis (4-aminophenyl sulfonyl) diphenyl ether, 4.4”-bis(3-aminophenylsulfonyl)diphenyl ether, 4,4°-
Symmetrical diamines such as bis(4-aminothiophenoxy)diphenylsulfone, 4.4″-bis(3-aminothiophenoxy)diphenylsulfone, 1.4-bis[4-(3aminothiophenoxy)penzoyl]benzene, etc. These can be used alone, in a mixture of two or more, or as a copolymer.To synthesize the above heat-resistant polymer, for example, N-methylpyrrolidone, N,N- Dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, cresol, phenol,
Preferably, the reaction is carried out in a solvent such as halogenated phenol.

本発明のFCLの製造に際して、まず始めに銅箔上にシ
ランカンブリング剤が形成される.シランカソプリング
剤の銅箔上への形成方法は、通常のカノブリング剤の塗
布と同様にして塗布して形成するのであって、格別に特
定されるものではない。
In manufacturing the FCL of the present invention, a silane cambling agent is first formed on the copper foil. The method for forming the silane casobling agent on the copper foil is not particularly specified, as it is formed by applying it in the same manner as the application of a normal casobling agent.

たとえば、シランカップリング剤を水に対して0.05
〜1%程度の比率を以て溶解させた水溶液とし、これを
清浄された銅箔の表面に薄く、通常80μm以下、0.
1 μm以上の厚さにコーティングした後50〜150
’c程度にて溶媒の水を乾燥除去してシランカンプリン
グ剤を銅箔表面に形成させる。
For example, add 0.05% of the silane coupling agent to water.
An aqueous solution is prepared with a ratio of ~1%, and this is applied to the surface of the cleaned copper foil in a thin layer, usually 80 μm or less, with a thickness of 0.
50-150 after coating to a thickness of 1 μm or more
Water as a solvent is removed by drying at a temperature of about 100 m to form a silane camping agent on the surface of the copper foil.

また、シランカンフ゜リング剤を、セロソノレフ゛アセ
テート等の溶媒に対して0.05〜1%程度の比率を以
て溶解させた?8液とし、この溶液に銅箔を浸漬した後
、50〜+50’c程度にて溶媒を乾燥除去することに
よりシランカップリング剤を銅箔表面に形成させてもよ
い. 上記のようにしてシランカンプリング剤が形成された銅
箔は、次に金属単体またはその酸化物、合金等が形成さ
れる。
Also, the silane camping agent was dissolved in a solvent such as cellosonoleph acetate at a ratio of about 0.05 to 1%. After immersing the copper foil in this solution, the silane coupling agent may be formed on the surface of the copper foil by drying and removing the solvent at about 50 to +50'c. The copper foil on which the silane camping agent has been formed as described above is then coated with a simple metal, its oxide, alloy, or the like.

これらの金属単体、またはその酸化物、合金等を形成さ
れる方法に特に限定はないが、銅、クロム、ニンケル、
亜鉛等のイオンを一種以上含む水?’jjfl中で、銅
箔を陰掻として電解処理することが好ましい。
There is no particular limitation on the method of forming these metals, their oxides, alloys, etc., but copper, chromium, nickel,
Water that contains one or more types of ions such as zinc? It is preferable to conduct the electrolytic treatment in 'jjfl' using a copper foil as a shade.

(実施例) 次に実施例を示してさらに本発明を説明する.実施例1 (1)アミド酸フェスの合成 撹拌機、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器中に
おいて、4.4゜−ビス(3−アミノフエノキシ)ビフ
エニル147g (0.40モル)および4.4“−ジ
アミノジフヱニルエーテル320g (1.60モル)
ヲ、NN−ジメチルアセトアミド3500dに溶解し、
0゜C付近まで冷却し、窒素雰囲気下においてビロメリ
ット酸二無水物436g(2.0モル)を加えて0 ’
C付近で2時間攪拌した.次に上記溶液を室温に戻し、
窒素雰囲気下で約24時間反応させた.こうして得られ
たボリアミド酸溶液の対数粘度は1.8dl/gであっ
た. このポリアミド酸7容液を、N,N−ジメチルアセトア
ミドで18%まで希釈し、回転粘度を100, 000
cpsに調節した. (2)銅箔の表面処理 三井金属鉱業製電解銅箔( 38C、厚さ35μm)を
 %の希塩酸中に1分間浸漬し、表面処理層を取り除い
た. 次に下記の構造を有するシランカップリング剤(信越化
学工業製、IBM−573 )ChHs−NH−CHz
−CHz−CHx−Si (OCRs) s?.0gを
1.0kgのセロソルブアセテートに溶解し、この溶液
を上記の表面処理層を取り除いた電解鋼箔の光沢面(g
J4が露出している面)に4μmコーティングし、80
゛Cで15分間乾燥した.このシランカノブリング処理
した銅箔を、30゜CにおいてCr(hを5g/ l 
, NaOHを20g/ l ..ZnSOn ・71
1■0を58/2を含む水?8液中で、IOOA/ボの
電流密度で15秒処理した.このとき銅箔のシランカッ
プリング処理面を陰極とし、対極として白金を用いた。
(Example) Next, the present invention will be further explained by showing examples. Example 1 (1) Synthesis of amic acid phase In a container equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen inlet tube, 147 g (0.40 mol) of 4.4°-bis(3-aminophenoxy)biphenyl and 4.4°-bis(3-aminophenoxy)biphenyl were added. 4"-diaminodiphenyl ether 320g (1.60 mol)
wo, dissolved in NN-dimethylacetamide 3500d,
Cool to around 0°C, add 436g (2.0 mol) of biromellitic dianhydride under nitrogen atmosphere, and bring to 0'
The mixture was stirred for 2 hours near C. Next, return the above solution to room temperature,
The reaction was carried out for about 24 hours under a nitrogen atmosphere. The logarithmic viscosity of the polyamic acid solution thus obtained was 1.8 dl/g. This 7 volume solution of polyamic acid was diluted to 18% with N,N-dimethylacetamide, and the rotational viscosity was adjusted to 100,000.
Adjusted to cps. (2) Surface treatment of copper foil An electrolytic copper foil (38C, thickness 35 μm) manufactured by Mitsui Mining and Mining Co., Ltd. was immersed in dilute hydrochloric acid of 10% for 1 minute to remove the surface treatment layer. Next, a silane coupling agent having the following structure (manufactured by Shin-Etsu Chemical, IBM-573) ChHs-NH-CHz
-CHz-CHx-Si (OCRs) s? .. 0g was dissolved in 1.0kg of cellosolve acetate, and this solution was applied to the shiny surface (g
4 μm coating on the surface where J4 is exposed, 80
It was dried at °C for 15 minutes. This silane ring-treated copper foil was heated to 5 g/l of Cr (h = 5 g/l) at 30°C.
, 20 g/l of NaOH. .. ZnSOn ・71
1 ■ Water containing 0 58/2? 8 liquid at a current density of IOOA/bo for 15 seconds. At this time, the silane coupling treated surface of the copper foil was used as a cathode, and platinum was used as a counter electrode.

(3)FCLの作成 (1)で得られたボリアミド酸7容’tFI−を、(2
)で得られた電解銅箔の電解処理の施してある面上に均
一に流延塗布し、135゜Cで5分間、さらに180゜
Cで4分間加熱乾燥した後、250゜Cの窒素雰囲気中
で3分間、さらに350゜Cの窒素雰囲気中で5分間加
熱してフレキシブル基板を得た。
(3) Preparation of FCL 7 volumes of polyamic acid obtained in (1) 'tFI-
) was uniformly cast onto the electrolytically treated surface of the electrolytic copper foil obtained in ), heated and dried at 135°C for 5 minutes, then at 180°C for 4 minutes, and then heated in a nitrogen atmosphere at 250°C. The substrate was heated for 3 minutes in a nitrogen atmosphere at 350° C. and then for 5 minutes in a nitrogen atmosphere to obtain a flexible substrate.

こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は35μmであった。
The thickness of the polyimide layer of the flexible substrate thus obtained was 35 μm.

このフレキシブル基板のポリイミド層と表面処理層との
引き剥がし強度は0.8kg/cdであった.比較例1 実施例1において’dA ffiとしてシランカ・ンプ
リング処理の施していない電解銅箔を用いたことを除い
て実施例1と同様の操作を行ない、フレキシブル基板を
得た. こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は30μmであった。
The peel strength between the polyimide layer and the surface treatment layer of this flexible substrate was 0.8 kg/cd. Comparative Example 1 A flexible substrate was obtained by carrying out the same operations as in Example 1, except that an electrolytic copper foil that had not been subjected to silanka sampling treatment was used as 'dAffi in Example 1. The thickness of the polyimide layer of the flexible substrate thus obtained was 30 μm.

このフレキシブル基板のポリイミド層と表面処理層との
引き剥がし強度は0.3kg/cdであった.実施例2 実施例1の(2)において銅箔として三井金属鉱業製圧
延銅箔( BSII、35μm)を用い、シランカップ
リング処理および電解処理を銅箔の非光沢面に施したこ
とを除いて実施例lと同様の操作を行ない、フレキシブ
ル基板を得た。
The peel strength between the polyimide layer and the surface treatment layer of this flexible substrate was 0.3 kg/cd. Example 2 In Example 1 (2), Mitsui Mining & Co., Ltd. rolled copper foil (BSII, 35 μm) was used as the copper foil, except that silane coupling treatment and electrolytic treatment were performed on the non-glossy surface of the copper foil. A flexible substrate was obtained by performing the same operation as in Example 1.

こうして得られたフレキシフ゛Jレ基}反のポリイミド
層の膜厚は30μmであった. このフレキシブル基板のポリイミド層と表面処理層との
引き剥がし強度は1.3kg/cr1であった.比較例
2 実施例2においてシランカップリング処理を施さず、電
解処理だけを銅箔の非光沢面に施したことを除いて実施
例2と同様の操作を行ない、フレキシフ゛ノレ基1反を
得た。
The thickness of the polyimide layer thus obtained on the flexible J-base was 30 μm. The peel strength between the polyimide layer and the surface treatment layer of this flexible substrate was 1.3 kg/cr1. Comparative Example 2 The same operations as in Example 2 were performed except that the silane coupling treatment in Example 2 was not performed and only the electrolytic treatment was performed on the non-glossy surface of the copper foil to obtain one sheet of flexible vinyl base.

こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は30μmであった. このフレキシブル基板のポリイミド層と表面処理層との
引き剥がし強度は0.5kg/cJであった.実施例3 (+)ポリアミドーボリアミド酸ワニスの合成A.アミ
ノ末端基を有するボリアミドの製造=4,4゜−ジアミ
ノジフェニルエーテル6.84g (00342モル)
を攪拌機、内部温度計、均圧管を有する滴下漏斗、およ
び流入管を取り付けた1Nの反応器中で、無水のN,N
−ジメチルアセトアミド40gに完全に溶解させた。
The thickness of the polyimide layer of the flexible substrate thus obtained was 30 μm. The peel strength between the polyimide layer and the surface treatment layer of this flexible substrate was 0.5 kg/cJ. Example 3 Synthesis of (+) polyamide boriamic acid varnish A. Preparation of polyamide with amino end groups = 6.84 g (00342 mol) of 4,4°-diaminodiphenyl ether
Anhydrous N, N
- Completely dissolved in 40 g of dimethylacetamide.

溶媒ジャゲントにて反応器内温度を−5〜0゜Cに冷却
しつつ窒素雰囲気下、固体状のイソフタル酸ジクロリド
2.46g (0.0121モル)と、テレフタル酸ジ
クロリド2.46g (0.0121モル)の混合物を
、上記の?8液に少量づつ添加した。
2.46 g (0.0121 mol) of solid isophthalic acid dichloride and 2.46 g (0.0121 mol) of solid isophthalic acid dichloride were cooled to -5 to 0°C in the reactor using a solvent jugient under a nitrogen atmosphere. molar) mixture of the above? It was added little by little to 8 liquids.

添加終了後、粘稠な反応液を】0゜Cに昇渇させ、1時
間攪拌した。
After the addition was complete, the viscous reaction solution was heated to 0°C and stirred for 1 hour.

次に、この反応混合物にプロピレンオキシド3.09 
(0.0532モル)を無水N,N−ジメチルアセトア
ミド6gを以て希釈したものを、反応液の温度を5〜1
0’Cに保持しつつ滴下した.滴下終了後反応液を5〜
lO゜Cにて1時間撹拌し、末端アミノ基を有する理論
計算値による平均分子量がL 000のボリアミドを得
た. B.酸無水物末端を有するポリアミド酸の製造:Aと同
様の反応装置によって、ビロメリット酸二無水物の27
.1g ( 0.124モル)を、無水N,N−ジメチ
ルアセトアミド41gに?A濁させた.4,4゜−ジア
ミノジフエニルエーテル22.9g (0.124モル
)を無水のN,N−ジメチルアセトアミド92gに溶解
した溶液を、窒素雰囲気下において5〜20゜Cにて滴
下した. 滴下に伴い粘度が上昇し、アミン溶液の75%を滴下し
た時点で、粘度調節のために無水のN,N−ジメチルア
セトアミド67gを添加した.滴下終了後、反応混合物
を20〜25゜Cにて1時間撹拌し、末端酸無水物を有
する理論計算による平均分子量がs,oooのボリアミ
ド酸を得た.C.ポリアミドーポリアミド酸ブロック共
重合体の製造: Aによって得られたアミノ末端基を有するボリアミ1′
溶液を、Bにより得られた酸無水物末端を有するボリア
ミド酸の溶液に15〜20゛Cにて窒素雰囲気下に約3
0分間を要して添加した。
Next, 3.09 g of propylene oxide was added to the reaction mixture.
(0.0532 mol) was diluted with 6 g of anhydrous N,N-dimethylacetamide, and the temperature of the reaction solution was adjusted to 5 to 1 mol.
It was added dropwise while maintaining the temperature at 0'C. After dropping, add the reaction solution to 5~
The mixture was stirred at 10°C for 1 hour to obtain a polyamide having a terminal amino group and a theoretically calculated average molecular weight of L 000. B. Production of polyamic acid having an acid anhydride end: 27 of biromellitic dianhydride was prepared using the same reaction apparatus as in A.
.. 1g (0.124 mol) to 41g of anhydrous N,N-dimethylacetamide? A: It became cloudy. A solution of 22.9 g (0.124 mol) of 4,4°-diaminodiphenyl ether dissolved in 92 g of anhydrous N,N-dimethylacetamide was added dropwise at 5 to 20°C under a nitrogen atmosphere. The viscosity increased as the amine solution was added dropwise, and when 75% of the amine solution was added dropwise, 67 g of anhydrous N,N-dimethylacetamide was added to adjust the viscosity. After the addition was completed, the reaction mixture was stirred at 20 to 25°C for 1 hour to obtain a polyamic acid having a terminal acid anhydride and an average molecular weight of s,ooo according to theoretical calculation. C. Preparation of polyamide-polyamic acid block copolymer: polyamide 1′ with amino end groups obtained by A
The solution was added to the solution of the anhydride-terminated polyamic acid obtained in B at 15-20°C under nitrogen atmosphere for about 3 hours.
It took 0 minutes to add.

さらに、N,N−ジメチルアセトアミド89gを添加し
、20〜25“Cにて2時間撹拌した.固有粘度(35
゜C、0.5g/ 100d N,N−ジメチルアセト
アミド溶液で測定) 1.62のポリアミドーボリアミ
ド酸ブロンク共重合体を15.0重量%含む粘稠l容7
夜が得られた。
Further, 89 g of N,N-dimethylacetamide was added and stirred for 2 hours at 20-25"C. Intrinsic viscosity (35
°C, 0.5 g/100 d (measured in N,N-dimethylacetamide solution) 1.62 viscosity 1 volume 7 containing 15.0% by weight of polyamide polyamic acid bronch copolymer
Night was gained.

(2)銅箔の表面処理 三井金属鉱業製電解銅箔( 3EC、厚さ35μm)を
 %の希塩酸中に1分間浸漬し、表面処理層を取り除い
た. 次に下記の構造を有するシランカップリング剤(信越化
学工業製KBM−803) Its−CHz−C}It−CHz−Si (OCHx
) s1.0gを1.0kgのセロソルブアセテートに
溶解し、この溶液を上記の表面処理層を取り除いた電解
銅箔の光沢面(銅が露出している面)に4μmコーティ
ングし、80゜Cで15分間乾燥した.このシランカッ
プリング処理した銅箔を、30゜CにおいてCuSO4
・5HJを35g/ l、NiSO.・6HzOを22
5g/ l、ポリアクリルアミド(分子量70万)を1
g/2、HxSOaを5g/2、NazsOaを50g
/ l含む水溶液中で、25OA/ rrrの電流密度
で60秒処理した.このとき銅箔のシランカップリング
処理面を陰極とし、対極として白金を用いた. (3)PCI、の作成 (1)により得られたポリアミドーボリアミド酸共重合
体の溶液を、(2)で得られた電解銅箔の表面処理の施
してある面上に均一・に流延塗布し、+50’cで20
分間加熱乾燥した後、200゜Cの窒素雰囲気中で10
分間加熱してフレキシブル基板を得た.こうして得られ
たフレキシブル基板のポリアミド〜ポリイミド共重合体
層の膜厚は30μmであった。
(2) Surface treatment of copper foil An electrolytic copper foil (3EC, thickness 35 μm) manufactured by Mitsui Mining & Co., Ltd. was immersed in dilute hydrochloric acid of 10% for 1 minute to remove the surface treatment layer. Next, a silane coupling agent having the following structure (KBM-803 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Its-CHz-C}It-CHz-Si (OCHx
) Dissolve 1.0g of s in 1.0kg of cellosolve acetate, apply this solution to the shiny surface (exposed copper surface) of the electrolytic copper foil from which the above surface treatment layer has been removed to a thickness of 4 μm, and heat at 80°C. Dry for 15 minutes. This silane coupling-treated copper foil was heated to CuSO4 at 30°C.
・35g/l of 5HJ, NiSO.・6HzO22
5g/l, polyacrylamide (molecular weight 700,000) 1
g/2, HxSOa 5g/2, NazsOa 50g
/l in an aqueous solution with a current density of 25OA/rrr for 60 seconds. At this time, the silane coupling treated side of the copper foil was used as the cathode, and platinum was used as the counter electrode. (3) Creation of PCI: Pour the solution of the polyamide polyamic acid copolymer obtained in step (1) uniformly onto the surface-treated surface of the electrolytic copper foil obtained in step (2). Spread and apply at +50'c for 20
After heating and drying for 1 minute, dry in a nitrogen atmosphere at 200°C for 10 minutes.
A flexible substrate was obtained by heating for a minute. The thickness of the polyamide-polyimide copolymer layer of the flexible substrate thus obtained was 30 μm.

このフレキシブル基板のポリアミドイミド層と表面処理
層との引き剥がし強度はl.okg/ciaであった. 比較例:3 実施例3において消箔としてシランカップリング処理の
施していない電解銅箔を用いたことを除いて実施例lと
同様の操作を行ない、フレキシブル基板を得た。
The peel strength between the polyamide-imide layer and the surface treatment layer of this flexible substrate is l. It was OKG/CIA. Comparative Example: 3 A flexible substrate was obtained by carrying out the same operation as in Example 1, except that in Example 3, an electrolytic copper foil not subjected to silane coupling treatment was used as the defoil.

こうして得られたフレキシブル基板のポリイミド層の膜
厚は30μmであった. このフレキシブル基板のポリアミドイミド層と表面処理
層との引き剥がし強度は0.5kg/cdであった。
The thickness of the polyimide layer of the flexible substrate thus obtained was 30 μm. The peel strength between the polyamide-imide layer and the surface treatment layer of this flexible substrate was 0.5 kg/cd.

[発明の効果] 以上のごとく、本発明により提案された、銅箔層表面に
シランカソブリング処理された後に金属単体またはその
酸化物、合金等が形成され、続いてこの表面処理面に耐
熱性重合体が形成されたFCLは、耐熱性重合体フィル
ムと銅箔との間の接着力が顕著に増大する. かかるFCLは接着剤層を有さないために耐熱性は良好
であり、表面処理層の効果により接着性、またその熱劣
化性においても良好である。
[Effects of the Invention] As described above, as proposed by the present invention, after the surface of the copper foil layer is subjected to silane casing treatment, an elemental metal, its oxide, alloy, etc. is formed, and then heat-resistant The FCL formed with the polymer has significantly increased adhesive strength between the heat-resistant polymer film and the copper foil. Since such FCL does not have an adhesive layer, it has good heat resistance, and due to the effect of the surface treatment layer, it also has good adhesion and heat deterioration resistance.

このように本発明に従えば、優れた特性のフレキシブル
基板を提供することができる。
According to the present invention, a flexible substrate with excellent characteristics can be provided.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.耐熱性重合体フィルム層と、該耐熱性重合体フィル
ム層の少なくとも一方に銅箔層を有するフレキシブル銅
張り積層板であって、該銅箔層が、少なくとも一方の該
銅箔層の該耐熱性重合体に接する面にシランカップリン
グ剤を形成した後に、金属単体、その酸化物またはその
合金が固着されているフレキシブル銅張り積層板。
1. A flexible copper-clad laminate having a heat-resistant polymer film layer and a copper foil layer on at least one of the heat-resistant polymer film layers, wherein the copper foil layer has the heat resistance of at least one of the copper foil layers. A flexible copper-clad laminate in which a metal, its oxide, or its alloy is fixed after a silane coupling agent is formed on the surface in contact with the polymer.
2.シランカップリング剤が、アミノ系、エポキシ系、
メルカプト系から選ばれる一種以上である請求項1記載
のフレキシブル銅張り積層板。
2. Silane coupling agents are amino-based, epoxy-based,
The flexible copper-clad laminate according to claim 1, wherein the flexible copper-clad laminate is one or more selected from mercapto type.
3.金属単体またはその酸化物またはその合金が、銅、
亜鉛、ニッケル、クロムまたはこれらの酸化物、または
これらの合金から選ばれる一種以上である請求項1記載
のフレキシブル銅張り積層板。
3. An elemental metal, its oxide, or its alloy is copper,
The flexible copper-clad laminate according to claim 1, which is one or more selected from zinc, nickel, chromium, oxides thereof, or alloys thereof.
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