JPH02118916A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JPH02118916A
JPH02118916A JP27133188A JP27133188A JPH02118916A JP H02118916 A JPH02118916 A JP H02118916A JP 27133188 A JP27133188 A JP 27133188A JP 27133188 A JP27133188 A JP 27133188A JP H02118916 A JPH02118916 A JP H02118916A
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JP
Japan
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recording medium
film
magnetic
magnetic recording
layer
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Application number
JP27133188A
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Japanese (ja)
Inventor
Tomoji Morita
森田 知二
Kayoko Kurosai
黒宰 加代子
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To decrease the frictional force and attraction force with a magnetic head and to improve durability by constituting the magnetic recording medium to be used for a magnetic disk device of a magnetic recording medium layer which is formed on a base, a protective layer which covers the recording medium layer and consists of silicon oxycarbide and a lubricating film which covers the protective layer. CONSTITUTION:An Ni-P or Ni-Cu-P layer is formed by plating on a substrate 1 consisting of an Al-Mg alloy to constitute an underlying layer 2. The surface is ground by a lapping tape to form the substrate having about 500Angstrom Rmax. of the substrate 1 and the underlying layer 2. The film of the magnetic recording medium 3 is then formed by a sputtering method, etc., thereon and the surface thereof is coated with a surface protective film 4 consisting of the silicon oxycarbide. The film 4 is formed to 500Angstrom thickness and further, the fluorine lubricating agent is applied thereon at need while the concn. thereof is adjusted to 1wt.%. The magnetic disk which obviates the generation of the degradation in the reproduced output against use for, for example, >=20,000 times of rotations, is obtd. in such a manner.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

[産業上の利用分野] この発明は、例えは磁気ディスク装置に使用される磁気
ディスク等の磁気記録媒体に関するものである。 [従来の技術] 近年、コンピュータシステムにおけろ磁気ディスク装置
なとの外部記憶装置の重要性が増大し、高記録密度に対
する要求がまずまず高まっている。 磁気ディスク装置は記録再生ヘットおよび磁気ディスク
の主構成部から構成され、磁気ディスクは高速で回転し
記録再生ヘッドすなわち、磁気ヘットは磁気ディスクよ
り微小間隔浮上している。磁気ディスクの高記録密度化
、高性能化を図るためには、 磁気記録媒体の、1層化
、 均−一様化、 磁気特性の改良(1足磁力、角形比
の向上)、磁気ヘットの低l・/上止なとが挙げられる
。 これまで磁気ディスクは塗布形といい、バインダーなど
の高分子材料とγ−Fe203磁気記録媒体粒子を混合
して塗布して製作していた。この方法では、磁気記録媒
体の薄層化、均−一様化に限Wがある。このため農近で
は、磁気記録媒体をスパッタリングなとの方法により連
続薄膜として基を1上に設けるようになってきた。γ−
Fc201連続薄膜媒体を用いた磁気ディスクの構成の
一例を第8図に示す。第8図は例えば電電公社研究実用
化報告第31巻第9号の1731〜1744頁に報告さ
れた薄膜@、気ディスクの断面を示す図である。図にお
いて、(+)はディスク状のアルミニウム合金基板、(
2)はアルマイトから成る磁気記録媒体層の下地層、(
3)は磁気記録媒体層のγ−Fe203薄膜てある。 現在、@、気ディスク装置では、起動および停止時に磁
気ディスクと磁気ヘッドが接触するコンタクト・スター
ト・ストップ(C3S)方式を採用しており、起動およ
び停と時には磁気ヘットと磁気ディスク表面が接触した
まま回転する。この接触摩擦状態における磁気ヘッドと
磁気ディスクの間に生じる摩擦力は、磁気ヘッドと磁気
ディスク表面を摩耗させ、ついには磁気ヘットおよび磁
気記録媒体膜に(Uを作ることがある。磁気記録媒体に
連続薄膜を用いた場合、わずかな1瑳てあっても記録媒
体の欠如となり、記録信号の消失につながる。このこと
は、磁気ディスク装置の外部記憶装置としての1a頼性
に関わる重大な問題である。 このため、磁気ディスクの表面に、磁気ヘッドと磁気記
録媒体との接触摩擦および接触破壊から磁気記録媒体を
保護するために、5102膜、カーボン膜、Al2O3
膜のような保護膜を設けることが考案されている(例え
ば、田子章男ら、第8回日本応用磁気学会学術講演概要
集(+984)、222頁;木町良弘ら、昭和61年度
電子通信学会総合全国大会予稿集(1986)、l−1
66頁; 刈本博保ら、日本潤滑学会第30明春間研究
発表会予稿集(1986)、目1頁などに発表されてい
る。)、、また、磁気記録媒体が金属の場合、この保護
膜は金属膜の腐食を防ぐ保護も兼ねる役目がある。 一方、磁気ヘッドの低浮丘化も進められている。 低浮上量における安定したヘッドlソ上状態を確保し、
FIL ’Xヘッドと磁気ディスクの衝突(ヘッドクラ
ンシュ)を防止するためのディスク表面精度の向上、耐
ヘッドクラッシュ性の向上が検討されている。特にディ
スク表面精度の向上は著しく、従来のディスクのRma
xは 2000Å以上あったのが、現在ではRmaxが
100人前後と1桁以上小さくなっている。このように
ディスクの表面精度が年々向上するので、磁気ヘッドが
磁気ディスク表面に吸4し、磁気ディスクが回転を始め
ても磁気ヘッドが浮上できず磁気ヘットなどが破損する
問題が起きてきた(例えは、E 、M、Rossift
!!、  ジャーナル・オブ・アプライド・フィジック
ス(J、  Appl−P hys、)55巻、6号、
2254i)。このため、−1鏡面のように仕上げられ
た基板表面に微粉末を塗布する、再度研暦あるいはエツ
チングして微小な突起を表面に設けるといった手法が考
えられている(例えは、特開昭59−117735.6
0−38720.60−40528.61−29418
、G1−203259.61−261820号公報参照
)。 [発明が解決しようとする課題] 保護膜として酸化膜を設ける例に簡便な方法として、溶
液から成膜することが知られている。ゾルゲル法などの
ように溶)夜からSiO2膜、Al2O3膜などを成膜
する場合熱処理を行うが、@気記録媒体の特性を変質さ
せない程度の熱処理(約400℃以下)では、十分ガラ
ス化せず、通常のセラミックに比べて硬度、強度などが
かなり劣る(柳沢雅弘、日本a滑学会創立30周年記念
全国大会予稿集(1985)、45頁)。例えば、金属
アルコキシドからガラスを合成する場合、金属アルコキ
シドを加水分解させたゲルをガラス化させるのに必要な
熱処理温度は600〜1000℃であり、溶融法による
シリカガラスと同一の性質を示すのは900〜1000
℃の熱処理をした場合であると言われている(作花済夫
「ガラス非晶質の科学」、内田老鶴1ii!(+983
)、l・17〜16・1頁)。このため、溶γtlから
作成した酸化膜ては硬度、強度共に十分ではなかった。 この点ては、スパッタリングなどによって成膜されろ酸
化膜やカーボン膜は、上記ゾルゲル膜に比べて強度的に
は優れたものができる(例えは、本町良弘ら、昭和61
年度電子通信学会総合全国大会子稿集(1986)、l
−166頁)。しかし、現在のように表面に微小な突起
を設けである基材においては、多くの学会発表例にみら
れるような 5iO2tlW、A、I2O3膜、カーボ
ン膜なとの1^護膜ては機械的強度が不十分であるとい
う欠点があった。すなわち、微小な突起の上を磁気ヘッ
ドが接触するため、突起部に相当する保護膜部が脆いた
めに折れて削り取られてしまう。また、磁気記録媒体に
まで損1kが及ばなくとも、表面の微小な突起が消失す
るために磁気ヘッドが吸着して、磁気ヘットが浮上でき
なくなるという問題点が生じた。 この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので磁気ヘッドによる磁気記録媒体への損傷を防ぎ
、1呆護膜の了り離を防lトシて、磁気ヘッドの磁気記
録媒体に対する吸4を防止し、信頼性の高い磁気記録媒
体を得ることを目的とする。 [5厘を解決するための手段] この発明に係る磁気記録媒体は、磁気記録媒体層を覆い
保護する保護膜をシリコンの酸化炭化物(S l Ox
c 2−<)で形成したものである。 [作用] この発明の磁気記録媒体におけろ磁気記録媒体層表面の
保護膜はシリコンの酸化炭化物(Sin。 C2,、、)膜からなり、その耐久性が従来の酸化物膜
やカーボン膜に比べ格段に強化され、磁気記録媒体の信
頼性が向−トする。 [実施例] 以下、この発明の一実施例を(4について説明する。 第1[Jはこの発明の一実施例の磁気ディスクを示す断
面図で、オにおいて(I)はA I −Mg合金基板、
(2)は磁気記録媒体層のT:地層で、この実施例では
J&材はA I−IJg合金基板(1)とFIth、層
(2)から構成される。(3)は磁気記録媒体層、(z
l)はシリコンの酸化炭化物(以後酸化炭化ケイ素と記
す) (S lOtC2−0)膜からなる促;f膜であ
る。 次にこの実施例の磁気ディスクの製造方法の一例につい
て説明する。まず、磁気記録媒体層(3)成膜までを而
単に説明する。 A I −Mg合金基板(+)の表面に下1轡層(2)
としてN1−PあるいはN1−CIJ−Pメツキ膜を成
膜し鏡面加工しである基材に対して、デーブ研m機を用
い、ラッピングテープW A # 6000、押し圧1
 kg、基板回転数20Orpm、テープ送り速度20
mm/minの条件でテクスチャ加工を行った。これに
よりRmax500人程度の基材が得られる。この基材
−ヒに磁気記録媒体をスパッタリングにより成膜した。 次に、酸化炭化ケイ素の表面保護膜(4)形n1方法お
よびその賛造装置の一例について図を用いて説明する。 第2[4は上記入面保護膜(1)を形成するために用い
るイオンビーム蒸着装置の概要を示す構成図である。 図において(5)はクラスターイオンビーム発生源であ
一つ1.;(気発’L源(51)、イオン1ヒf段(5
2)、イオンビーム加速TS[り(53)などをイ情え
ている。]−記;、 ’xt Q生源(51)は、ルッ
7に(51a)、このルッiIて(51a)に収容され
た酸(ヒケイ若(Sin)もしくはチタン(T1)等の
蒸青物’tl (5l b )等を有している・(1;
) !iガスイオンビーム発’−L lfQであり、例
えば−酸化炭7:(Co)、二酸化炭+(CO2)等酸
素元素と炭素元素を含むガスなどの反応性ガスを噴Q4
するガス噴り・1ノズル(61)、この噴1]ノズル(
61)から噴射した反応性ガスを励起、解離およびイオ
ン化するイオン化手段(62)、このイオン化丁段(6
2)によって生成したガスイオンをディスク基板(10
)の方向に加速ずろイオンビーム加速電極(63)、お
よびガスイオン源(6)の内部をその周りの空間よりも
高いガス圧
[Industrial Field of Application] The present invention relates to a magnetic recording medium such as a magnetic disk used, for example, in a magnetic disk device. [Prior Art] In recent years, the importance of external storage devices such as magnetic disk devices in computer systems has increased, and the demand for high recording densities has increased considerably. A magnetic disk device is composed of a main component of a recording/reproducing head and a magnetic disk. The magnetic disk rotates at high speed, and the recording/reproducing head, that is, the magnetic head floats a minute distance above the magnetic disk. In order to increase the recording density and performance of magnetic disks, it is necessary to make the magnetic recording medium single-layered and uniform, improve the magnetic properties (improve the magnetic force and squareness ratio), and improve the magnetic head. Examples include low l/high. Up until now, magnetic disks have been manufactured by coating a mixture of a polymeric material such as a binder and γ-Fe203 magnetic recording medium particles. In this method, there is a limit W in making the magnetic recording medium thinner and more uniform. For this reason, agricultural companies have begun to form a continuous thin film on a magnetic recording medium by a method such as sputtering. γ-
An example of the configuration of a magnetic disk using an Fc201 continuous thin film medium is shown in FIG. FIG. 8 is a diagram showing a cross section of a thin film @ air disk reported in, for example, the Telephone and Telecommunications Public Corporation Research and Practical Application Report, Vol. 31, No. 9, pages 1731 to 1744. In the figure, (+) is a disk-shaped aluminum alloy substrate, (
2) is the underlayer of the magnetic recording medium layer made of alumite, (
3) is the γ-Fe203 thin film of the magnetic recording medium layer. Currently, @Ki disk drives use the contact start/stop (C3S) method in which the magnetic disk and magnetic head come into contact when starting and stopping; Rotate as it is. The frictional force generated between the magnetic head and the magnetic disk in this contact friction state wears out the surface of the magnetic head and the magnetic disk, and may eventually create a (U) on the magnetic head and magnetic recording medium film. When a continuous thin film is used, even a slight drop in the recording medium results in the loss of the recorded signal.This is a serious problem concerning the reliability of 1a as an external storage device for magnetic disk drives. Therefore, in order to protect the magnetic recording medium from contact friction and contact damage between the magnetic head and the magnetic recording medium, a 5102 film, a carbon film, and an Al2O3 film are coated on the surface of the magnetic disk.
It has been proposed to provide a protective film such as a film (for example, Akio Tago et al., 8th Japanese Society of Applied Magnetics, Abstracts of Academic Lectures (+984), p. 222; Yoshihiro Kimachi et al., 1985 IEICE) Proceedings of the General National Conference (1986), l-1
Page 66; Published in Hiroyasu Karimoto et al., Proceedings of the 30th Meishun Research Conference of the Japanese Society of Lubrication (1986), page 1. ), When the magnetic recording medium is metal, this protective film also serves as a protection to prevent corrosion of the metal film. On the other hand, efforts are being made to reduce the floating height of magnetic heads. Ensures stable head position at low flying height,
In order to prevent collisions (head crushes) between the FIL'X head and the magnetic disk, improvements in disk surface precision and improvements in head crush resistance are being considered. In particular, the improvement in disk surface precision is remarkable, and the Rma of conventional disks is
x used to be over 2000 Å, but now Rmax is around 100, which is more than an order of magnitude smaller. As the surface precision of disks improves year by year, problems have arisen in which the magnetic head is attracted to the surface of the magnetic disk, and even when the magnetic disk begins to rotate, the magnetic head cannot fly, causing damage to the magnetic head. , E. , M. Rossift
! ! , Journal of Applied Physics (J, Appl-Phys,) Volume 55, No. 6,
2254i). For this reason, methods have been considered such as applying fine powder to the surface of a substrate that has been finished like a -1 mirror surface, or re-polishing or etching it to form minute protrusions on the surface. -117735.6
0-38720.60-40528.61-29418
, see G1-203259.61-261820). [Problems to be Solved by the Invention] Forming a film from a solution is known as a simple method for providing an oxide film as a protective film. Heat treatment is performed when forming SiO2 films, Al2O3 films, etc. using the sol-gel method, etc., but heat treatment at a temperature below about 400°C that does not change the characteristics of the recording medium will not sufficiently vitrify it. However, it is considerably inferior in hardness and strength compared to ordinary ceramics (Masahiro Yanagisawa, Proceedings of the National Conference Commemorating the 30th Anniversary of the Founding of the Japanese Academy of Aging (1985), p. 45). For example, when synthesizing glass from metal alkoxide, the heat treatment temperature required to vitrify the gel obtained by hydrolyzing the metal alkoxide is 600 to 1000°C, and silica glass produced by the melting method exhibits the same properties as silica glass. 900-1000
It is said that this is the case when heat treatment is carried out to
), l.17-16.1). For this reason, the oxide film made from molten γtl was insufficient in both hardness and strength. In this regard, oxide films and carbon films formed by sputtering etc. can have superior strength compared to the above-mentioned sol-gel films (for example, Yoshihiro Honmachi et al.
Proceedings of the Annual National Conference of the Institute of Electronics and Communication Engineers (1986), l
-166 pages). However, in today's substrates that have minute protrusions on their surfaces, mechanical protective films such as 5iO2tlW, A, I2O3 films, and carbon films, as seen in many academic conference presentations, are difficult to use. It had the disadvantage of insufficient strength. That is, since the magnetic head comes into contact with the top of the minute protrusion, the protective film corresponding to the protrusion is fragile and is likely to break and be scraped off. Further, even if the loss 1k does not extend to the magnetic recording medium, a problem arises in that the minute protrusions on the surface disappear and the magnetic head is attracted to it, making it impossible for the magnetic head to fly. This invention was made to solve the above-mentioned problems, and it prevents damage to the magnetic recording medium caused by the magnetic head, prevents the separation of the protective film, and improves the magnetic recording medium of the magnetic head. The object of the present invention is to obtain a highly reliable magnetic recording medium. [Means for Solving Problems 5] In the magnetic recording medium according to the present invention, a protective film that covers and protects the magnetic recording medium layer is made of silicon oxide carbide (S l Ox
c 2-<). [Function] In the magnetic recording medium of the present invention, the protective film on the surface of the magnetic recording medium layer is made of a silicon oxide carbide (Sin.C2,...) film, and its durability is superior to that of conventional oxide films and carbon films. The magnetic recording medium is much stronger than the previous one, and the reliability of the magnetic recording medium is improved. [Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to (4). substrate,
(2) is the T layer of the magnetic recording medium layer, and in this example, the J& material is composed of the AI-IJg alloy substrate (1) and the FIth layer (2). (3) is the magnetic recording medium layer, (z
1) is a film made of silicon oxide carbide (hereinafter referred to as silicon oxide carbide) (S1OtC2-0) film. Next, an example of a method for manufacturing the magnetic disk of this embodiment will be explained. First, the process up to the formation of the magnetic recording medium layer (3) will be simply explained. A lower layer (2) on the surface of the A I -Mg alloy substrate (+)
Using a Dave grinder, lapping tape W A # 6000, pressing force 1 was applied to a base material that had been coated with N1-P or N1-CIJ-P plating film and had a mirror finish.
kg, substrate rotation speed 20Orpm, tape feed speed 20
Texture processing was performed under the conditions of mm/min. As a result, a base material having an Rmax of about 500 people can be obtained. A magnetic recording medium was formed on this base material by sputtering. Next, an example of the silicon oxide carbide surface protective film (4) type n1 method and its preparation device will be described with reference to the drawings. No. 2 [4] is a configuration diagram showing an outline of an ion beam evaporation apparatus used to form the above-mentioned surface protective film (1). In the figure, (5) is a cluster ion beam generation source.1. ;(Qi 'L source (51), ion 1H f stage (5
2), ion beam acceleration TS [ri (53), etc.]. ]-note;, 'xt Q source (51) is the acid (sin) or vaporized material such as titanium (T1) stored in (51a) in Rut 7 (51a). (5l b ) etc. (1;
)! i gas ion beam is emitted by -L lfQ, and a reactive gas such as a gas containing oxygen and carbon elements such as -carbon oxide 7: (Co), carbon dioxide + (CO2), etc. is injected Q4.
Gas jet 1 nozzle (61), this jet 1] nozzle (
ionization means (62) for exciting, dissociating and ionizing the reactive gas injected from the ionization stage (61);
The gas ions generated by 2) are transferred to the disk substrate (10
) in the direction of the ion beam accelerating electrode (63) and the gas ion source (6) at a higher gas pressure than the surrounding space.

【こ1呆つシールド板(64)などを備えて
いる。また、h記イオ゛ン化下段(62)は電子ビー1
、引出し・電極(62a)と電子ビーム放出フィラメン
ト(62b)を何している。 そして」二記りラスターイオンビーム発4tE源(5)
、ガスイオンビーム発生源(6)およびディスク基板(
10)は、図示しない所定のへ突崩に保[νされた真′
や槽内に納められている。 改に1−記のように構成されたイオンビーム3査装置に
より、酸化炭化ケイλ(SiOうc2〜X)からなる入
面保護膜を形成する場合について説明する。 図示されていない真空排気系によって真空槽内を 1.
OX !0−3Torr以丁の真空度になるまで排気し
た後、反応性ガスとしての一酸1ヒ炭にガスをガス噴q
(ノズル(61)より導入し、電子ビーム放出フィラメ
ン) (62a)からガス噴射ノズル(61)の下流に
配置されている電子ビーム引出し電g!(グリッド)(
62b)に電子を放出して、−酸化炭素(Co)ガスを
[剪起、解離およびイオン化して非常に活性化された状
態とする。イオン化手段(62)とイオンビーム加速手
段(63)の間にバイアス電圧を印加して、イオンを引
出しざらに加速して、励起および解離しt2−酸化炭素
(Co)ガスと共に、ディスク基板(IQ)に照り1す
る一方、ルツボ(51a)に充填された蒸着物質である
一酸化ケイ素(S io )(51b)を、R気発生源
(5I)内に設けられたフィラメントにより加熱し、蒸
気およびクラスターとして噴出させる。 この蒸気およびクラスターは、イオン化手段(52)で
一部イオン化された後、イオンビーム加速手段(53)
によって加速され、イオン化されていない中性の蒸気お
よびクラスターとともにディスク基板(10)(こ運は
れ、ディスク基板(10)近傍に存在する励起、解離お
よびイオン化した一酸化炭素ガスと化学反応を起こして
、ディスク基板(10)上に酸化炭化ケイ素(S lO
A: J薄膜からなる1デ護膜(11)が形成される。 次に実施例をあげて5体的に説明する。 実施例l Al−Mg合金基板の表面に下地層としてN1−Cu−
Pメツキ膜を成膜した基材に磁気記録媒体層としてr−
Fe203膜を成膜した。この磁気記録媒体層りに 保
護膜としてl−記方法により酸化炭化ケイ″je膜(こ
の場合はS i 0,2C1l Q)を設けた。酸化炭
化ケイ素膜の膜厚は500人にした。 さらにこの膜」−に、フッ素系潤滑剤(この場合はKR
YOTO¥:157Fs/M  DuPont社製商品
名)を濃度1wt%、回転数200rpmで回転塗布し
て潤滑膜を形成、磁気ディスクを形成した。 実施例2 AI−Mg合金基板の表面に下1t!!層としてN+C
u−Pメツキ膜を成膜した基材に磁気記録媒体層として
Co −N i −Cr膜を成膜した。この磁気記録媒
体層上に保護膜として上記方法により酸化炭化ケイ素膜
(この場合はS i Ol、2C11g)を設けた。酸
化炭化ケイ素膜の膜厚は500人にした。 この膜上に、アミノシラン(シランカップリング剤: 
 NH2CIhCH2NHCrH60Si(OCthh
)の0.1wt、%溶7αを回転数20Orpmで回転
塗布し、さらに、フッ素系潤滑剤KRYTOX 157
FS/Mを実施例1と同様の条件で塗布して潤滑膜を形
成、磁気ディスクを形成した。 比較例 Al−Mg合金基板の表面に下地層としてN1−Cu−
Pメツキ膜を成膜した基材に磁気記録媒体層としてγ−
Fe2O3膜を成膜した。この磁気記録媒体層上に 保
護膜としてS i O2膜をスバンタにより成膜した。 スパッタ条(牛はRFパワー300W/8イノf5  
アルゴン圧力’;3 mTorr−CSる。S + 0
2の膜厚は500人にした。この膜−トここ)7茗系潤
滑剤’I) KRYOTOX157FS/Mを実!i’
ei例1と同様の条件で塗イ6して潤滑膜を形成、磁気
ディスクを形成した。 これらの比較例を含めた磁気ディスクの期間特性を以下
ζこ示ず。 実施例1の磁気ディスクの表面■さを触針式表面粗さ計
で測定した結果を第3図の特性図ミこ示した。実施例2
、比較例1とも同様の特性を示したので、それらの特性
図は省略する。[4において縦軸はディスクの表面用さ
を、横軸は1(さを表わしている。ディスクの表面には
微小な凹凸が認められた。 実h2例1.2の磁気ディスクと比較例の磁気ディスク
の表面に、3370杉フエライトヘツドを接触ざ住静摩
樫係数を測定した。実施例1の磁気ディスクではO、t
9−  実施例2の@気ディスクでは0.20、比較例
の磁気ディスクでは0.20てあった。すべて良好な特
性を示した。 ここで、磁気ディスクのff1J久試験であるcssス
験を行った。3370形のヘットで、スライダ材料がサ
ファイアであるヘットを使用した。第4図はCS S試
験を行った結果を示す特性図で、縦軸は2刀1j)l再
生出力を1とした規格化再生出力を、横軸はC9S回f
i(X 10”)を表わしている。図中○印を結ぶ線は
この発明の実施例1.2のディスクの特性曲線、X印を
拮ふ線は比較例のディスクの特性曲線を示している。 この発明の実施例1.2のディスクの場合には、CS 
S 20000回においても再生出力のfl(下は認め
られなかった。これに対し、比較例では当初11f生出
力の低下は認められないものの、CS S 8000回
前後から次第に再生出方が低下し始め、 20000回
では紐間の50%になった。 c s s 5ooo回を行った磁気ディスクの表面粗
さを一針弐表面粗さ計で測定した。’X5図はC5S5
000回後の実施例Iの磁気ディスクの表面mざの1「
す定結果を示す特性図、第61>1は同実施例2の磁気
ディスクの表面粗さの測定結果を示す特性図、第7図は
同比較例の磁気ディスクの表面粗さの測定結果を示す特
性図である。図中の(11)は磁気ヘッドがコンタクト
・スタート・ストップにより磁気ディスクに接触した領
域を表す。周辺の粗さとの比較から実施例1.2の磁気
ディスクでは初期の表面粗さを1呆っていることが分か
る。これに対して、比較例の磁気ディスクでは微小突起
部に相当するJ分が削り取られていることが分かる。 また、このCS 55000回を行った磁気ディスク表
面にヘットを接触させDo”C185%の状態で8時間
放置し、静摩擦係数を測定した。実施例1の磁気ディス
クでは0.22、実施例2の磁気ディスクでは0.24
、比較例1の磁気ディスクでは0.9を越えており吸着
現象が認められた。 1” T −[Rによりi!!II定したC S S面
後における実施例1.2の潤滑剤膜厚を比較i)たとこ
ろ、潤滑剤の残:r7率が実施例1が92%、実施例2
が100%であった。シランカップリング剤があった方
が潤滑剤の保持に効果があると考えられる。シランカッ
プリング剤があった方が潤滑剤の残存率が良好になる効
果がある。ただし、ない場合においても上記のようにC
8S試験に対して悪影響は認められなかった。 」−2のようにして得られたこの発明の実施例による磁
気記録媒体は、加速制譚されたイオンを含t″薄膜形成
法によるため酸化炭化ケイ素の表面保護膜の付着強度が
従来のスパッタリングによる成膜に比べて大きいと考え
られる。また、炭素yr、WKか含まれるため耐摩耗性
が大きいはかりでなく、酸素(X)と炭素(2−x)の
組成比を変えることで硬度が自由に変えることかでさる
という利点も備わっているので、磁気ヘットの硬度に応
じた表面保護膜を設けることができ耐ヘッドクラッシュ
性にも優れろ。さらζこ低温プロセスで容易に形成でき
るため、安faに製造でき、品質も安定している。 lv2苓(x )と炭素(2−x)の組成比は、例えは
クラスタイオンビーム法の場合、ガス圧、流量等を調節
ずろことにより変えられる。 なお酸化炭化ケイ素(S ioアC2−=)の膜厚は1
00Å以下では均一な膜にはなっておらず、1000Å
以上でとi磁気ヘッドと磁気ディスクの磁気記録媒体層
までの距離が広がりFiG生出力出力丁するという悪影
響が出てくる。このため、酸化炭化ケイ付膜の膜厚は1
00〜1000人が適している。成膜のしやすさ、均一
性、II¥生出力出力は300〜800人が¥ましい。 また、基材の表面■ざはRmax100Å以下では吸容
が必ず発生し、1000人以上では突起が浮り中の磁気
ヘットに衝突するなと磁気ヘッドの浮上特性に3影響を
4えるため好ましくない。静摩擦力を再現性よく小さく
安定させるためには、Rmax400〜800人が望ま
しい。 なお、上記実施例ではS】00凌発、5g、とじてクラ
スクーイオンビーム蒸着装置を用いたが、これは真空蒸
着装置、イオンブレーティング′装置、スパッタリング
装置等を用いてもよいし、よたガスイオンビーム装置は
用いず、L2蒸4装置を一酸化炭玄(CO)雰囲気て屯
独に用いてもよい。 またCVD装置にシラン(SiHa)、−酸化炭1(C
o)、酸素ガス等を導入して酸化炭化ケイ糞(S + 
Ox C2−1)を形成してもよい。 L記実施例では磁気記録媒体層がγ−Fe・○。 の場合について説明したが、池のCrO2のような金属
酸化物媒体であってもよく、旧記実もs例と同様の効果
を奏する。また、磁気記録媒体層がC。 Ni−Crの場合について説明したが、他のC。 −Ni、  co−Cr、  F eなとの合金媒体、
金属媒体であってもよくL記実施例と同様の効果を奏す
る。 さらに、−上記実施例では下地層がN1−Pメツキ膜、
N1−Cu−Pメツキ膜の場合について説明したが、他
のアルマイト膜なとてあってもよく、上記実施例と同様
の効果を奏する。ざらに、この磁気記録媒体下地層を設
けず、上記と同様の製法によって酸化炭化ケイ素膜(S
 I OXC2−2)の1呆護膜を形成してもよく、上
記実施例と同様の効果を秦する。 さらにまた、上記実施例ではフッ素系潤滑剤としてにR
YTOX157FS/Mを用いた場合について説明した
が・ 例えばFombl in、デ1、ナムなとのf也
の、閃滑剤てあってもよく、上記実施例と同様の効果を
奏する。 」−2実施例ではシランカップリング剤としてアミノシ
ランを用いた場合について説明したが、例えはエポキシ
基やヒドロキシ基などをもつ他のシランカップリング剤
であってもよく一上記実施例と同様の効果を奏する。 [発明の効果] 以1のように、この発明によれは磁気記録媒体層を覆い
保護する17護膜をシリコンの酸化炭化物で形成するこ
とにより、磁気記録媒体と磁気ヘッド閏の摩損力、吸着
力が小さく、優れた耐久性を有する信頼性の高い磁気記
録媒体が得られる効果がある。
[It is equipped with a shield plate (64) etc. In addition, the ionization lower stage (62) in h is the electronic bee 1
, what are the extraction electrodes (62a) and the electron beam emitting filament (62b) used for? And 2 raster ion beam 4tE source (5)
, gas ion beam source (6) and disk substrate (
10) is held in a predetermined collapse state (not shown) [νed true'
It is stored in a tank. The case where an entrance surface protective film made of silicon oxide carbide λ (SiOc2 to X) is formed using the ion beam triple scanning device configured as described in 1-1 will be explained. 1. Inside the vacuum chamber by a vacuum evacuation system (not shown).
OX! After evacuating to a vacuum level of 0-3 Torr, inject gas into monoacid and arsenic as a reactive gas.
(Introduced from the nozzle (61), electron beam emitting filament) (62a) The electron beam extractor g! is arranged downstream of the gas injection nozzle (61). (grid)(
62b) to release electrons to [shear, dissociate and ionize -carbon (Co) gas] into a highly activated state. A bias voltage is applied between the ionization means (62) and the ion beam acceleration means (63) to extract and roughly accelerate the ions, which excite and dissociate them together with the t2-carbon oxide (Co) gas onto the disk substrate (IQ). ), silicon monoxide (S io ) (51b), which is a vapor deposition substance filled in the crucible (51a), is heated by a filament installed in the R air generation source (5I) to generate steam and Eject as a cluster. After the vapor and clusters are partially ionized by the ionization means (52), the ion beam acceleration means (53)
Accelerated by the disk substrate (10) together with non-ionized neutral vapor and clusters, this causes a chemical reaction with excited, dissociated and ionized carbon monoxide gas present near the disk substrate (10). Then, silicon oxide carbide (SIO) was deposited on the disk substrate (10).
A: A 1D protective film (11) consisting of a J thin film is formed. Next, the present invention will be explained in detail by giving examples. Example 1 N1-Cu- as a base layer on the surface of an Al-Mg alloy substrate
As a magnetic recording medium layer, r-
A Fe203 film was formed. A silicon oxide carbide film (S i 0,2C1lQ in this case) was provided as a protective film on this magnetic recording medium layer by the method described in I-.The thickness of the silicon oxide carbide film was set to 500. A fluorine-based lubricant (in this case, KR
YOTO¥:157Fs/M (trade name, manufactured by DuPont) was spin-coated at a concentration of 1 wt % and a rotational speed of 200 rpm to form a lubricating film, thereby forming a magnetic disk. Example 2 1t below on the surface of the AI-Mg alloy substrate! ! N+C as a layer
A Co-Ni-Cr film was formed as a magnetic recording medium layer on the base material on which the u-P plating film was formed. A silicon oxide carbide film (S i Ol, 2C11g in this case) was provided on this magnetic recording medium layer as a protective film by the method described above. The thickness of the silicon oxide carbide film was set to 500. On this film, aminosilane (silane coupling agent:
NH2CIhCH2NHCrH60Si(OCthh
) of 0.1 wt% solution 7α was applied by rotation at a rotational speed of 20 rpm, and then fluorine-based lubricant KRYTOX 157 was applied.
FS/M was applied under the same conditions as in Example 1 to form a lubricating film and form a magnetic disk. Comparative Example N1-Cu- as a base layer on the surface of an Al-Mg alloy substrate.
γ- as a magnetic recording medium layer on the base material on which the P plating film was formed
A Fe2O3 film was formed. A SiO2 film was formed as a protective film on this magnetic recording medium layer by Svanta. Sputter strip (for cows RF power 300W/8 Inno f5
Argon pressure: 3 mTorr-CS. S + 0
The film thickness for 2 was set to 500 people. This film - here) 7 Myo-based lubricant 'I) KRYOTOX157FS/M is used! i'
Coating was performed under the same conditions as Example 1 to form a lubricating film and a magnetic disk was formed. The period characteristics of magnetic disks including these comparative examples are not shown below. The surface roughness of the magnetic disk of Example 1 was measured using a stylus type surface roughness meter, and the results are shown in the characteristic diagram of FIG. Example 2
, and Comparative Example 1 showed similar characteristics, so their characteristic diagrams will be omitted. [In 4, the vertical axis represents the surface roughness of the disk, and the horizontal axis represents the hardness of the disk.Minor irregularities were observed on the surface of the disk. A 3370 cedar ferrite head was brought into contact with the surface of the magnetic disk, and the static cedar coefficient was measured.For the magnetic disk of Example 1, O, t
9- It was 0.20 for the magnetic disk of Example 2 and 0.20 for the magnetic disk of Comparative Example. All showed good characteristics. Here, a CSS test, which is an FF1J long-term test for magnetic disks, was conducted. A 3370 type head whose slider material was sapphire was used. Figure 4 is a characteristic diagram showing the results of the CS S test, where the vertical axis is the normalized playback output with the two swords 1j)l playback output as 1, and the horizontal axis is the C9S times f.
i (X 10"). In the figure, the line connecting the ○ marks shows the characteristic curve of the disk of Example 1.2 of the present invention, and the line crossing the X mark shows the characteristic curve of the disk of the comparative example. In the case of the disk of Embodiment 1.2 of this invention, the CS
Even at 20,000 times of CS, the reproduction output fl (lower) was not observed.On the other hand, in the comparative example, although no decrease in the 11f raw output was initially observed, the reproduction output gradually began to decrease from around 8,000 times of CS S. , after 20,000 times, the distance between the strings became 50%.The surface roughness of the magnetic disk after 500 times of css was measured with a one-needle surface roughness meter.'X5 figure is C5S5.
1 of the surface m of the magnetic disk of Example I after 000 cycles
61>1 is a characteristic diagram showing the measurement results of the surface roughness of the magnetic disk of Example 2, and FIG. 7 is the characteristic diagram showing the measurement results of the surface roughness of the magnetic disk of Comparative Example 2. FIG. In the figure, (11) represents the area where the magnetic head contacts the magnetic disk by contact start/stop. A comparison with the roughness of the periphery shows that the magnetic disk of Example 1.2 has an initial surface roughness of 1 level. On the other hand, it can be seen that in the magnetic disk of the comparative example, J portions corresponding to minute protrusions are removed. In addition, a head was brought into contact with the surface of the magnetic disk that had been subjected to CS 55,000 times, and the coefficient of static friction was measured by leaving it for 8 hours in a state of 185% Do'C.The coefficient of static friction was 0.22 for the magnetic disk of Example 1, 0.24 for magnetic disks
In the magnetic disk of Comparative Example 1, it exceeded 0.9, and an adsorption phenomenon was observed. Comparing the lubricant film thickness of Example 1.2 after the C S S surface determined by i!!II by 1" T - [R i), the residual lubricant:r7 ratio was 92% in Example 1. , Example 2
was 100%. It is thought that the presence of a silane coupling agent is more effective in retaining the lubricant. The presence of a silane coupling agent has the effect of improving the lubricant residual rate. However, even if there is no C
No adverse effects were observed on the 8S test. The magnetic recording medium according to the embodiment of the present invention obtained as described in ``-2'' contains accelerated ions and is formed using a t'' thin film formation method, so that the adhesion strength of the silicon oxide carbide surface protective film is higher than that of conventional sputtering. In addition, since it contains carbon yr and WK, it is not a scale that has high wear resistance, but the hardness is increased by changing the composition ratio of oxygen (X) and carbon (2-x). It also has the advantage that it can be changed freely, so it can provide a surface protective film that matches the hardness of the magnetic head, and has excellent head crush resistance.Furthermore, it can be easily formed using a low-temperature process. It can be manufactured cheaply and has stable quality. For example, in the case of cluster ion beam method, the composition ratio of lv2 (x) and carbon (2-x) can be adjusted by adjusting the gas pressure, flow rate, etc. The film thickness of silicon oxide carbide (SioAC2-=) is 1
Below 00 Å, the film is not uniform;
In this case, the distance between the magnetic head and the magnetic recording medium layer of the magnetic disk increases, resulting in an adverse effect of reducing the raw FiG output. Therefore, the thickness of the film with silicon oxide carbide is 1
Suitable for 00-1000 people. Ease of film formation, uniformity, II raw output output is preferably 300 to 800 people. In addition, if the surface roughness of the base material is Rmax 100 Å or less, absorption will definitely occur, and if it is more than 1,000 people, it is not preferable to prevent the protrusions from colliding with the floating magnetic head because it will affect the flying characteristics of the magnetic head. . In order to keep the static frictional force small and stable with good reproducibility, Rmax is preferably 400 to 800 people. In the above embodiments, a Claskku ion beam evaporator was used, but a vacuum evaporator, an ion blating device, a sputtering device, etc. may also be used. Instead of using a gas ion beam device, an L2 evaporation device may be used instead in a carbon monoxide (CO) atmosphere. In addition, silane (SiHa), carbon oxide 1 (C
o), by introducing oxygen gas etc., oxidized silicon carbide manure (S +
Ox C2-1) may be formed. In Example L, the magnetic recording medium layer is made of γ-Fe.○. Although the case described above has been described, a metal oxide medium such as CrO2 may also be used, and the old record has the same effect as the example s. Further, the magnetic recording medium layer is C. Although the case of Ni-Cr has been described, other C. - alloy medium with Ni, co-Cr, Fe,
A metal medium may also be used, and the same effects as in the embodiment L can be obtained. Furthermore, - in the above embodiment, the base layer is an N1-P plating film,
Although the case of the N1-Cu-P plating film has been described, other alumite films may also be used, and the same effects as in the above embodiments can be obtained. In general, a silicon oxide carbide film (S
A protective film of IOXC2-2) may be formed, and the same effect as in the above embodiment can be obtained. Furthermore, in the above embodiment, R is used as the fluorine-based lubricant.
Although the case where YTOX157FS/M is used has been described, for example, a flash lubricant such as Fomblin, De1, Namna, etc. may also be used, and the same effect as in the above embodiment can be obtained. In Example 2, the case where aminosilane was used as the silane coupling agent was explained, but other silane coupling agents having epoxy groups, hydroxyl groups, etc. may also be used. play. [Effects of the Invention] As described in 1 below, according to the present invention, by forming the protective film 17, which covers and protects the magnetic recording medium layer, from silicon oxide carbide, the abrasion force and adsorption between the magnetic recording medium and the magnetic head can be reduced. This has the effect of providing a highly reliable magnetic recording medium with low force and excellent durability.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例のf11気ディスクを示す
断面図、第2図はこの発明に係わる製造装置の一例を示
す構成図、第3図は実施例1の磁気ディスクの表面mさ
計ζこよる表面■さ測定の結果を示す特性図、第4図は
この発明の実施例の磁気ディスクのC5S回数と再生出
力の関係を比較例とともに示す特性図、第5図、第6閏
、第7図はC555000回後の、この発明の実施例の
磁気ディスクと比較例の磁気ディスクの表面粗さ計によ
る表面粗さ測定の結果を示す特性図、第8図は従来の磁
気ディスクを示す断面[?Iである。 (1)・・・Al−Mg合金基板、(2)・・・磁気記
録媒体層の下地層、基材はAl−Mg合金基板(1)と
ド地層(2)て構成されろ。(3)・・・磁気記録媒体
層、(4)・・・シリコンの酸化炭化物からなる1ri
、;f牧である。 なお、図中、同一符号は同一または和尚部分を示す。
FIG. 1 is a sectional view showing an F11 disk according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a configuration diagram showing an example of a manufacturing apparatus according to the invention, and FIG. FIG. 4 is a characteristic diagram showing the results of surface thickness measurement according to the total ζ. FIG. , FIG. 7 is a characteristic diagram showing the results of surface roughness measurement using a surface roughness meter for a magnetic disk according to an embodiment of the present invention and a magnetic disk according to a comparative example after 555,000 cycles, and FIG. The cross section shown [? It is I. (1)...Al-Mg alloy substrate, (2)...Underlayer of the magnetic recording medium layer, the base material is composed of the Al-Mg alloy substrate (1) and the base layer (2). (3)...magnetic recording medium layer, (4)...1ri made of silicon oxide carbide
, ;f Maki. In addition, in the figures, the same reference numerals indicate the same or similar parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  基材、この基材に形成された磁気記録媒体層、この磁
気記録媒体層を覆うシリコンの酸化炭化物(SiO_x
C_2_−_x)からなる保護膜、この保護膜を覆う潤
滑膜を備えた磁気記録媒体。
A base material, a magnetic recording medium layer formed on this base material, and a silicon oxide carbide (SiO_x
A magnetic recording medium comprising a protective film made of C_2_-_x) and a lubricating film covering the protective film.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0624869A2 (en) * 1993-04-13 1994-11-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Magnetic recording medium

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0624869A2 (en) * 1993-04-13 1994-11-17 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Magnetic recording medium
EP0624869A3 (en) * 1993-04-13 1994-12-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Magnetic recording medium

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