JPH02116803A - フレネル・レンズ装置 - Google Patents

フレネル・レンズ装置

Info

Publication number
JPH02116803A
JPH02116803A JP26954888A JP26954888A JPH02116803A JP H02116803 A JPH02116803 A JP H02116803A JP 26954888 A JP26954888 A JP 26954888A JP 26954888 A JP26954888 A JP 26954888A JP H02116803 A JPH02116803 A JP H02116803A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
fresnel lens
pinhole
transparent substrate
shielding mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26954888A
Other languages
English (en)
Inventor
Hayami Hosokawa
速美 細川
Maki Yamashita
山下 牧
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Omron Corp
Original Assignee
Omron Tateisi Electronics Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Omron Tateisi Electronics Co filed Critical Omron Tateisi Electronics Co
Priority to JP26954888A priority Critical patent/JPH02116803A/ja
Publication of JPH02116803A publication Critical patent/JPH02116803A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の要約 透明基板の一方の面にフレネル・レンズを、他方の面に
遮光マスクを設け、遮光マスクの上記フレネル・レンズ
の光軸上の位置にピンホールを形成する。これにより軸
外収差の発生防止、光源への戻り光の削減、実装性の向
上を図ることができる。
発明の背景 この発明はフレネル中レンズ装置に関する。
従来のフレネル・レンズにおいては光源がフレネル・レ
ンズの光軸上からはずれていると軸外収差が発生するの
で、光源の位置をフレネル・レンズの光軸に正確に一致
させて実装する必要がある。このため高精度の実装処理
が要求され、コスト・アップにつながる。また実装後に
おいても光源の軸ずれの許容度、焦点ずれ許容度等が極
めて小さいので温度変化などの耐環境性が悪く、レンズ
の安定性や信頼性に欠けることとなる。
さらに光源への戻り光が存在するとノイズの発生、波長
変動など光源が悪影響を受ける。このためにフレネル・
レンズ等からの戻り光の防止にアイソレータが別に必要
であり、フレネル・レンズを適用する装置の高価格化、
大型化などを誘引する。加えて実装後の装置の調整箇所
も増加する。
発明の概要 発明の目的 この発明は、軸ずれ、焦点ずれ等に起因する問題点、戻
り光に起因する問題点等を解決することを目的とする。
発明の構成および効果 この発明によるフレネル・レンズ装置は、透明基板の一
方の面にフレネル・レンズが、上記透明基板の他方の面
に光の透過を遮ぎる遮光マスクがそれぞれ設けられ、上
記遮光マスクには上記フレネル・レンズの光軸上の位置
にピンホールが形成されていることを特徴とする。
この発明によると上記遮光マスクには透明基板の一方の
面に設けられているフレネル−レンズの光軸上の位置に
ピンホールが形成されているので、ピンホールが十分小
さければ、ピンホールからフレネル・レンズに向う回折
光は、入射光の形態にかかわらず常にピンホールを中心
とする発散球面波となり、ピンホールの位置がフレネル
・レンズに対する光源の位置とみなすことができる。
したがって1発散球而波に対するフレネル・レンズを形
成しておけば、光軸ずれ、焦点ずれの程度はピンホール
の位置によってのみ定まる。したがって、ピンホールと
フレネル・レンズとの位置関係さえ高精度に作製してお
けば、これらは一つの透明基板上に作成されているから
上記位置関係がずれることがなく、実際に光源とフレネ
ル・レンズの光軸とがずれていても軸外収差の発生を防
止することができるとともに、光源とフレネル・レンズ
との間の距離に変動があっても焦点ずれを起こすことが
ない。これにより、このフレネル参レンズ装置を含む光
学装置の組立が容易となり。
歩留りの向上、コストダウンを図ることができるととも
に、耐環境性、信頼性、安定性が向上する。またフレネ
ル・レンズからの戻り光はピンホールを通ったのち9発
散球面波となって光源の方向に向うので光源に戻る光は
ほとんどなく、戻り光が光源に及ぼす悪影響をほとんど
除去することができる。これによりアイソレータが不要
となり5部品点数の削減、信頼性の向」二、小型化、軽
量化、コストダウンを図ることができる。
実施例の説明 第1図はこの発明によるフレネル・レンズ装置の実施例
を示す斜視図である。フレネル・レンズ3が透明基板1
の一方の面に一体成形されている。透明基板1の他方の
面には遮光マスク2が設けられ、この遮光マスク2には
ピンホール4が形成されている。このピンホール4はフ
レネル・レンズ3の光軸(中心軸)上の位置に形成され
、かつピンホール4に光が入射することにより回折が生
じ発散球面波が形成される程度の大きさに設定されてい
る。
第2図は第1図(B)の■−■線にそう断面図であり、
フレネル・レンズ3をコリメータ・レンズとして利用す
るときの例を示している。以下の図面においては、光線
の様子を明確にするためにハツチングが省略されている
レーザ・ダイオード5から出射される発散光は、遮光マ
スク2が設けられた而に照射される。
発散光は遮光マスク2に形成されているピンホール4を
通って基板1内に入射しかつピンホール4によって回折
され2発散球面波となって透明基板1内を伝搬する。回
折光は透明基板1の反対の面に設けられたフレネル・レ
ンズ3によ7てコリメート光P。0とされ出射する。フ
レネル・レンズ3は発散球面波をコリメートするパター
ンをもつように形成されている。
第3図はフレネル・レンズ3を集光レンズとして利用す
る例を示すもので、第1図(B)の■−■線にそう断面
図に対応する。
所定のコリメータ・レンズによってコリメートされたコ
リメート光Pc1は遮光マスク2に照射され、ピンホー
ル4を通って発散球面波となって透明基板1内を伝搬し
た後に、フレネル・レンズ3によって1点に収束される
。フレネル・レンズ3は発散球面波を収束球面波に変換
するパターンに形成されている。
第2図に示すフレネル・レンズ装置のピンホール4にコ
リメート光PCIを入射させても同じようにコリメート
光を得ることができる。この場合にはこのフレネル・レ
ンズ装置はビーム・エキスパンダ(ビーム拡大器)とし
て働く。また第3図に示すフレネルやレンズ装置のピン
ホール4にレーザ・ダイオード5からの拡散光を入射さ
せてち同じように集束光を得ることができる。このよう
に、フレネル拳レンズ装置のピンホール4が一種の点光
源として機能するので、入射光の形態にかかわらず、そ
のフレネル・レンズ装置固有の形態(コリメート光、集
束光等)の出射光ビームを得ることができる。
第4図はこの発明により軸外収差の発生を防止すること
ができる様子を示すものである。
光源としてのレーザ・ダイオード5がフレネル・レンズ
3の光軸からずれて配置されているとする。レーザ・ダ
イオード5の発散光は遮光マスク2のピンホール4を通
って基板1内に入り回折される。ピンホール4の位置を
光源の位置とみなすことができ、フレネル・レンズ3に
よってフレネル・レンズ3の光軸と平行なコリメート光
が形成されかつ出射される。軸外収差はレンズの光軸か
ら光源が外れたときに発生するが、このフレネル・レン
ズ装置によるとピンホール4の位置が常に光源とみなさ
れるので、ピンホール4がフレネル・レンズ3の光軸上
にある限り、軸外収差は発生しない。
またフレネル・レンズ3の焦点位置にピンホール4が正
しく形成される構造とすることにより。
レーザ・ダイオード(光源)とフレネル・レンズ3との
間の距離に変動があっても焦点ずれが起ることもない。
第5図はこの発明によるフレネル・レンズ装置がアイソ
レーション機能(光を一方向にのみ通過させる機能)を
有することを説明するための図である。ピンホール4か
ら基板1内を通ってフレネル・レンズ3に達した光のほ
とんどはコリメート光になって外部に出射されるが、そ
の一部がフレネルφレンズ3によって反射または拡散さ
れ、基板1内を逆方向に伝搬して遮光マスク2に達する
。この反射、拡散光のうち光源としてのレーザ・ダイオ
ード5の方向に出射する光は必ずピンホール4を通る。
この出射光はピンホール4によって回折され発散球面波
となるのでレーザ・ダイオード5の発光部分(厚さ2μ
m程度の活性層)に入射する戻り光はほとんどないとい
ってよい。これにより、アイソレータを用いなくとも。
レーザ・ダイオード5における戻り光によるノイズの発
生、波長変動の発生を防止することができる。このフレ
ネル・レンズ装置を使用する光学装置の部品数が削減さ
れ、調整箇所も減少する。
上述のようなフレネル・レンズ装置は次のやり方によっ
て作製することができる。
透明基板1にアルミニウムその他の光を遮光する物質よ
りなる遮光マスク2を蒸着、リフト・オフ法等により形
成する。遮光マスク2には作製しようとするフレネル・
レンズ3の中心軸上にピンホール4を開けてお(。そし
て適当な型を用いてこの透明基板1上においてたとえば
射出成形法により遮光マスクのピンホール4の位置に光
軸をもつフレネル・レンズ3を形成する。
レンズ3の作製には射出成形法のほかに光学的重合法(
Photo−Polymerization)やイオン
交換法−がありこれらのやり方によって行なうこともて
きる。
第1図(A) 、 (B)はこの発明によるフレネル・
レンズ装置の実施例を示し、(A)は正面側からみた斜
視図、(B)は背面側から見た斜視図である。
第2図から第5図は第1図(B)の■−■線に沿う断面
図に対応するものであり、第2図はフレネル・レンズ装
置をコリメータ・レンズとして利用した例を、第3図は
フレネル・レンズを集光レンズとして利用した例をそれ
ぞれ示し、第4図は軸上収差が防止できる様子を、第5
図は戻り光を無視できる様子をそれぞれ示すものである
1・・・透明基板。
2・・・遮光マスク。
3・・・フレネル・レンズ。
4・・・ピンホール。
以  上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 透明基板の一方の面にフレネル・レンズが、上記透明基
    板の他方の面に光の透過を遮ぎる遮光マスクがそれぞれ
    設けられ、上記遮光マスクには上記フレネル・レンズの
    光軸上の位置にピンホールが形成されていることを特徴
    とするフレネル・レンズ装置。
JP26954888A 1988-10-27 1988-10-27 フレネル・レンズ装置 Pending JPH02116803A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26954888A JPH02116803A (ja) 1988-10-27 1988-10-27 フレネル・レンズ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26954888A JPH02116803A (ja) 1988-10-27 1988-10-27 フレネル・レンズ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02116803A true JPH02116803A (ja) 1990-05-01

Family

ID=17473913

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26954888A Pending JPH02116803A (ja) 1988-10-27 1988-10-27 フレネル・レンズ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02116803A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03125321U (ja) * 1990-03-30 1991-12-18
WO2006058749A1 (de) * 2004-12-01 2006-06-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Pinhole mit einem refraktiven oder diffraktiven optischen element zur ortsfrequenzfilterung von laserstrahlen
JP2020510285A (ja) * 2017-03-07 2020-04-02 シグニファイ ホールディング ビー ヴィSignify Holding B.V. コリメータ及び照明ユニット

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03125321U (ja) * 1990-03-30 1991-12-18
JP2507601Y2 (ja) * 1990-03-30 1996-08-14 並木精密宝石株式会社 光アイソレ―タ
WO2006058749A1 (de) * 2004-12-01 2006-06-08 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Pinhole mit einem refraktiven oder diffraktiven optischen element zur ortsfrequenzfilterung von laserstrahlen
JP2020510285A (ja) * 2017-03-07 2020-04-02 シグニファイ ホールディング ビー ヴィSignify Holding B.V. コリメータ及び照明ユニット
US11067247B2 (en) 2017-03-07 2021-07-20 Signify Holding B.V. Collimator and a lighting unit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5130852A (en) Plate with lens array
JP4221513B2 (ja) 集積型ビーム整形器およびその使用方法
US7213982B2 (en) Optoelectronic module with high coupling efficiency
US5400311A (en) Hologram and optical apparatus with hologram
WO1999052008A1 (en) Beam shaping optics for diverging illumination, such as produced by laser diodes
US5084895A (en) Semiconductor light emitting system
WO2004005977A1 (en) Optical lens component and optical lens arrangement comprising the lens component
US4611883A (en) Two-dimensional optics element for correcting aberrations
US4778984A (en) Apparatus for detecting focus from astigmatism
CN100458370C (zh) 基于微棱镜阵列的光学检测哈特曼波前传感器
CN114127582A (zh) 片上反射镜波束成形
JPH02116803A (ja) フレネル・レンズ装置
US5377177A (en) Optical pickup having first and second reflecting surfaces and hologram
US4720158A (en) Method of and apparatus for making a hologram
EP0277005A3 (en) High energy laser beam replica producing method and system
JP2768154B2 (ja) 光学デバイスとその製造方法
JPS58153388A (ja) 半導体レ−ザ出力光モニタ−方法
JPS6346402A (ja) 非点収差光学装置
JPS5973712A (ja) 平面度測定装置
JPH06130255A (ja) Led用光カプラー及び情報読取り装置
JPH0545543A (ja) 光部品固定方法
US6341043B1 (en) Optical axis conversion lens
JPH02226783A (ja) 半導体レーザと光導波路との結合方法およびその結合方法によって得られる光学デバイス
JPS63199301A (ja) レンズ
JPS592243A (ja) 光学装置