JPH02131459A - アミン酸化物の製造法 - Google Patents
アミン酸化物の製造法Info
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- JPH02131459A JPH02131459A JP21874289A JP21874289A JPH02131459A JP H02131459 A JPH02131459 A JP H02131459A JP 21874289 A JP21874289 A JP 21874289A JP 21874289 A JP21874289 A JP 21874289A JP H02131459 A JPH02131459 A JP H02131459A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C291/00—Compounds containing carbon and nitrogen and having functional groups not covered by groups C07C201/00 - C07C281/00
- C07C291/02—Compounds containing carbon and nitrogen and having functional groups not covered by groups C07C201/00 - C07C281/00 containing nitrogen-oxide bonds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
水性過酸化水素と三級アミンとの反応により三級アミン
酸化物を製造することは知られている。
酸化物を製造することは知られている。
この反応はまたゲル形成を防ぐため低級アルコールの如
き共一溶剤を用いて行なうこともできる。
き共一溶剤を用いて行なうこともできる。
本発明を要約すれば、ニトロソアミン含量の低いアミン
酸化物は三級アミンをチタニウム金属の存在において過
酸化水素と反応させることによって製造される。この工
程に二酸化炭素を添加すると実質的にニトロソアミンを
含まないアミン酸化物が得られる。
酸化物は三級アミンをチタニウム金属の存在において過
酸化水素と反応させることによって製造される。この工
程に二酸化炭素を添加すると実質的にニトロソアミンを
含まないアミン酸化物が得られる。
村田の米国特許第4.247.480号は、過酸化水素
との反応による三級アミンからのアミン酸化物の生成は
、三級アミンに基づき0.Ol〜2重量%の二酸化炭素
を包含させることにより促進し得ることを開示している
。村田は55〜65℃における工程を実証しそしてアミ
ン酸化物のすぐれた収量を得ている。
との反応による三級アミンからのアミン酸化物の生成は
、三級アミンに基づき0.Ol〜2重量%の二酸化炭素
を包含させることにより促進し得ることを開示している
。村田は55〜65℃における工程を実証しそしてアミ
ン酸化物のすぐれた収量を得ている。
過酸化水素を三級アミンと反応させるときニトロソアミ
ン不純物は常習的に生成されることが知られている。こ
のことは、もしニトロソアミンが凝わしい発癌性物質及
び突然変異原でありそして人間との接触を意図する製品
中には少量でさえも許すことができないという事実、“
ニトロソアミンズ:アセシング・ザ・リラテイブ・リス
ク”ケミカル●アンド●エンジニアリングーニュース(
“Nitrosamines:Assessing t
he Relative Risk”,Chemica
l & Engineering News) 、2
0 − 2 6頁、3月31日、1980、がないので
あれば、問題とはならない筈である。三級アミン酸化物
の.主たる用途は、クリーニング用洗剤、毛髪シャンプ
ー及び調髪剤の如きものを含めて、化粧料及び表面活性
処方物であり、これらはすべて人間に接触するものであ
る。これは、それらの主な市販領域で使用することがで
きる前に三級アミン酸化物からニトロソアミン不純物を
除去するための特別の操作を必要ならしめる。そのよう
な処理は、三級アミン酸化物を紫外線照射にさらすこと
を包含する(著者不明anonymous GB R
D2 6 9 0 5 6A)。
ン不純物は常習的に生成されることが知られている。こ
のことは、もしニトロソアミンが凝わしい発癌性物質及
び突然変異原でありそして人間との接触を意図する製品
中には少量でさえも許すことができないという事実、“
ニトロソアミンズ:アセシング・ザ・リラテイブ・リス
ク”ケミカル●アンド●エンジニアリングーニュース(
“Nitrosamines:Assessing t
he Relative Risk”,Chemica
l & Engineering News) 、2
0 − 2 6頁、3月31日、1980、がないので
あれば、問題とはならない筈である。三級アミン酸化物
の.主たる用途は、クリーニング用洗剤、毛髪シャンプ
ー及び調髪剤の如きものを含めて、化粧料及び表面活性
処方物であり、これらはすべて人間に接触するものであ
る。これは、それらの主な市販領域で使用することがで
きる前に三級アミン酸化物からニトロソアミン不純物を
除去するための特別の操作を必要ならしめる。そのよう
な処理は、三級アミン酸化物を紫外線照射にさらすこと
を包含する(著者不明anonymous GB R
D2 6 9 0 5 6A)。
それ故、合成操作の後何ら特殊の精製作業に頼ることな
しに、ニトロソアミン不純物が低濃度であるかまたはニ
トロソアミンを実質的に含まない三級アミン酸化物を製
造することに対する要求が存在する。
しに、ニトロソアミン不純物が低濃度であるかまたはニ
トロソアミンを実質的に含まない三級アミン酸化物を製
造することに対する要求が存在する。
今や、ニトロソアミンが低レベルであるアミン酸化物は
、三級アミンをチタン金属の存在において水性過酸化水
素と反応させることによって容易に製造できることが見
出された。二酸化炭素を反応混合物に添加すると実質的
にニトロソアミンを含まないアミン酸化物が得られる。
、三級アミンをチタン金属の存在において水性過酸化水
素と反応させることによって容易に製造できることが見
出された。二酸化炭素を反応混合物に添加すると実質的
にニトロソアミンを含まないアミン酸化物が得られる。
本発明の好ましい一態様は低減させたニトロソアミン含
量を有するアミン酸化物の製造法であり、該方法は三級
アミンをチタニウム金属と接触させながら水性過酸化水
素と反応させることから成る。
量を有するアミン酸化物の製造法であり、該方法は三級
アミンをチタニウム金属と接触させながら水性過酸化水
素と反応させることから成る。
“低減されたニトロソアミン含量″とは、アミン酸化物
生成物が同じ反応条件下に但しチタニウムの存在なしで
つくられたアミン酸化物にくらべて少量のニトロソアミ
ンを含むことを意味する。
生成物が同じ反応条件下に但しチタニウムの存在なしで
つくられたアミン酸化物にくらべて少量のニトロソアミ
ンを含むことを意味する。
65°Cで行なわれた常用のアミン酸化物製造法は合計
して約7 0 0 ppbのニトロソアミンを含んでい
るが、一方チタニウムとの接触のもとに同じ条件で行な
われた方法では310ppbのニトロソアミンを含むこ
とが見出され、これは50%を超える低減である。
して約7 0 0 ppbのニトロソアミンを含んでい
るが、一方チタニウムとの接触のもとに同じ条件で行な
われた方法では310ppbのニトロソアミンを含むこ
とが見出され、これは50%を超える低減である。
この方法は、ブチルジメチルアミン、ヘキシルジメチル
アミン、インブチルジメチルアミン、2一エチルへキシ
ルジメチルアミン、オクチルジメチルアミン、デシルジ
メチルアミン、ドデシルジメチルアミン、テトラデシル
ジメチルアミン、ヘキサデシノレジメチノレアミン、ア
イコシノレジメチノレアミン、ドコシルジメチルアミン
、トリアコンチルジメチルアミン、トリブチルアミン、
プチルジエチルアミン、インブチルジエチルアミン、デ
シルブチルエチルアミン、ヘキサデシルヘキシルメチル
アミン、アイコシルジブチルアミン、トリオクチルアミ
ン、トリドデシルアミン、ジアイコシルエチルアミン、
ジトリアコンチルメチルアミン、N,N−ジメチルアニ
リン、N−メチルーN−ドデシルアニリン、シクロペン
チルジメチルアミン、シクロへキシルジメチルアミン、
ジシクロヘキシルメチルアミン、シクロドデシルジメチ
ルアミン、ジベンチルブチルアミン、p一トリルジエチ
ルアミン、α−ナフチルブチルメチルアミン、ペンジル
ブチルメチルアミン、a−メチルベンジルブチルメチル
アミン、(4−プチルベンジル)オクチルメチルアミン
、ジベンジルブチノレアミン、4−ペンチルベンジルジ
ブチルアミン、N−プチルモルホリン、N−メチルモル
ホリン、N−メチルピベリジン、N−ドデシルビペリジ
ン、N−オクタデシルピペリジン、N一トリアコンチル
ピペリジン、N−メチルピペラジン、N−プチルビペラ
ジン、N−オクチルピベラジン、N−フエニルピペリジ
ン、N−ペンジルピペリジン、N−シクロへキシルピペ
リジン、ピリジン及び同類物の如き、広範囲の任意の三
級アミンに適用しうる。
アミン、インブチルジメチルアミン、2一エチルへキシ
ルジメチルアミン、オクチルジメチルアミン、デシルジ
メチルアミン、ドデシルジメチルアミン、テトラデシル
ジメチルアミン、ヘキサデシノレジメチノレアミン、ア
イコシノレジメチノレアミン、ドコシルジメチルアミン
、トリアコンチルジメチルアミン、トリブチルアミン、
プチルジエチルアミン、インブチルジエチルアミン、デ
シルブチルエチルアミン、ヘキサデシルヘキシルメチル
アミン、アイコシルジブチルアミン、トリオクチルアミ
ン、トリドデシルアミン、ジアイコシルエチルアミン、
ジトリアコンチルメチルアミン、N,N−ジメチルアニ
リン、N−メチルーN−ドデシルアニリン、シクロペン
チルジメチルアミン、シクロへキシルジメチルアミン、
ジシクロヘキシルメチルアミン、シクロドデシルジメチ
ルアミン、ジベンチルブチルアミン、p一トリルジエチ
ルアミン、α−ナフチルブチルメチルアミン、ペンジル
ブチルメチルアミン、a−メチルベンジルブチルメチル
アミン、(4−プチルベンジル)オクチルメチルアミン
、ジベンジルブチノレアミン、4−ペンチルベンジルジ
ブチルアミン、N−プチルモルホリン、N−メチルモル
ホリン、N−メチルピベリジン、N−ドデシルビペリジ
ン、N−オクタデシルピペリジン、N一トリアコンチル
ピペリジン、N−メチルピペラジン、N−プチルビペラ
ジン、N−オクチルピベラジン、N−フエニルピペリジ
ン、N−ペンジルピペリジン、N−シクロへキシルピペ
リジン、ピリジン及び同類物の如き、広範囲の任意の三
級アミンに適用しうる。
もつと好ましい一態様において、三級アミンは構造R’
R2R3Nを有しここでR1、R2及びR3は炭素原子
1〜30を有する一級アルキルである、一級トリアルキ
ルアミンである。これらの代表的な例は、トリメチルア
ミン、トリーn−ペンチルアミン、トリーn一下デシル
アミン、n−オクタデシルジ=(n−ブチル)アミン、
n−アイコシルジー(n−7”シル)アミン、n−トリ
アコンチル、n−ドデシルメチルアミン及び同類物を包
含するが、これらには限定されない。
R2R3Nを有しここでR1、R2及びR3は炭素原子
1〜30を有する一級アルキルである、一級トリアルキ
ルアミンである。これらの代表的な例は、トリメチルア
ミン、トリーn−ペンチルアミン、トリーn一下デシル
アミン、n−オクタデシルジ=(n−ブチル)アミン、
n−アイコシルジー(n−7”シル)アミン、n−トリ
アコンチル、n−ドデシルメチルアミン及び同類物を包
含するが、これらには限定されない。
更に好ましい一態様において Rlは炭素原子6〜20
を含む一級アルキル基でありモしてR霊及びR3は独立
的にメチル及びエチルからえらばれる。
を含む一級アルキル基でありモしてR霊及びR3は独立
的にメチル及びエチルからえらばれる。
更に好ましい一態様において、R1は炭素原子8〜20
を含む主として線状の一級アルキルでありそしてR2及
びRlはメチル基である。“主として線状”とは Rl
基の50%以上、更に好ましくは70%以上、最も好ま
しくは90%以上が炭素原子8〜20を含む線状アルキ
ルであることを意味する。
を含む主として線状の一級アルキルでありそしてR2及
びRlはメチル基である。“主として線状”とは Rl
基の50%以上、更に好ましくは70%以上、最も好ま
しくは90%以上が炭素原子8〜20を含む線状アルキ
ルであることを意味する。
これらの好ましい態様の例は、オクチルジメチルアミン
、デシルジメチルアミン、ドデシルジメチルアミン、テ
トラデシルジメチルアミン、ヘキサデシルジメチルアミ
ン、オクタデシルジメチルアミン、アイコシルジメチル
アミン及びその混合物である。
、デシルジメチルアミン、ドデシルジメチルアミン、テ
トラデシルジメチルアミン、ヘキサデシルジメチルアミ
ン、オクタデシルジメチルアミン、アイコシルジメチル
アミン及びその混合物である。
本発明のより好ましいもう一つの態様において、Rl及
びR!の両者は独立的に炭素原子6〜20を含む一級ア
ルキル基からえらばれ、モしてR3はメチルまたはエチ
ル基である。
びR!の両者は独立的に炭素原子6〜20を含む一級ア
ルキル基からえらばれ、モしてR3はメチルまたはエチ
ル基である。
高度に好ましい一態様において%R’及びR−は独立的
に炭素原子8〜20を含む主として線状の一級アルキル
からえらばれ、モしてR”lよメチルである。これらの
高度に好ましい態様の例は、ジオクチノレメチノレアミ
ン、ジデシノレメチノレアミン、ジドデシルメチルアミ
ン、ジテトラデシルメチルアミン、ジヘキサデシルメチ
ルアミン、ジオクタデシルメチルアミン、ジアイコシル
メチルアミン、ジシクロオクチルメチルアミン、ドデシ
ルオクチルメチルアミン、テトラデシルデシルメチルア
ミン、ヘキサデシルテトラデシルメチルアミン、オクタ
デシルヘキサデシルメチルアミン、アイコシルドデシル
メチルアミン及び同類物であり、それらの混合物をも含
む。
に炭素原子8〜20を含む主として線状の一級アルキル
からえらばれ、モしてR”lよメチルである。これらの
高度に好ましい態様の例は、ジオクチノレメチノレアミ
ン、ジデシノレメチノレアミン、ジドデシルメチルアミ
ン、ジテトラデシルメチルアミン、ジヘキサデシルメチ
ルアミン、ジオクタデシルメチルアミン、ジアイコシル
メチルアミン、ジシクロオクチルメチルアミン、ドデシ
ルオクチルメチルアミン、テトラデシルデシルメチルア
ミン、ヘキサデシルテトラデシルメチルアミン、オクタ
デシルヘキサデシルメチルアミン、アイコシルドデシル
メチルアミン及び同類物であり、それらの混合物をも含
む。
水性過酸化水素は3〜100%H,O,を含むものを含
めていずれも使用することができる。好ましくは過酸化
水素は20〜70重量%活性H,O,である。三級アミ
ンが線状C.〜2。アルキルジメチルアミンであるとき
、ゲル生成を避けるため水性過酸化水素は20〜40重
量%H.O,であることが好ましい。或いは、もつと濃
厚な過酸化水素を使用することができ、そして反応混合
物を撹拌可能に保つために付加的の水を初めに添加する
かまたは共一供給する。この操作法において、ゲルを制
御してゲルを含まない範囲に保つのは、付加的の水も勘
定に入れて、“正味“のH ,−0 ,濃度である。例
えば、50%の水性過酸化水素1 00gと水long
の共一供給は“正味#25%の水性過酸化水素を与える
。同様に三級アミンに水100gを予め添加し次いで5
0%水性過酸化水素100gを供給すれば“正味”25
%水性過酸化水素を与える。同様にして、低級アルコー
ル例えばインプロパノール、イソブタノール及び同類物
の如き共一溶剤はゲル化を避けるために用いることがで
きる。
めていずれも使用することができる。好ましくは過酸化
水素は20〜70重量%活性H,O,である。三級アミ
ンが線状C.〜2。アルキルジメチルアミンであるとき
、ゲル生成を避けるため水性過酸化水素は20〜40重
量%H.O,であることが好ましい。或いは、もつと濃
厚な過酸化水素を使用することができ、そして反応混合
物を撹拌可能に保つために付加的の水を初めに添加する
かまたは共一供給する。この操作法において、ゲルを制
御してゲルを含まない範囲に保つのは、付加的の水も勘
定に入れて、“正味“のH ,−0 ,濃度である。例
えば、50%の水性過酸化水素1 00gと水long
の共一供給は“正味#25%の水性過酸化水素を与える
。同様に三級アミンに水100gを予め添加し次いで5
0%水性過酸化水素100gを供給すれば“正味”25
%水性過酸化水素を与える。同様にして、低級アルコー
ル例えばインプロパノール、イソブタノール及び同類物
の如き共一溶剤はゲル化を避けるために用いることがで
きる。
過酸化水素の量は少くとも化学量論的量であるべきであ
る。有用な範囲は三級アミンlモル当り約1〜5モルH
,0,、より好ましくはl−1.5モルH,0,である
i高度に好ましい量は三級アミン1モル当り1.0〜1
.3モルH,O!、殊に1.?5〜1.2モルH.O,
である。反応後に残る実質量の未反応H,0■は還元剤
まt;は過酸化物分解触媒の添加によって分解すること
ができる。
る。有用な範囲は三級アミンlモル当り約1〜5モルH
,0,、より好ましくはl−1.5モルH,0,である
i高度に好ましい量は三級アミン1モル当り1.0〜1
.3モルH,O!、殊に1.?5〜1.2モルH.O,
である。反応後に残る実質量の未反応H,0■は還元剤
まt;は過酸化物分解触媒の添加によって分解すること
ができる。
ジー線状アルキルメチルアミンを用いて行なう場合、こ
の方法は45〜70重量%過酸化水素の如きより濃厚な
水性過酸化水素を用いて実施することができる。ジー線
状アルキルがそれぞれ炭素原子6〜l2を含む場合、反
応混合物は実質的にゲルのない状態で留まる。ジー線状
アルキルが炭素原子l4またはそれ以上含む場合、反応
混合物は冷却すると乾燥したフレーク状固体になるであ
ろう。
の方法は45〜70重量%過酸化水素の如きより濃厚な
水性過酸化水素を用いて実施することができる。ジー線
状アルキルがそれぞれ炭素原子6〜l2を含む場合、反
応混合物は実質的にゲルのない状態で留まる。ジー線状
アルキルが炭素原子l4またはそれ以上含む場合、反応
混合物は冷却すると乾燥したフレーク状固体になるであ
ろう。
反応は、所望の反応を進めるのに十分高く但し分解を起
こすほどに高くはない任意の温度で実施することができ
る。有用な温度範囲は10−100℃、より好ましくは
20〜80℃である。反応は高11温度で一層速かに進
行するから、ニトロソアミンの水準が所望の限度以下に
とどまる限り、できるだけ高い温度で実施することが好
ましい。
こすほどに高くはない任意の温度で実施することができ
る。有用な温度範囲は10−100℃、より好ましくは
20〜80℃である。反応は高11温度で一層速かに進
行するから、ニトロソアミンの水準が所望の限度以下に
とどまる限り、できるだけ高い温度で実施することが好
ましい。
もしニトロソアミンが生成し初めたら、反応温度はニト
ロンアミンの生成が所望の最大限度になるかまたはそれ
以下になるまで低下させる々きである。40℃以下の温
度は通常二トロソアミンの非常に低い水準をもたらす。
ロンアミンの生成が所望の最大限度になるかまたはそれ
以下になるまで低下させる々きである。40℃以下の温
度は通常二トロソアミンの非常に低い水準をもたらす。
操作の一態様において、三級アミンへの水性過酸化水素
の供給は低温度、好ましくは40℃以下のl1度で開.
始し、そして過酸化水素の化学論量的量の少くとも20
重量%が反応し終るまで40℃以下で続ける。次いで温
度は残りの過酸化水素供給の間に漸次40’O以上に上
げることが許され、但し70℃以下にとどめるようにす
る。もし過酸化水素供給の終りに反応温度が約55゜C
以下であるならば、残りの三級アミンのアミン酸化物へ
の変換は混合物を約65゜Cに0.5〜2時間加熱する
ことによって促進することができる。
の供給は低温度、好ましくは40℃以下のl1度で開.
始し、そして過酸化水素の化学論量的量の少くとも20
重量%が反応し終るまで40℃以下で続ける。次いで温
度は残りの過酸化水素供給の間に漸次40’O以上に上
げることが許され、但し70℃以下にとどめるようにす
る。もし過酸化水素供給の終りに反応温度が約55゜C
以下であるならば、残りの三級アミンのアミン酸化物へ
の変換は混合物を約65゜Cに0.5〜2時間加熱する
ことによって促進することができる。
反応時間は可変であり、これはえらばれた三級アミン、
反応温度及び反応規模に依存する。一般に、反応は1〜
24時間、より屡々2〜12時間そして最も屡々3〜8
時間内に完結する。すべての過酸化水素及び三級アミン
を混合した後の反応の進行は、少量の試料を取出して遊
離のアミンを分析することによって追跡することができ
る。遊離のアミンの水準が約3重量%以下に低下したと
き反応は完結したものと考えられる。この段階で製品は
使用または出荷のために包装することができる。遊離ア
ミンの何らかの残留分は放置及び/または包装または出
荷前の貯蔵の間に低減し続け、最終的には検出できなく
なるまでに至るであろう。
反応温度及び反応規模に依存する。一般に、反応は1〜
24時間、より屡々2〜12時間そして最も屡々3〜8
時間内に完結する。すべての過酸化水素及び三級アミン
を混合した後の反応の進行は、少量の試料を取出して遊
離のアミンを分析することによって追跡することができ
る。遊離のアミンの水準が約3重量%以下に低下したと
き反応は完結したものと考えられる。この段階で製品は
使用または出荷のために包装することができる。遊離ア
ミンの何らかの残留分は放置及び/または包装または出
荷前の貯蔵の間に低減し続け、最終的には検出できなく
なるまでに至るであろう。
チタニウム金属との接触は反応をチタニウム張りされた
反応器中で実施することにより達成することができるが
、こらは必要ではなくそして過剰設備をもたらすであろ
う。チタニウム金属の接触は非常に僅かな付加的費用で
、単にチタニウム金属のクーポンを反応液相に浸すだけ
で、達成することができる。随時撹拌機頭部の如き反応
器の一部をチタニウム金属で構成することができよう。
反応器中で実施することにより達成することができるが
、こらは必要ではなくそして過剰設備をもたらすであろ
う。チタニウム金属の接触は非常に僅かな付加的費用で
、単にチタニウム金属のクーポンを反応液相に浸すだけ
で、達成することができる。随時撹拌機頭部の如き反応
器の一部をチタニウム金属で構成することができよう。
チタニウム金属接触の量は実験的に容易に決定すること
ができ、それは或る程度反応器中の撹拌の量に依存する
からである。有用な範囲は反応液容量1l当り5〜50
0cII+2のチタニウム表面である。より好ましい範
囲はlO〜loocm”/j!である。チタニウムの効
果は表面現象であると思われるから、全体の表面積が勘
定に入る。5cmX5cmのクーポンは概略50c+a
”の表面積を有する。
ができ、それは或る程度反応器中の撹拌の量に依存する
からである。有用な範囲は反応液容量1l当り5〜50
0cII+2のチタニウム表面である。より好ましい範
囲はlO〜loocm”/j!である。チタニウムの効
果は表面現象であると思われるから、全体の表面積が勘
定に入る。5cmX5cmのクーポンは概略50c+a
”の表面積を有する。
方法は所要の清浄なチタニウム金属表面を含む反応器中
に三級アミン及び使用溶剤(例えば水、アルコール)を
置くことにより実施される。次いで所望温度で撹拌しな
がら水性過酸化水素の供給を開始する。過酸化水素の供
給完了後、未反応三級アミンの水準が約3重量%以下に
低下するまで反応温度で撹拌を続ける。そこで反応生成
物は包装及び使用に直ちに供せられるようになる。
に三級アミン及び使用溶剤(例えば水、アルコール)を
置くことにより実施される。次いで所望温度で撹拌しな
がら水性過酸化水素の供給を開始する。過酸化水素の供
給完了後、未反応三級アミンの水準が約3重量%以下に
低下するまで反応温度で撹拌を続ける。そこで反応生成
物は包装及び使用に直ちに供せられるようになる。
本発明のもう一つの態様において、二酸化炭素もまた反
応混合物に添加される。かくして本発明の高度に好まし
い態様は低二トロンアミンまたはニトロソアミンを実質
的に含まないアミン酸化物を製造する方法であり、該方
法は反応混合物に二酸化炭素を添加することにより形成
される触媒の存在においてそしてチタニウム金属との接
触において三級アミンを水性過酸化水素と反応させるこ
とから成る。
応混合物に添加される。かくして本発明の高度に好まし
い態様は低二トロンアミンまたはニトロソアミンを実質
的に含まないアミン酸化物を製造する方法であり、該方
法は反応混合物に二酸化炭素を添加することにより形成
される触媒の存在においてそしてチタニウム金属との接
触において三級アミンを水性過酸化水素と反応させるこ
とから成る。
“低二トロソアミン″とはニトロソアミン含量が2 0
0 ppb以下、更に好ましくはI O O ppb
以下であることを意味する。本発明のこの態様によれば
、クラルら、アナリテイカル・ケミストリー(Krul
l et a!..Ana1、Chem.) 5土
、l706(1979)に記載されたサーマル・エナー
ジイ・アナライザー(Thermal Energy
Analyser)法によって検出される水準以下のニ
トロソアミン濃度が得られた。
0 ppb以下、更に好ましくはI O O ppb
以下であることを意味する。本発明のこの態様によれば
、クラルら、アナリテイカル・ケミストリー(Krul
l et a!..Ana1、Chem.) 5土
、l706(1979)に記載されたサーマル・エナー
ジイ・アナライザー(Thermal Energy
Analyser)法によって検出される水準以下のニ
トロソアミン濃度が得られた。
この態様の方法は二酸化炭素の添加を除いては前記した
態様と同じ方法で実施される。反応は、二酸化炭素で、
または単に二酸化炭素ブランケットを備えるだけで、加
圧(例えば5〜500psigまたはそれ以上)するこ
とができる。反応の効果的な実施方法は、二酸化炭素を
反応液相中に撒布するかまたは反応の全期間または一部
の期間中反応液相上に二酸化炭素掃気を保つことである
。もし反応速度が反応終末に向けて徐降するようならば
、付加的の二酸化炭素を噴入することができる。
態様と同じ方法で実施される。反応は、二酸化炭素で、
または単に二酸化炭素ブランケットを備えるだけで、加
圧(例えば5〜500psigまたはそれ以上)するこ
とができる。反応の効果的な実施方法は、二酸化炭素を
反応液相中に撒布するかまたは反応の全期間または一部
の期間中反応液相上に二酸化炭素掃気を保つことである
。もし反応速度が反応終末に向けて徐降するようならば
、付加的の二酸化炭素を噴入することができる。
添加される二憩化炭素の量は反応に触媒的に働いてより
早い速度で反応を進行せしめる量であるべきである。こ
れは約0.005重量%から三級アミン中二酸化炭素の
溶解限度までに亘ることができる。より好ましい範囲は
0.01重量%から反応温度における系中ヘの二酸化炭
素の溶解・・限.度までである。
早い速度で反応を進行せしめる量であるべきである。こ
れは約0.005重量%から三級アミン中二酸化炭素の
溶解限度までに亘ることができる。より好ましい範囲は
0.01重量%から反応温度における系中ヘの二酸化炭
素の溶解・・限.度までである。
下記実施例は反応が如何に行なわれるかを示し、そして
この新しい方法を同じ方法で但しチタニウム金属なしに
行なわれる反応と比較するものである。
この新しい方法を同じ方法で但しチタニウム金属なしに
行なわれる反応と比較するものである。
実施例l
これは比較目的のため、チタニウムまたはco!のいず
れもなしに行なわれる基本線実験である。
れもなしに行なわれる基本線実験である。
反応フラスコ中にドデシルジメチルアミン250gを置
いた。次に50%水性過酸化水素84.2gを撹拌され
た混合物中へ60〜67℃(大部分63〜67℃)で8
8分間に亘って徐々に添加した。ゲルを防ぐため周期的
に水(水全量585g)を添加した。
いた。次に50%水性過酸化水素84.2gを撹拌され
た混合物中へ60〜67℃(大部分63〜67℃)で8
8分間に亘って徐々に添加した。ゲルを防ぐため周期的
に水(水全量585g)を添加した。
1隻迄h立豊1 アミ゜ン変換率(%)1.5時
・間 25%3.5時・間
72%7.0.侍.・間
84%開始から7.0時間・で採取した試料は
、クラルら、′アナリテイカル・ケミストリー 、5↓
、1 706 (1 979)に記載の方法に適応した
サーマル・エナージイ・アナライザーを用い、N−二ト
ロソジメチルアミン418ppb及びN−ニトロソドデ
シルメチルアミン3 2 1 ppbを分析検出した。
・間 25%3.5時・間
72%7.0.侍.・間
84%開始から7.0時間・で採取した試料は
、クラルら、′アナリテイカル・ケミストリー 、5↓
、1 706 (1 979)に記載の方法に適応した
サーマル・エナージイ・アナライザーを用い、N−二ト
ロソジメチルアミン418ppb及びN−ニトロソドデ
シルメチルアミン3 2 1 ppbを分析検出した。
反応を一夜室温で放置した。混合物を撹拌しながら65
℃に再加熱して反応を続けた。
℃に再加熱して反応を続けた。
再開始からの時間 アミン 換率(%)2時間
87% 4時間 91% 7時間 91% 23.5時間 91% 触媒なしの反応は全く緩徐であることを見ることができ
る。再開始から4時間後に採取された生成物試料をニト
ロソアミンについて分析し、N一二トロンジメチルアミ
ン418ppb及びN−ニトロソドデシルメチルアミン
2 9 6 ppbが見出された。
87% 4時間 91% 7時間 91% 23.5時間 91% 触媒なしの反応は全く緩徐であることを見ることができ
る。再開始から4時間後に採取された生成物試料をニト
ロソアミンについて分析し、N一二トロンジメチルアミ
ン418ppb及びN−ニトロソドデシルメチルアミン
2 9 6 ppbが見出された。
実施例2
これはチタニウムのクーポンを用い但し二酸化炭素なし
で行なわれた実施例である。
で行なわれた実施例である。
ガラス反応フラスコ中にドデシルジメチルアミン250
gを置いた。チタニウムクーポン(7.6 2ctaX
l −2 7cmX O.3 1 8001)を液相
中に懸垂した。アミンを65℃に加熱しそして50重量
%水性過酸化水素83.6gを70分間に亘って添加し
た。同時に水を混合物が丁度流体に保たれるような割合
で添加した。110分後水300mj2を添加した。反
応混合物を更に5時間40分65℃で撹拌し、そのとき
’H NHRによる分析は〉96%変換率を示した。
gを置いた。チタニウムクーポン(7.6 2ctaX
l −2 7cmX O.3 1 8001)を液相
中に懸垂した。アミンを65℃に加熱しそして50重量
%水性過酸化水素83.6gを70分間に亘って添加し
た。同時に水を混合物が丁度流体に保たれるような割合
で添加した。110分後水300mj2を添加した。反
応混合物を更に5時間40分65℃で撹拌し、そのとき
’H NHRによる分析は〉96%変換率を示した。
次いで残りの水(全体では5 6 3 g)を加え、そ
して反応混合物を室温に冷却しそして実施例1における
如く分析した。
して反応混合物を室温に冷却しそして実施例1における
如く分析した。
分析は78pρbのN−ニトロソジメチルアミン及び2
3 5 ppbのN−ニトロソドデシルメチルアミン
を示した。
3 5 ppbのN−ニトロソドデシルメチルアミン
を示した。
実施例3
これはCO,を用い但しチタニウムクーポンなしで行な
われた比較例である。
われた比較例である。
ガラス反応フラスコ中にドデシルジメチルアミン250
gを置いた。このアミンを二酸化炭素の雰囲気下に65
℃に加熱し、そして50%水性過酸化水素86g及び水
584−を1時間に亘って添加した。撹拌を65℃で2
時間続けた。ドデシルジメチルアミンオキサイドへの変
換は本質的に完了した。生成物を実施例lにおける如く
分析した。分析は96ppbのN−ニトロンジメチルア
ミンを示した。
gを置いた。このアミンを二酸化炭素の雰囲気下に65
℃に加熱し、そして50%水性過酸化水素86g及び水
584−を1時間に亘って添加した。撹拌を65℃で2
時間続けた。ドデシルジメチルアミンオキサイドへの変
換は本質的に完了した。生成物を実施例lにおける如く
分析した。分析は96ppbのN−ニトロンジメチルア
ミンを示した。
実施例4
この実施例は反応混合物中CO2及びチタニウムの両者
を用いて行なった。
を用いて行なった。
ガラス反応フラスコ中にドデシルジメチルアミン250
g及び水563gを置いた。チタニウムのクーポン(7
.6 2cmX 1 .2 7cmX 0.3 1 8
CII1)を液相中に懸垂した。フラスコを二酸化炭素
で掃気し、そして二酸化炭素雰囲気下に65℃に加熱し
た。次に50重量%水性過酸化水素83.6gを65分
間に亘って65℃で添加した。次いで混合物を更に11
5分間65℃で撹拌した。
g及び水563gを置いた。チタニウムのクーポン(7
.6 2cmX 1 .2 7cmX 0.3 1 8
CII1)を液相中に懸垂した。フラスコを二酸化炭素
で掃気し、そして二酸化炭素雰囲気下に65℃に加熱し
た。次に50重量%水性過酸化水素83.6gを65分
間に亘って65℃で添加した。次いで混合物を更に11
5分間65℃で撹拌した。
’H NMRによる分析は三級アミンのドデシルジメ
チルアミンオキサイドへの99%を超える変換を示した
。生成物を実施例lにおける如くN一二トロンジメチル
アミン及びN−ニトロンドデシルメチルアミンについて
分析した。分析は独立試験室(テルメデイツクス・イン
コーボレーデッド(Thermedics Incor
porated) )によって行なった。検出限度はl
oppbのN−ニトロンジメチルアミン及び80ppb
のN−ニトロソドデシルメチルアミンであった。両者の
ニトロソアミンは検出限度以下であった。
チルアミンオキサイドへの99%を超える変換を示した
。生成物を実施例lにおける如くN一二トロンジメチル
アミン及びN−ニトロンドデシルメチルアミンについて
分析した。分析は独立試験室(テルメデイツクス・イン
コーボレーデッド(Thermedics Incor
porated) )によって行なった。検出限度はl
oppbのN−ニトロンジメチルアミン及び80ppb
のN−ニトロソドデシルメチルアミンであった。両者の
ニトロソアミンは検出限度以下であった。
上記の結果は、二酸化炭素及びチタニウム金属の両者の
存在において実施することによりニトロソアミンの水準
は、可成り高い温度で操作するときでさえ、検出限度以
下に保たれることを示している。本発明は長い間感じら
れていた健康上及び環境上の要求を満足する。
存在において実施することによりニトロソアミンの水準
は、可成り高い温度で操作するときでさえ、検出限度以
下に保たれることを示している。本発明は長い間感じら
れていた健康上及び環境上の要求を満足する。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
1、三級アミンを、チタニウム金属と接触させながら、
水性過酸化水素と反応させることから成る、低減された
ニトロソアミン含量を有するアミン酸化物の製造方法。
水性過酸化水素と反応させることから成る、低減された
ニトロソアミン含量を有するアミン酸化物の製造方法。
2.三級アミンを、反応混合物に二酸化炭素を添加する
ことにより形成された触媒の存在下にそしてチタニウム
金属と接触させながら、水性過酸化水素と反応させるこ
とから成る、ニトロソアミン含量の低いまたは実質的に
ニトロソアミンを含まないアミン酸化物の製造方法。
ことにより形成された触媒の存在下にそしてチタニウム
金属と接触させながら、水性過酸化水素と反応させるこ
とから成る、ニトロソアミン含量の低いまたは実質的に
ニトロソアミンを含まないアミン酸化物の製造方法。
3.温度範囲20〜80℃において行なう、上記第1項
または第2項記載の方法。
または第2項記載の方法。
4.20〜40℃において行なう、上記第l項または第
2項記載の方法。
2項記載の方法。
5.過酸化水素の化学量論量の少くとも20重量%が該
三級アミンと反応するまで40℃より低い初期温度で行
ない、次いで漸次温度を40℃を超え70°C未満の温
度に増大せしめる、上記第1項または第2項記載の方法
。
三級アミンと反応するまで40℃より低い初期温度で行
ない、次いで漸次温度を40℃を超え70°C未満の温
度に増大せしめる、上記第1項または第2項記載の方法
。
6.該三級アミンはR ’R ’R ”Nの構造を有し
、ここでRlは炭素原子6〜20を含む一級アルキル基
でありモしてR2及びR3はメチルまたはエチルである
、上記第1〜5項のいずれかに記載の方法。
、ここでRlは炭素原子6〜20を含む一級アルキル基
でありモしてR2及びR3はメチルまたはエチルである
、上記第1〜5項のいずれかに記載の方法。
7.該三級アミンはドデシルジメチルアミンである、上
記第6項記載の方法。
記第6項記載の方法。
8.該三級アミンはR ’R ”R ”Nの構造を有し
、ここでRl及びR!は独立的に炭素原子6〜20を含
む一級アルキル基からえらばれそしてR3はメチルまた
はエチルである、上記第1〜5項のいずれかに記載の方
法。
、ここでRl及びR!は独立的に炭素原子6〜20を含
む一級アルキル基からえらばれそしてR3はメチルまた
はエチルである、上記第1〜5項のいずれかに記載の方
法。
9.該三級アミンはジデシルメチルアミンである、上記
第8項記載の方法。
第8項記載の方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、三級アミンを、チタニウム金属と接触させながら、
水性過酸化水素と反応させることから成る、低減された
ニトロソアミン含量を有するアミン酸化物の製造方法。 2、三級アミンを、反応混合物に二酸化炭素を添加する
ことにより形成された触媒の存在下にそしてチタニウム
金属と接触させながら、水性過酸化水素と反応させるこ
とから成る、ニトロソアミン含量の低いまたは実質的に
ニトロソアミンを含まないアミン酸化物の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US237436 | 1981-02-23 | ||
US23743688A | 1988-08-29 | 1988-08-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02131459A true JPH02131459A (ja) | 1990-05-21 |
JP2793281B2 JP2793281B2 (ja) | 1998-09-03 |
Family
ID=22893700
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1218742A Expired - Lifetime JP2793281B2 (ja) | 1988-08-29 | 1989-08-28 | アミン酸化物の製造法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0356918A1 (ja) |
JP (1) | JP2793281B2 (ja) |
CA (1) | CA1329217C (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4140259A1 (de) * | 1991-12-06 | 1993-06-09 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen, De | Verfahren zur herstellung tertiaerer aminoxide |
DE69602382T2 (de) * | 1995-01-23 | 1999-10-14 | Koei Chemical Co. | Verfahren zur Herstellung von tertiären Amin-N-Oxiden |
US5502188A (en) * | 1995-06-07 | 1996-03-26 | Basf Corporation | Production of almost colorless solutions of n-methylmorpholine oxide |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5528968A (en) * | 1978-08-24 | 1980-02-29 | Nissan Chem Ind Ltd | Production of amine oxide |
AU615471B2 (en) * | 1987-09-08 | 1991-10-03 | Ethyl Corporation | Amine oxide process |
US4889954A (en) | 1988-06-30 | 1989-12-26 | Ethyl Corporation | Amine oxide process |
US4942260A (en) | 1988-08-29 | 1990-07-17 | Ethyl Corporation | Amine oxide process with CO2 and aluminum |
-
1989
- 1989-08-10 CA CA 608014 patent/CA1329217C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-24 EP EP89115650A patent/EP0356918A1/en not_active Withdrawn
- 1989-08-28 JP JP1218742A patent/JP2793281B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2793281B2 (ja) | 1998-09-03 |
EP0356918A1 (en) | 1990-03-07 |
CA1329217C (en) | 1994-05-03 |
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