JPH0213075Y2 - - Google Patents

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JPH0213075Y2
JPH0213075Y2 JP1984150074U JP15007484U JPH0213075Y2 JP H0213075 Y2 JPH0213075 Y2 JP H0213075Y2 JP 1984150074 U JP1984150074 U JP 1984150074U JP 15007484 U JP15007484 U JP 15007484U JP H0213075 Y2 JPH0213075 Y2 JP H0213075Y2
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fluid
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side wall
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  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野) この考案は反応塔、吸収塔、蒸留塔、冷却塔等
の中に充填された流体接触物上に、接触流体を自
然落下により分散散布する流体分散装置に関する
ものである。 (従来の技術) 従来の流体分散装置としては、第5図に示すよ
うに複数本の枝管21の底辺部に多数の散布孔を
穿設したパイプ式の分散装置22、あるいは第6
図に示すように円板23に多数の孔24を穿設し
た多孔板式の分散装置25が広く用いられてい
る。 (考案が解決しようとする問題点) ところが上記のパイプ式のものでは、各散布孔
位置における流体ヘツドにより流量が決るため、
枝管21の先端部寄りの散布孔から流下する流量
は少なくなりやすく、流体を加圧して供給しない
限り均一散布は困難であつた。また上記の多孔板
式のものでは孔24が上昇するガス流の通気孔を
兼ねているのであまり小径の孔とすることができ
ないうえに、平板面に孔が穿設されているので、
各孔ごとおよび各孔の周縁上の位置によつて流下
流量が均一でなく局所内に片寄りを生じ、均一散
布は困難であつた。 また特開昭59−127601号公報には、トラフ状の
主流路の下側に、オリフイスを経て主流路に通じ
る2次流路を取付け、この2次流路に流体流出用
の多数の流出路を設けた液体分配器が開示されて
いるが、この分配器は構造が複雑で製造コストが
かさむという問題点を有する。 この考案は上記従来の問題点を解決するもの
で、自然落下により均一散布ができる構造が簡潔
な流体分散装置を提供しようとするものである。 (問題点を解決するための手段) しかしてこの考案の流体分散装置は、平面形状
が円弧状の複数個の流体流路と、平面形状が直線
状の複数個の流体流路を水平方向に相互に連続さ
せて上向きに開口する環状の流路集合体を形成さ
せ、上記各流体流路の両側壁のうち少なくとも一
方の側壁に沿つて連続して延びる溢流堰を設け、
上記溢流堰の上端縁と上記側壁との間に形成され
該側壁に沿つて連続して延びる溢流流路に、上記
側壁に沿つて多数の流体落下孔を穿設したことを
特徴とする流体分散装置である。 この考案における溢流堰、溢流流路および流体
落下孔は、流体流路の両側壁に沿つてそれぞれ設
けるのが均一散布上一層好ましいが、一方の側壁
に沿つて設けてもよい。 この考案の流体分散装置は金属その他の各種材
料で構成することができるが、就中セラミツクス
により構成すると製作が容易で耐食性にも富むた
め特に好ましい。 (作用) この考案の流体分散装置においては、流路集合
体の任意の位置の流体流路に、好ましくは別体よ
りなる流体供給管により流体を供給すると、連続
した各流路流路全体に流体が充満し、次いで各流
体流路中の流体が溢流堰をオーバーフローして溢
流流路に流れ込む。このオーバーフロー流量は流
路集合体の各位置においてほぼ均一であるので、
オーバーフローした流体は溢流流路の各流体落下
孔からほぼ均一な流量で落下し、均一散布が達成
される。 (実施例) 以下第1図および第2図によりこの考案の一実
施例を説明する。 図中、1は流路集合体で、平面形状が四分円弧
状に湾曲した4個の流体流路2と、平面形状が直
線状の4個の流体流路3を水平方向に相互に連続
させて成る。流体流路2および3は、第2図に示
すように上部が開口した略コ字状の同一断面形状
を有し、両側壁4に沿つて段状の溢流堰5を設け
てあり、溢流堰5の上端縁6と側壁4との間には
該上端縁6と面一(同一高さ)の溢流流路7が形
成されている。この溢流流路7には、第1図に示
すように側壁4に沿つて多数個の流体落下孔8が
穿設してある。9は流路集合体1の外周に突設し
た取付片で、反応塔等の使用位置へセツトするた
めのものである。上記構成の分散装置10は磁器
製で、流し込み法による一体成形法により成形後
焼成したものである。 上記分散装置10への流体の供給は、別体の流
体供給管11により流体流路3の中央接続部に流
下させておこなう。供給された流体は前記の作用
の項で述べた通り各流体流路3および2の溢流堰
5をオーバーフローして、溢流流路7の流体落下
孔8から均一散布される。 次に上記構成の分散装置10を用いた実験結果
を第1表に示す。実験に用いた分散装置の流路集
合体1の外径は400mm、流体流路2および3の上
部内巾は52mm、下部内巾は28mm、溢流堰5の高さ
は10mm、流体落下孔8の直径は9mmで個数は64個
である。この分散装置10を、内径500mmの流体
接触塔の上部に取付け、該流体接触塔中に層厚が
600mmとなるように磁器質のラシヒリングを充填
し、流体接触塔の下部よりNH31000ppmを含む
空気を流入させ、分散装置中央には上部から水を
6000Kg/m2H流下させて気液向流接触をおこなつ
たときの、ラシヒリング充填物のNH3吸収効率
および圧力損失(空気)を測定した。また比較例
として第5図のパイプ式の分散装置(枝管内径30
mm、枝管延べ長さ2090mm、散布孔直径8mm×53
個)と、第6図の多孔板式の分散装置(円板直径
450mm、孔直径25mm×65個)についても同条件で
測定をおこなつた。
【表】 上記より、本考案の分散装置は流体分散の均一
性向上により、従来のパイプ式あるいは多孔板式
の分散装置に比べ、充填物の吸収効率が4〜6%
向上していることが判る。 第3図および第4図はこの考案の他の実施例を
示し、溢流流路15を溢流堰5の上端縁6より低
い溝状のもの(第3図)および傾斜面状のもの
(第4図)としたほかは、第1図の実施例と同様
な構成を有し、第1図の実施例と同様な作用効果
を有するとともに、各流体落下孔8にかかる流体
のヘツドがより均一化されるため、分散の均一性
は一層向上する。 (考案の効果) 以上説明したようにこの考案によれば、加圧装
置を必要としない簡潔な構造の装置により自然落
下による流体の均一散布をおこなうことができ
る。特に溢流堰および溢流流路は側壁に沿つて連
続して延びているため流体流路の断面形状が一定
化され、さらに流体落下孔は溢流流路に穿設する
だけでよいので、分散装置全体の形状が簡潔で、
セラミツク材料を用いた成形により容易に経済的
に製造できる。実用上有用な流体分散装置が得ら
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例を示す流体分散装
置の平面図、第2図は第1図のA−A線断面図、
第3図および第4図はこの考案の他の実施例を示
す第2図相当図、第5図および第6図は従来の流
体分散装置の例を示す斜視図である。 1……流路集合体、2……流体流路、3……流
体流路、4……側壁、5……溢流堰、6……上端
縁、7……溢流流路、8……流体落下孔、10…
…分散装置、15……溢流流路。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 1 平面形状が円弧状の複数個の流体流路と、平
    面形状が直線状の複数個の流体流路を水平方向
    に相互に連続させて上向きに開口する環状の流
    路集合体を形成させ、上記各流体流路の両側壁
    のうち少なくとも一方の側壁に沿つて連続して
    延びる溢流堰を設け、上記溢流堰の上端縁と上
    記側壁との間に形成され該側壁に沿つて連続し
    て延びる溢流流路に、上記側壁に沿つて多数の
    流体落下孔を穿設したことを特徴とする流体分
    散装置。 2 溢流流路が溢流堰の上端縁と面一である実用
    新案登録請求の範囲第1項記載の流体分散装
    置。 3 溢流流路が溢流堰の上端縁より下方に設けら
    れている実用新案登録請求の範囲第1項記載の
    流体分散装置。
JP1984150074U 1984-10-03 1984-10-03 Expired JPH0213075Y2 (ja)

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JP1984150074U JPH0213075Y2 (ja) 1984-10-03 1984-10-03

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JPS6164335U JPS6164335U (ja) 1986-05-01
JPH0213075Y2 true JPH0213075Y2 (ja) 1990-04-11

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ID=30708231

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59127601A (ja) * 1983-01-04 1984-07-23 ゲブリユ−ダ−・ズルツア−・アクチエンゲゼルシヤフト 物質移動塔及び熱交換塔のための液体分配器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59127601A (ja) * 1983-01-04 1984-07-23 ゲブリユ−ダ−・ズルツア−・アクチエンゲゼルシヤフト 物質移動塔及び熱交換塔のための液体分配器

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JPS6164335U (ja) 1986-05-01

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