JPH02123597A - Nonvolatile memory - Google Patents

Nonvolatile memory

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JPH02123597A
JPH02123597A JP63278836A JP27883688A JPH02123597A JP H02123597 A JPH02123597 A JP H02123597A JP 63278836 A JP63278836 A JP 63278836A JP 27883688 A JP27883688 A JP 27883688A JP H02123597 A JPH02123597 A JP H02123597A
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writing
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Kazuyuki Nishizawa
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Abstract

PURPOSE:To stabilize writing and easing, to eliminate unnecessary stress to be applied to a memory cell, and to give a longer life to the memory cell by always sampling the characteristic of an EEPROM to change whenever the writing and erasing is executed and variably setting writing and erasing voltage according to the characteristic. CONSTITUTION:The maximum sampling voltage and the minimum sampling voltage from a sampling voltage selecting circuit 11 are compared with voltage for reading out the first memory cell array 1 from a comparing and selecting circuit 10 in a comparator circuit 9. At this time, when the minimum sampling voltage is smaller, a correcting signal 19 is not outputted to a writing and erasing voltage selecting circuit 4, and when both the maximum sampling voltage and the minimum sampling voltage are larger, the signal 19 is outputted. After that, a selecting signal is sent from the circuit 4 to a writing and erasing voltage switching circuit 7 based on this correcting signal 19, and the optimum voltage is selected out of plural types of writing voltage given by a high voltage generating circuit 8 in the circuit 7. Thus, from the next writing, the writing voltage to match the capability of the actual memory cell can always be supplied.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は不揮発性メモリに関し、特に電気的に書込み消
去可能な不揮発性メモリに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to non-volatile memories, and more particularly to electrically writable and erasable non-volatile memories.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、電気的に書込み消去可能な不揮発性メモリ(以下
、EEPROM(エレクトリカル・イレーザブル・プロ
グラマブル・リード・オンリー・メモリ〕と称す)にお
いて、書込み消去電圧はメモリセルの各種特性が選択さ
れている。すなわち、書込み消去の繰り返しによるメモ
リセルの劣化特性(Endurance特性)、高温保
管によるデータの消失、わき出し特性(Re t e 
n tion特性)、書込み消去可能な最小電圧および
書込み消去電圧−時間といった書込み消去特性などから
、前記メモリセルの能力を評価し、統計的データ処理に
より前記メモリセルの書込み消去に対して最適且つ保証
可能な電圧を選択(例えば25V)し設定している。
Conventionally, in electrically programmable and erasable non-volatile memories (hereinafter referred to as EEPROMs (Electrically Erasable Programmable Read-Only Memories)), the program and erase voltages are selected based on various characteristics of the memory cells. , deterioration characteristics of memory cells due to repeated programming and erasing (Endurance characteristics), data loss due to high temperature storage, and leakage characteristics (Rete
The ability of the memory cell is evaluated from the write/erase characteristics such as the minimum voltage that can be written and erased, and the write/erase voltage vs. time, and the optimum and guaranteed write/erase of the memory cell is determined by statistical data processing. A possible voltage (for example, 25V) is selected and set.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上述した従来のEEPROMにおいて、設定された書込
み消去電圧は保証可能である規格に対し、最適な値であ
るはずであるが、実際にはメモリセルの特性のばらつき
があるので、必ずしも最適とは言えなくなる。
In the conventional EEPROM described above, the set write/erase voltage is supposed to be the optimum value for the guaranteed standard, but in reality, it is not necessarily the optimum value because of variations in memory cell characteristics. It disappears.

すなわち、従来のEEPROMは繰り返し書込み消去を
行なっている内にメモリセルの特性が変化し、初めに設
定した書込み消去時間では書込み消去を行えなくなる可
能性があるという欠点がある。また、従来のEEPRO
Mは書込み消去電圧が固定されているので、繰り返し行
われる書込み消去により、メモリセルが劣化したときに
も初期状態と同じストレスがメモリセルに加わるので、
メモリセルの寿命を早めるという欠点がある。
That is, the conventional EEPROM has a drawback that the characteristics of the memory cell change during repeated programming and erasing, and there is a possibility that programming and erasing cannot be performed within the initially set programming and erasing time. In addition, conventional EEPRO
Since the write/erase voltage of M is fixed, even when the memory cell deteriorates due to repeated writing/erasing, the same stress as in the initial state is applied to the memory cell.
It has the disadvantage of shortening the lifespan of memory cells.

本発明の目的は、かかる安定した書込み消去および長寿
命化させることのできる不揮発性メモリ(EEPROM
)を提供することにある。
The object of the present invention is to provide a non-volatile memory (EEPROM) capable of stable writing/erasing and a long service life.
).

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明のE E F ROMは、電気的に書込み消去可
能な不揮発性メモリにおいて、メモリセルと、前記メモ
リセルに電荷が注入されているとき及び注入されていな
いときにそのメモリセルのしきい値電圧を検出する手段
と、検出されたしきい値電圧から書込み消去電圧を決定
する手段とを有し、前記メモリセル特性に基づいて書込
み消去電圧を変えるように構成される。
The EEF ROM of the present invention is an electrically programmable and erasable nonvolatile memory that includes a memory cell and a threshold value of the memory cell when charge is injected into the memory cell and when charge is not injected into the memory cell. The memory cell includes means for detecting a voltage, and means for determining a write/erase voltage from the detected threshold voltage, and is configured to change the write/erase voltage based on the memory cell characteristics.

〔実施例〕 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
[Example] Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の第一の実施例を示すEEPR。FIG. 1 is an EEPR showing a first embodiment of the present invention.

0Mのブロック図である。It is a block diagram of 0M.

第1図に示すように、本実施例のEEPROMはデータ
を記憶する第一のメモリセルアレイ1と、このメモリセ
ルアレイ1にアクセスするためのアドレスを外部から受
信し展開する列デコーダ2および行デコーダ3と、書込
み消去要求等に基づき書込み消去電圧を選択する書込み
消去電圧選択回路4と、前記第一のメモリセルアレイ1
よりも小容量の第二のメモリセルアレイらと、書込み要
求15および消去要求16の論理をとるORゲート6と
、書込み消去電圧切換回路7および高電圧発生回路8と
、比較回路9および比較値選択回路10と、サンプリン
グ電圧選択回路11.読比し電圧発生回路12およびサ
ンプリング回路13と、第一のメモリセルアレイ1に対
する書込み消制御回路14とで構成されている。
As shown in FIG. 1, the EEPROM of this embodiment includes a first memory cell array 1 that stores data, a column decoder 2 and a row decoder 3 that receive and develop addresses for accessing the memory cell array 1 from the outside. , a write/erase voltage selection circuit 4 that selects a write/erase voltage based on a write/erase request, etc., and the first memory cell array 1
, an OR gate 6 that takes the logic of the write request 15 and the erase request 16, a write/erase voltage switching circuit 7, a high voltage generation circuit 8, a comparison circuit 9, and a comparison value selection circuit. circuit 10 and sampling voltage selection circuit 11. It is comprised of a reading ratio voltage generation circuit 12, a sampling circuit 13, and a write/erase control circuit 14 for the first memory cell array 1.

次に、かかるEEPROMの各回路の機能を説明する。Next, the functions of each circuit of this EEPROM will be explained.

まず、書込み消去制御回路14は書込み消去要求に基づ
き書込み要求15あるいは消去要求16が発行されると
、列デコーダ2および行デコーダ3で示されるアドレス
に対し、書込み消去電圧選択回路4で選択された書込み
消去用電圧を印加する。この書込み消去電圧選択回路4
は、書込み時には比較回路9からの補正信号19に基づ
き、その補正信号19に対応する書込み消去選択信号1
8を書込み消去電圧切換回路7送出し、そこで選ばれた
書込み電圧17を書込み消去制御回路14に供給する。
First, when a write request 15 or an erase request 16 is issued based on a write/erase request, the write/erase control circuit 14 selects a voltage selected by the write/erase voltage selection circuit 4 for the address indicated by the column decoder 2 and row decoder 3. Apply write/erase voltage. This write/erase voltage selection circuit 4
is a write/erase selection signal 1 corresponding to the correction signal 19 based on the correction signal 19 from the comparator circuit 9 during writing.
8 is sent to the write/erase voltage switching circuit 7, and the selected write voltage 17 is supplied to the write/erase control circuit 14.

また、サンプリング回路13は、書込み要求15が発行
された時に、第二のメモリセルアレイ5の各メモリセル
におけりON電流を検出し、これを電圧に変換する。読
出し電圧発生回路12は、書込み要求15が発行された
時、第二のメモリセルアレイ5に対してメモリセルをO
Nさせるための電圧(読比し電圧)を供給する。一方、
サンプリング電圧選択回路11はサンプリング回路13
からのサンプリング電圧から任意のものを選択すると共
に、読比し電圧発生回路12に対し、サンプリング回路
13からのサンプリング電圧を検知したことを示す検出
信号20を送出する。また、比較回路9はサンプリング
電圧選択回路11から選択されたサンプリング電圧と比
較値選択回路10からの基準電圧とを比較し、書込み消
去電圧選択回路4に補正信号19を出力する。上述した
基準値を記憶している比較値選択回路10はメモリセル
の緒特性から得られたメモリセルのしきい値および書込
み電圧に対する消去電圧の補正値が格納されており、比
較回路9とのデータのやりとりを行なう回路である。更
に、書込み消去電圧切換回路7は書込み消去電圧選択回
路4からの書込み消去電圧選択信号18から任意の書込
み消去電圧17を選択する回路であり、この切換回路7
に接続された高電圧発生回路8は複数の書込み消去用電
圧を発生する回路である。
Furthermore, when the write request 15 is issued, the sampling circuit 13 detects the ON current in each memory cell of the second memory cell array 5 and converts it into a voltage. The read voltage generation circuit 12 outputs memory cells to the second memory cell array 5 when the write request 15 is issued.
A voltage (reading ratio voltage) is supplied to make the voltage N. on the other hand,
The sampling voltage selection circuit 11 is the sampling circuit 13
An arbitrary one is selected from the sampling voltages from the sampling circuit 13, and a detection signal 20 indicating that the sampling voltage from the sampling circuit 13 has been detected is sent to the reading ratio voltage generation circuit 12. Further, the comparison circuit 9 compares the sampling voltage selected from the sampling voltage selection circuit 11 and the reference voltage from the comparison value selection circuit 10 and outputs a correction signal 19 to the write/erase voltage selection circuit 4. The comparison value selection circuit 10, which stores the above-mentioned reference value, stores the threshold value of the memory cell obtained from the initial characteristics of the memory cell and the correction value of the erase voltage for the write voltage. This is a circuit that exchanges data. Furthermore, the write/erase voltage switching circuit 7 is a circuit that selects an arbitrary write/erase voltage 17 from the write/erase voltage selection signal 18 from the write/erase voltage selection circuit 4;
A high voltage generating circuit 8 connected to is a circuit that generates a plurality of write/erase voltages.

以上、各構成回路の機能および動作について説明したが
、以下に本実施例の全体的な回路動作を第1図および第
2図を用い−て説明する。
The functions and operations of each component circuit have been explained above, and the overall circuit operation of this embodiment will be explained below with reference to FIGS. 1 and 2.

第2図は第1図に示すメモリ各部の信号波形図である。FIG. 2 is a signal waveform diagram of each part of the memory shown in FIG. 1.

今、EEPRO’Mにおいて書込み状態というのはメモ
リセルに対して電荷が注入されている状態であり、消去
状態というのはメモリセルに電荷が注入されていない状
態であると定義する。
In EEPRO'M, a written state is defined as a state in which charges are injected into a memory cell, and an erased state is defined as a state in which charges are not injected into a memory cell.

第1図および第2図に示すように、メモリセルアレイ1
のメモリセルに対して書込み要求15が発行されると、
書込み信号22に同期し、書込み消去電圧切換回路7か
らの書込み消去電圧17により書込みが行なわれる。こ
のときの書込み消去電圧17はメモリセルの初期特性で
決定される。
As shown in FIGS. 1 and 2, a memory cell array 1
When write request 15 is issued to the memory cell of
Writing is performed using the write/erase voltage 17 from the write/erase voltage switching circuit 7 in synchronization with the write signal 22 . The write/erase voltage 17 at this time is determined by the initial characteristics of the memory cell.

この書込み動作の時に、第一のメモリセルアレイ1の他
に第二のメモリセルアレイ5にも同時に書込まれる。し
かる後、書込み信号22が立下ると、書込み要求15内
で発行されるΦに同期し、第二のメモリセルアレイ5に
対して読出し電圧発生回路12からメモリセルをONさ
せることが可能である最小電圧が印加される。このメモ
リセルをONさせることが可能な最小電圧は、メモリセ
ルの緒特性から決定されるものであり、理想的なメモリ
セルではしきい値電圧プラスαである。各メモリセルが
ONした時に流れる電流を各ビット毎にサンプリング回
路13でサンプリングし、電圧に変換する。この時、サ
ンプリング電圧選択回路11は各メモリセルの中で1ビ
ツトのみONした時および全ビットがONLな時に、読
出し電圧発生回路12に対して検出信号20を出力する
During this write operation, data is written into the second memory cell array 5 as well as the first memory cell array 1 at the same time. Thereafter, when the write signal 22 falls, in synchronization with Φ issued in the write request 15, the read voltage generation circuit 12 can turn on the memory cells of the second memory cell array 5. A voltage is applied. The minimum voltage that can turn on this memory cell is determined from the initial characteristics of the memory cell, and in an ideal memory cell is the threshold voltage plus α. The current flowing when each memory cell is turned on is sampled for each bit by a sampling circuit 13 and converted into a voltage. At this time, the sampling voltage selection circuit 11 outputs a detection signal 20 to the read voltage generation circuit 12 when only one bit in each memory cell is turned ON or when all bits are ONL.

この検出信号20により読出し電圧発生回路12は読出
し電圧を可変する。また、前記サンプリング電圧選択回
路11は各メモリセルのサンプリング電圧から最大値お
よび最小値のものを選択し、比較回路9に送出する。従
って、比較回路9はサンプリング電圧選択回路11から
の最大、最小のサンプリング電圧と比較値選択回路10
からの第一のメモリセルアレイ1を読み出すための電圧
(以下VTMとする)とを比較し、最小のサンプリング
電圧が小さければ書込み消去電圧選択回路4に対して補
正信号19を出さず、最大、最小のサンプリング電圧と
もに大きければ補正信号19を出す。ここで、補正信号
1つは第一のメモリセルアレイ1を読み出すための電圧
VTMと最大。
Based on this detection signal 20, the read voltage generating circuit 12 varies the read voltage. Further, the sampling voltage selection circuit 11 selects the maximum value and the minimum value from the sampling voltages of each memory cell, and sends them to the comparison circuit 9. Therefore, the comparison circuit 9 uses the maximum and minimum sampling voltages from the sampling voltage selection circuit 11 and the comparison value selection circuit 10.
If the minimum sampling voltage is small, the correction signal 19 is not output to the write/erase voltage selection circuit 4, and the maximum, minimum sampling voltage is If both sampling voltages are large, a correction signal 19 is output. Here, one correction signal is the maximum voltage VTM for reading the first memory cell array 1.

最小のサンプリング電圧との差で異なる。このVTMと
の差が小さければ書込み電圧を上げるような補正信号1
9を出し、逆にVTMとの差が大きければ下げるような
補正信号19を出す。この最大、最小のサンプリング電
圧間の差はよほどのばらつきがない限り小さいので考慮
しなくても問題はない。この補正信号1つを基に書込み
消去電圧選択回路4は書込み消去電圧切換回路7に対し
て、その補正した書込み電圧を選択するための信号を送
る。これにより、書込み消去電圧切換回路7は高電圧発
生回路8から与えられる複数の書込み電圧の中から一つ
を選択する。このようにすることにより、次の書込みか
らは常に実際のメモリセルの実力にあった書込み電圧が
供給される。
It differs depending on the difference from the minimum sampling voltage. Correction signal 1 that increases the write voltage if the difference with this VTM is small
9 is output, and conversely, if the difference with VTM is large, a correction signal 19 is output that lowers the difference. The difference between the maximum and minimum sampling voltages is small unless there is considerable variation, so there is no problem even if it is not taken into consideration. Based on this one correction signal, the write/erase voltage selection circuit 4 sends a signal to the write/erase voltage switching circuit 7 for selecting the corrected write voltage. Thereby, the write/erase voltage switching circuit 7 selects one of the plurality of write voltages applied from the high voltage generation circuit 8. By doing this, from the next write onwards, a write voltage that matches the actual capacity of the memory cell is always supplied.

尚、これは書込み時のみ行なわれ、消去時には行なわれ
ない。すなわち、メモリのしきい値の変動は書込み状態
のいずれかをチエツクすることにより、他方の変動は推
測可能である。従って、消去時には比較回路9において
、比較値選択回路10から消去時における補正を加えて
やり、実際の消去電圧を高電圧発生回路8からの複数の
消去電圧から選択してやる。
Note that this is performed only during writing and not during erasing. That is, by checking one of the write states, it is possible to estimate the fluctuation of the memory threshold value by checking the other writing state. Therefore, at the time of erasing, the comparator circuit 9 applies correction during erasing from the comparison value selection circuit 10, and selects the actual erasing voltage from a plurality of erasing voltages from the high voltage generating circuit 8.

本実施例において、書込み電圧の精度を上げるためには
、サンプリングする第二のメモリセルアレイ5を増やし
てやれば良いことがわかる。
In this embodiment, it can be seen that in order to improve the accuracy of the write voltage, it is sufficient to increase the number of second memory cell arrays 5 to be sampled.

第3図は本発明の第二の実施例を示す不揮発性メモリの
ブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram of a nonvolatile memory showing a second embodiment of the present invention.

第3図に示すように、本実施例は前述した第一の実施例
と基本的に同じ動作をするが、第一のメモリセルアレイ
1の全アドレスあるいは特定のアドレスに対するメモリ
セルをサンプリングするため列デコーダ2および行デコ
ーダ3に対しても制御信号が必要になる。すなわち、本
実施例ではメモリセルのしきい値電圧検出専用のメモリ
セルを持つ必要がない上、サンプリング数を任意に可変
することができるという利点がある。
As shown in FIG. 3, this embodiment basically operates in the same way as the first embodiment described above, but in order to sample memory cells corresponding to all addresses or a specific address in the first memory cell array 1, Control signals are also required for decoder 2 and row decoder 3. That is, this embodiment has the advantage that it is not necessary to have a memory cell dedicated to detecting the threshold voltage of the memory cell, and the number of samplings can be arbitrarily varied.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明のEEPROMは書込み消
去されるごとに変化するメモリセルの特性を常にサンプ
リングし、その特性に合わせて書込み消去電圧を設定(
可変)することができるので、メモリセルの特性が変化
しても、安定して書込み消去を行えるという効果がある
。また、本発明は不要なストレスがメモリセルに対して
加わらないようにしているので、メモリセルを長寿命化
させることができるという効果がある。
As explained above, the EEPROM of the present invention constantly samples the characteristics of the memory cell that change each time it is written or erased, and sets the write/erase voltage according to the characteristics (
This has the advantage that even if the characteristics of the memory cell change, writing and erasing can be performed stably. Further, since the present invention prevents unnecessary stress from being applied to the memory cells, it has the effect of extending the life of the memory cells.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第一の実施例を示す不揮発性メモリの
ブロック図、第2図は第1図に示すメモリ各部の信号波
形図、第3図は本発明の第二の実施例を示す不揮発性メ
モリのブロック図である。 1.5・・・メモリセルアレイ、2・・・列デコーダ、
3・・・行デコーダ、4・・・書込み消去電圧選択回路
、7・・・書込み消去電圧切換回路、8・・・高電圧発
生回路、9・・・比較回路、10・・・比較値選択回路
、11・・・サンプリング電圧選択回路、12・・・読
出し電圧発生回路、13・・・サンプリング回路、14
・・・書込み消去制御回路、15・・・書込み要求、1
6・・・消去要求、17・・・書込み消去電圧、18・
・・書込み消去電圧選択信号、19・・・補正信号、2
0・・・検出信号、21・・・読み出し電圧。
FIG. 1 is a block diagram of a nonvolatile memory showing a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a signal waveform diagram of each part of the memory shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a block diagram of a nonvolatile memory showing a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a block diagram of a nonvolatile memory shown in FIG. 1.5...Memory cell array, 2...Column decoder,
3... Row decoder, 4... Write/erase voltage selection circuit, 7... Write/erase voltage switching circuit, 8... High voltage generation circuit, 9... Comparison circuit, 10... Comparison value selection Circuit, 11... Sampling voltage selection circuit, 12... Read voltage generation circuit, 13... Sampling circuit, 14
...Write/erase control circuit, 15...Write request, 1
6... Erase request, 17... Write/erase voltage, 18.
...Write/erase voltage selection signal, 19...Correction signal, 2
0...Detection signal, 21...Read voltage.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 電気的に書込み消去可能な不揮発性メモリにおいて、メ
モリセルと、前記メモリセルに電荷が注入されていると
き及び注入されていないときにそのメモリセルのしきい
値電圧を検出する手段と、検出されたしきい値電圧から
書込み消去電圧を決定する手段とを有し、前記メモリセ
ル特性に基づいて書込み消去電圧を変えることを特徴と
する不揮発性メモリ。
In an electrically programmable and erasable non-volatile memory, a memory cell, means for detecting a threshold voltage of the memory cell when charge is injected into the memory cell and when charge is not injected into the memory cell; and means for determining a write/erase voltage from a threshold voltage determined by the memory cell, the nonvolatile memory being characterized in that the write/erase voltage is changed based on the memory cell characteristics.
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