JPH0196910A - Saturable inductor and manufacture thereof and pulse laser exciting power source device using saturable inductor - Google Patents

Saturable inductor and manufacture thereof and pulse laser exciting power source device using saturable inductor

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JPH0196910A
JPH0196910A JP25527787A JP25527787A JPH0196910A JP H0196910 A JPH0196910 A JP H0196910A JP 25527787 A JP25527787 A JP 25527787A JP 25527787 A JP25527787 A JP 25527787A JP H0196910 A JPH0196910 A JP H0196910A
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heat
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實 小原
Katsumi Funakoshi
船越 克己
Hideji Negishi
根岸 秀司
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Abstract

PURPOSE:To improve magnetic characteristics and reduce the cost of a pulse laser exciting power source device, by heat-treating only an amorphous metal in a state the its metal is wound into the form of a coil and after that, by impregnating its metal with synthetic resin acting as an insulating material, thereby forming insulating layers into a spiral form at cavities that are still existent. CONSTITUTION:An amorphous metal 1 is wound into the form of a coil and after treating it with heat, cavities which are formed by winding the above amorphous metal are impregnated with synthetic resin. As the amorphous metal can be treated with heat as a single substance, its heating temperature and time required are set up optionally and the desired magnetic characteristics can be obtained. Moreover, since the belt-shaped amorphous metal 1 which is wound into the form of the coil is impregnated with an insulating material 2, its arrangement improve drastically the strength of saturable inductor. A pulse compression circuit permits a high electric potential conductor plate to be placed at a center and is interposed between two sheets of earth conductor plates 3a and 3b so as to realize stability and low inductance to high voltage. And a magnetic pulse compression device is composed by unifying electrostatic capacity of capacitors C2-C4 and by connecting a plurality of energy oscillation shifting circuits in series and further, by decreasing saturated inductance gradually, thereby using a, saturable inductor as an inductor in the circuit.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は可飽和インダクタに係り、特に、昇圧トランス
の後段に縦続的に接続される形式のものに関する。また
、この可飽和インダクタを用いたパルスレーザ励起電源
装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a saturable inductor, and particularly to one that is connected in series after a step-up transformer. The present invention also relates to a pulsed laser excitation power supply device using this saturable inductor.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

この種のパルスレーザ励起電源装置に用いられる可飽和
インダクタは第7図に示すように、アモルファス金属の
間に絶縁材層を挟挿して巻回して構成されている。
As shown in FIG. 7, the saturable inductor used in this type of pulsed laser excitation power supply device is constructed by winding an insulating material layer sandwiched between amorphous metals.

アモルファス金属を用いるのは優れた磁気特性を得るた
めであるが、所期の磁気特性を得るためにはこれを30
0℃〜500℃程度で加熱処理必要がある。
The purpose of using amorphous metal is to obtain excellent magnetic properties, but in order to obtain the desired magnetic properties, it is necessary to
Heat treatment is required at about 0°C to 500°C.

一方、アモルファス金属を前記した温度にまで加熱する
と、脆性が進行し、極めて脆くなるため、予め加熱処理
した上で巻回することは困難である。
On the other hand, when amorphous metal is heated to the above-mentioned temperature, brittleness progresses and it becomes extremely brittle, so it is difficult to heat-treat it in advance and then wind it.

このため、従来は未処理のアモルファス金属に絶縁材を
重ねて巻回し、しかる後に前記した温度で加熱処理して
製造せざるを得なかった。
For this reason, in the past, it was necessary to manufacture the insulating material by overlapping and winding the untreated amorphous metal and then heat-treating it at the above-mentioned temperature.

このため、前記絶縁材としては耐熱性に優れたものが必
要となり、従来は耐熱性が高いポリイミド(例えば、デ
ュポン・ファーイースト日本文社製、商品名「カプトン
」)を使用して対処している。
For this reason, it is necessary to use an insulating material with excellent heat resistance, and conventionally, polyimide with high heat resistance (for example, DuPont Far East Nihonbunsha, trade name "Kapton") has been used to solve this problem. There is.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかし、ポリイミドは極めて高価であるため、可飽和イ
ンダクタのコストが高くなる問題がある。
However, since polyimide is extremely expensive, there is a problem in that the cost of the saturable inductor increases.

本発明は前記事項に鑑みてなされたもので、耐熱性が低
い安価な絶縁材を用いて構成することができ、コストを
引き下げることができるようにした可飽和インダクタ及
びその製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned matters, and provides a saturable inductor that can be constructed using an inexpensive insulating material with low heat resistance and that can reduce costs, and a method for manufacturing the same. It is in.

また、これとあわせてこの可飽和インダクタを用いたパ
ルスレーザ励起電源装置を提供することを技術的課題と
する。
In addition, it is a technical object of the present invention to provide a pulse laser excitation power supply device using this saturable inductor.

〔問題点を解決するための手段〕 本発明は前記技術的課題を解決するために、可飽和イン
ダクタを以下のような方法で製造した。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above technical problems, the present invention manufactured a saturable inductor by the following method.

即ち、巻き線たる帯状のアモルファス金属を、コイル状
に巻回する。そして加熱処理した後、このアモルファス
金属を巻回したことにより形成された隙間に合成樹脂を
含浸させる。この含浸工程は、ドブ浸、滴下、塗布、吹
き付け、真空含浸等によるものが例示できる。
That is, a band-shaped amorphous metal, which is a winding wire, is wound into a coil shape. After heat treatment, the gap formed by winding the amorphous metal is impregnated with synthetic resin. Examples of this impregnation step include drip immersion, dripping, coating, spraying, and vacuum impregnation.

また、コイル状に巻回したアモルファス金属1を加熱処
理し、このアモルファス金属の巻回により形成された隙
間に合成樹脂2を含浸させて可飽和インダクタを構成し
た。
Further, the amorphous metal 1 wound into a coil was heat-treated, and the gap formed by the winding of the amorphous metal was impregnated with a synthetic resin 2 to form a saturable inductor.

前記アモルファス金属としては組成で例えば、Pe、C
o、B、Si系、Fe、B、Si、C系、Fe 、B、
Si系、Fe 、B、St 、Cr系、Fe、Ni、M
o、B系、Co 、 Fe 、 Ni 、 Mo 。
The composition of the amorphous metal is, for example, Pe, C.
o, B, Si-based, Fe, B, Si, C-based, Fe, B,
Si-based, Fe, B, St, Cr-based, Fe, Ni, M
o, B series, Co, Fe, Ni, Mo.

B、Si系、Go、Fe、Ni 、B、Si系のもの等
が例示できる。
Examples include those based on B, Si, Go, Fe, Ni, B, and Si.

そして、パルスレーザ励起電源装置は、昇圧トランスT
l、この昇圧トランスTIに電源を断続的に接続するた
めのパルススイッチ手段SW、及び前記昇圧トランスの
出力に縦続的に接続され各々可飽和インダクタとエネル
ギ蓄積コンデンサとを有する複数のパルス圧縮回路を具
備し、前記可飽和インダクタは、コイル状に巻回したア
モルファス金属lを加熱処理し、コイル状に巻回したア
モルファス金属に合成樹脂2を含浸させて構成した。
The pulse laser excitation power supply device includes a step-up transformer T
l, a pulse switch means SW for intermittently connecting a power source to the step-up transformer TI, and a plurality of pulse compression circuits connected in series to the output of the step-up transformer and each having a saturable inductor and an energy storage capacitor. The saturable inductor is constructed by heating a coiled amorphous metal l and impregnating the coiled amorphous metal with a synthetic resin 2.

〔作用〕[Effect]

本発明最大の特徴はアモルファス金属のみをコイル状に
巻回した状態で熱処理し、しかる後に、絶縁材たる合成
樹脂を含浸させ、螺旋状に残存した空隙に絶縁層を形成
して可飽和インダクタを構成することにある。
The most important feature of the present invention is that only amorphous metal is wound into a coil and heat treated, then impregnated with synthetic resin as an insulating material, and an insulating layer is formed in the voids remaining in the spiral shape to form a saturable inductor. It consists in composing.

これにより含浸させる合成樹脂には耐熱性が要求される
ことはなく。ポリエステル等の安価なものを使用するこ
とができる。
As a result, the impregnated synthetic resin is not required to have heat resistance. An inexpensive material such as polyester can be used.

また、アモルファス金属は任意の温度で加熱することが
できるため、その磁気特性を最大限に発揮させることが
できる。
Furthermore, since amorphous metal can be heated to any temperature, its magnetic properties can be maximized.

含浸させる合成樹脂は、熱可塑性樹脂として、結晶性、
非品性を問わず、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ1−ブテン、ポリ4−メチ
ル−1−ペンテンあるいはエチレン、プロピレン、1−
ブテン、4−メチル−1−ペンテン等のα−オレフィン
同士のランダムあるいはブロック共重合体等のポリオレ
フィン、エチレン、アクリル酸共重合体、エチレン、酢
酸ビニル共重合体、エチレン、ビニルアルコール共重合
体、エチレン、塩化ビニル共重合体等のエチレン、ビニ
ル化合物共重合体、ポリスチレン、アクリロニトリル、
スチレン共重合体、ABS、メタクリル酸メチル、スチ
レン共重合体、α−メチルスチレン、スチレン共重合体
等のスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、塩化ビニル、塩化ビニリデン共重合体、アクリル
酸エステルとして、ポリアクリル酸メチル、ポリメタク
リル酸メチル等のポリビニル化合物、ナイロン6、ナイ
ロン6−6、ナイロン6〜10、ナイロン11、ナイロ
ン12等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性ポリエステル
、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキサイド等ある
いはそれらの混合物、若しくはシリコン系、ウレタン系
等のいずれの樹脂でもよい。
The synthetic resin to be impregnated is a thermoplastic resin, crystalline,
Low density polyethylene, high density polyethylene, polypropylene, poly 1-butene, poly 4-methyl-1-pentene or ethylene, propylene, 1-
Polyolefins such as random or block copolymers of α-olefins such as butene and 4-methyl-1-pentene, ethylene and acrylic acid copolymers, ethylene and vinyl acetate copolymers, ethylene and vinyl alcohol copolymers, Ethylene, vinyl compound copolymers such as ethylene and vinyl chloride copolymers, polystyrene, acrylonitrile,
Styrene copolymer, ABS, methyl methacrylate, styrene copolymer, α-methylstyrene, styrene resin such as styrene copolymer, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, vinyl chloride, vinylidene chloride copolymer, acrylic acid Examples of esters include polyvinyl compounds such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate, polyamides such as nylon 6, nylon 6-6, nylon 6-10, nylon 11, and nylon 12, polyethylene terephthalate,
Any resin such as thermoplastic polyester such as polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyphenylene oxide, a mixture thereof, silicone type, urethane type, etc. may be used.

また、熱硬化性樹脂としてエポキシまたは尿素系のもの
も使用できる。
Furthermore, epoxy or urea-based thermosetting resins can also be used.

このように、種々の樹脂を使用できるが、可飽和インダ
クタに要求する性能に応じて、誘電率、絶縁抵抗、耐候
性等を勘案して選定するのがよい。
As described above, various resins can be used, but they should be selected depending on the performance required of the saturable inductor, taking into account dielectric constant, insulation resistance, weather resistance, etc.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の実施例を第1図ないし第4図に基づいて説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described based on FIGS. 1 to 4.

巻き線たる帯状のアモルファス金属1を、渦巻きコイル
状に巻回する。そして400℃で2時間、10エルステ
ッド磁場中N、雰囲気中にて熱処理して所期の磁気特性
を得た。ここでの磁気特性とは飽和磁束密度ΔB及びB
−H特性における角型性等を示す。
A band-shaped amorphous metal 1 serving as a winding wire is wound into a spiral coil shape. Then, it was heat-treated at 400° C. for 2 hours in a 10 Oe magnetic field and N atmosphere to obtain the desired magnetic properties. The magnetic properties here are saturation magnetic flux density ΔB and B
- Shows squareness etc. in H characteristics.

このコイル状アモルファス金属lを熔融ポリエステルに
浸漬し、渦巻き状の隙間1aにポリエステルを含浸させ
る。
This coiled amorphous metal 1 is immersed in molten polyester to impregnate the spiral gap 1a with polyester.

このとき、コイルの巻き線間を完全に絶縁するようむら
なく含浸させることが必要である。
At this time, it is necessary to impregnate the coil evenly so that the windings of the coil are completely insulated.

前記絶縁材2は従来のものと異なり耐熱性が要求される
ことはないため、電気的特性と耐候性等が条件に合致す
れば、実施例で使用したポリエステル樹脂の他、あらゆ
る合成樹脂材料を使用することができる。なお、アモル
ファス金属の加熱温度、加熱時間、及び焼鈍時間は必要
な磁気特性が得られようアモルファス金属の種類に応じ
て任意に設定できるのは勿論である。
The insulating material 2 is not required to have heat resistance unlike conventional ones, so any synthetic resin material can be used in addition to the polyester resin used in the example if the electrical properties and weather resistance meet the conditions. can be used. It goes without saying that the heating temperature, heating time, and annealing time of the amorphous metal can be arbitrarily set depending on the type of amorphous metal so as to obtain the necessary magnetic properties.

以上述べたように、アモルファス金属単体を加熱処理で
きるため、その加熱温度や加熱時間は任蚕に設定でき、
−所望の磁気特性を得ることができる。
As mentioned above, since a single amorphous metal can be heat-treated, the heating temperature and heating time can be set as desired.
- Desired magnetic properties can be obtained.

また、帯状のアモルファス金属lを渦巻きコイル状に巻
回したものに絶縁材2を含浸させたため、可飽和インダ
クタの強度も大幅に向上させることができる。このため
、過渡特性の改善が期待できる。
Further, since the strip-shaped amorphous metal l is wound into a spiral coil shape and is impregnated with the insulating material 2, the strength of the saturable inductor can be greatly improved. Therefore, improvement in transient characteristics can be expected.

また、巻き線間の熱的結合を図ることができるため放熱
特性をも向上させることができる。
Furthermore, since thermal coupling between the windings can be achieved, heat dissipation characteristics can also be improved.

第3図は、前記構成になる可飽和インダクタを用いた高
速繰り返しパルスレーザ励起電源装置の電気的構成を示
す。同図の装置は充電電源PS。
FIG. 3 shows the electrical configuration of a high-speed repetitive pulse laser excitation power supply device using the saturable inductor having the above configuration. The device in the figure is a charging power supply PS.

充電電源PSに接続されたSCRのような半導体スイッ
チ素子SW1エネルギ蓄積コンデンサC1、半導体スイ
ッチ素子SWの両端にコンデンサCIを介して1次コイ
ルが接続された昇圧トランスTI、この昇圧トランスT
Iの2次コイルに縦続接続された可飽和インダクタSL
I、SL2.SL3及びコンデンサCI、C2,C3で
構成され、それにマキシマ−レーザのようなレーザ負荷
LDが接続されている。第4図は第3図の装置に使用さ
れているパルス圧縮回路の具体的構成を示す。
A semiconductor switching element SW1 such as an SCR connected to a charging power source PS1, an energy storage capacitor C1, a step-up transformer TI having a primary coil connected to both ends of the semiconductor switch element SW via a capacitor CI, and this step-up transformer T
A saturable inductor SL cascaded to the secondary coil of I
I, SL2. It consists of SL3 and capacitors CI, C2, and C3, and a laser load LD such as a maximer laser is connected to it. FIG. 4 shows a specific configuration of the pulse compression circuit used in the device shown in FIG.

パルス圧縮回路は第4図に示されるように、高電圧に対
する安定性と低インダクタンスを実現するために、高電
位導体板を中央に置き、これを2枚のアース導体板3a
、 3bによりはさみ込む、構造となりている。各コン
デンサCI、C2,C3は例えば夫々残留インダクタン
スの小さいセラミックコンデンサ等を複数個並列接続す
ることにより構成される。
As shown in Fig. 4, the pulse compression circuit places a high potential conductor plate in the center and connects it to two ground conductor plates 3a in order to achieve stability against high voltage and low inductance.
, 3b. Each of the capacitors CI, C2, and C3 is constructed by connecting a plurality of ceramic capacitors each having a small residual inductance in parallel, for example.

なお、昇圧トランスTIの1次コイル側に接続されるエ
ネルギ蓄積コンデンサCtとしては例えばオイルコンデ
ンサ等が使用できる。各可飽和インダクタSLI、SL
2.SL3近辺には冷却ファン5a、 5b、 5cが
夫々設けられているが、冷却手段としては液冷でもよい
。また、各可飽和インダクタSLI、SL2.SL3は
前記した方法により製造したものである。
Note that, for example, an oil capacitor or the like can be used as the energy storage capacitor Ct connected to the primary coil side of the step-up transformer TI. Each saturable inductor SLI, SL
2. Cooling fans 5a, 5b, and 5c are provided near the SL3, but liquid cooling may be used as the cooling means. Moreover, each saturable inductor SLI, SL2 . SL3 was manufactured by the method described above.

前記各可飽和インダクタSLI、SL2.SL3はこの
上うな磁心を各々所望の数だけ使用し、かつ、コイルの
巻き線数を適切に選択することにより飽和時のインダク
タンス5Lsatが例えば順次小さくなるように構成さ
れる。
Each of the saturable inductors SLI, SL2 . The SL3 is constructed so that the inductance 5Lsat at saturation is, for example, gradually reduced by using a desired number of each of these magnetic cores and by appropriately selecting the number of windings of the coil.

以上のようにして構成された高速繰り返しパルスレーザ
励起電源装置の動作を説明する。まず高電圧の充電電源
PSでエネルギ蓄積コンデンサC!をVCI(電圧)に
充電しておき、半導体スイッチSWのゲートを外部から
トリガすることによりこの半導体スイッチSWを導通さ
せる。これにより、コンデンサC1の電荷が昇圧トラン
スTIを介してコンデンサC2へ移乗し、コンデンサC
2の電圧がV C2ff1axに達する。
The operation of the high-speed repetitive pulse laser excitation power supply device configured as described above will be explained. First, use the high-voltage charging power supply PS to store the energy storage capacitor C! is charged to VCI (voltage), and the semiconductor switch SW is made conductive by externally triggering the gate of the semiconductor switch SW. As a result, the charge of capacitor C1 is transferred to capacitor C2 via step-up transformer TI, and capacitor C
2 reaches V C2ff1ax.

ここで、可飽和インダクタSLIはこの間未飽和状態に
あり、高インダクタンスである。コンデンサC2の電荷
はほとんどコンデンサC3へ移乗することはない。一方
、コンデンサC2の電圧がV C2maxに達すると可
飽和インダクタSLIは飽和状態になり、急激に自己イ
ンダクタンスが低下するように設計されている。これに
より、コンデンサC2に蓄積された電荷は、コンデンサ
CIへ戻らず、コンデンサC2、可飽和インダクタSL
1及びコンデンサC3によって構成される回路の時定数
τ1に従ってコンデンサC3へ移乗し、τ1時間経過後
のコンデンサC3の電圧が最大電圧V C3a+axに
達する。この時、時定数τ!は次式で表される。
Here, the saturable inductor SLI is in an unsaturated state during this time and has a high inductance. Almost no charge on the capacitor C2 is transferred to the capacitor C3. On the other hand, when the voltage of the capacitor C2 reaches V C2max, the saturable inductor SLI enters a saturated state and is designed to rapidly reduce its self-inductance. As a result, the charge accumulated in the capacitor C2 does not return to the capacitor CI, and the charge accumulated in the capacitor C2 and the saturable inductor SL
1 and the capacitor C3, and the voltage of the capacitor C3 reaches the maximum voltage V C3a+ax after the lapse of time τ1. At this time, the time constant τ! is expressed by the following formula.

r  l −rr rsLlsatX (C1x C2
)/(C1+ C2)ここで、S L 1satは可飽
和インダクタSLIの飽和インダクタンスである。上式
で表される時定数τlの時間の間、可飽和インダクタS
L2は未飽和状態にあり、コンデンサC2に蓄積された
電荷はコンデンサC4へ流れ込まず、はとんどコンデン
サC3に移乗する。そして、コンデンサC3の電圧がV
 C3maxに達すると、可飽和インダクタSL2が急
激に飽和するが、ここで可飽和インダクタSL2の飽和
インダクタンスを可飽和インダクタSLIのそれより小
さくしておくことにより、コンデンサC3、可飽和イン
ダクタSL2、およびコンデンサC4によって構成され
る回路の時定数τ2に従ってジンデンサC3に蓄積され
たエネルギを有効にコンデンサC4へ移乗させるととも
に、電流パルス幅を圧縮することが可能となる。
r l -rr rsLlsatX (C1x C2
)/(C1+C2) where S L 1sat is the saturation inductance of the saturable inductor SLI. During the time constant τl expressed by the above equation, the saturable inductor S
L2 is in an unsaturated state, and the charge accumulated in capacitor C2 does not flow into capacitor C4, but is mostly transferred to capacitor C3. Then, the voltage of capacitor C3 is V
When C3max is reached, the saturable inductor SL2 suddenly becomes saturated, but by making the saturable inductance of the saturable inductor SL2 smaller than that of the saturable inductor SLI, the capacitor C3, the saturable inductor SL2, and the capacitor It becomes possible to effectively transfer the energy stored in the capacitor C3 to the capacitor C4 according to the time constant τ2 of the circuit constituted by C4, and to compress the current pulse width.

この場合、時定数τ2は次式で表される。In this case, the time constant τ2 is expressed by the following equation.

t 2 = π−r [5L2satX C3x C4
)/ (C3+ C4ここで、S L 2setは可飽
和インダクタSL2の飽和インダクタンスである。
t2 = π-r [5L2satX C3x C4
)/(C3+C4 where S L 2set is the saturation inductance of the saturable inductor SL2.

同様に、コンデンサC3の電荷が完全にコンデンサC4
に移乗するまで可飽和インダクタSL3が未飽和状態を
保ち、エネルギの移乗がおこなわれコンデンサC4の電
圧が最大になった時点で可飽和インダクタSL3が飽和
し、コンデンサc4に蓄積されたエネルギが負荷LDへ
流れ込む。
Similarly, the charge on capacitor C3 is completely reduced to capacitor C4.
The saturable inductor SL3 remains unsaturated until the energy is transferred to the capacitor C4, and the saturable inductor SL3 becomes saturated when the energy transfer occurs and the voltage of the capacitor C4 reaches the maximum, and the energy stored in the capacitor C4 is transferred to the load LD. flows into.

なお、電源装置の出力インピーダンスZ outは、Z
 out = 2−r (S、L3sat/ C4)で
表され、可飽和インダクタSL3の形状を考慮すること
により、その飽和インダクタンス5L3satは数10
nHと小さくすることができるから出力インピーダンス
Z outを1Ω以下にすることが可能である。
Note that the output impedance Z out of the power supply device is Z
out = 2-r (S, L3sat/C4), and by considering the shape of the saturable inductor SL3, its saturation inductance 5L3sat can be expressed as
Since the output impedance Z out can be made as small as nH, it is possible to make the output impedance Z out 1Ω or less.

このように、コンデンサC2,C3,C4,を同一静電
容量とし、エネルギ共振移乗回路を複数個直列に接続し
、回路中のインダクタとして可飽和インダクタを使用し
、かつ可飽和インダクタの飽和インダクタンスを次第に
減少させることにより、磁気パルス圧縮装置を構成する
ことが可能となり、工、ネルギを効率良く伝達させると
ともに、インピーダンスを順次低下させ、かつパルス幅
の圧縮が可能となる。さらにパルス電源の出力インピー
ダンスとエキシマ−レーザの低い放電インピーダンスに
整合させることができる。
In this way, capacitors C2, C3, and C4 have the same capacitance, multiple energy resonance transfer circuits are connected in series, a saturable inductor is used as the inductor in the circuit, and the saturable inductance of the saturable inductor is By gradually decreasing the number of pulses, it is possible to construct a magnetic pulse compression device, which allows efficient transmission of energy and energy, gradually reduces impedance, and compresses the pulse width. Furthermore, the output impedance of the pulsed power source can be matched to the low discharge impedance of the excimer laser.

第5図及び第6図は高速繰り返しパルスレーザ励起電源
装置の他の構成例を示す。第5図に示すものは磁気アシ
スト回路である。パルススイッチとしてサイラトロンS
Wを用いたものであり、サイラトロンSWの寿命を改善
するための保護回路として可飽和インダクタSLを用い
たものである。
FIGS. 5 and 6 show other configuration examples of the high-speed repetitive pulse laser excitation power supply device. What is shown in FIG. 5 is a magnetic assist circuit. Thyratron S as a pulse switch
It uses W, and uses a saturable inductor SL as a protection circuit to improve the life of the thyratron SW.

第6図に示すものは磁気出力スイッチとして可飽和イン
ダクタSLを用いた回路である。
The circuit shown in FIG. 6 uses a saturable inductor SL as a magnetic output switch.

このインピーダンス回路Zとしてはコンデンサ、又はパ
ルス成形回路(パルス成形線路)を用いることができる
As this impedance circuit Z, a capacitor or a pulse shaping circuit (pulse shaping line) can be used.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、アモルファス金属のみをコイル状に巻
回した状態で熱処理し、しかる後に、絶縁材たる合成樹
脂を含浸させ、螺旋状に残存した空隙に絶縁層を形成し
たので、含浸させる合成樹脂には耐熱性が要求されるこ
とはなく、ポリエステル等の安価なものを使用すること
ができる。
According to the present invention, only amorphous metal is heated in a coiled state, and then impregnated with a synthetic resin serving as an insulating material, and an insulating layer is formed in the spirally remaining voids. The resin is not required to have heat resistance, and inexpensive resins such as polyester can be used.

また、アモルファス金属は任意の温度で加熱することが
できるため、その磁気特性を最大限に発揮させることが
できる。
Furthermore, since amorphous metal can be heated to any temperature, its magnetic properties can be maximized.

このため、この可飽和インダクタを用いたパルスレーザ
励起電源装置も低コストで製造することができる。
Therefore, a pulse laser excitation power supply device using this saturable inductor can also be manufactured at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図ないし第6図は本発明の実施例を示し、第1図は
熱処理したアモルファス金属の斜視図、第2図はアモル
ファス金属に合成樹脂を含浸させた状態を示す斜視図、
第3図は可飽和インダクタを用いたパルスレーザ励起電
源装置の回路図、第4図はパルスレーザ励起電源装置に
用いたパルス圧縮回路の内部構造を示す側面図、第5図
及び第6図はパルスレーザ励起電源装置の他の構成例を
示す回路図、第7図は標準的な可飽和インダクタの内部
構造を示す一部切欠した斜視図である。 1・・・アモルファス金属、     2・・・絶縁材
、Tl・・・昇圧トランス、   PS・・・充電電源
、SLI、SL2.SL3・・・可飽和インダクタ、C
I、C2,C3,C4・・・コンデンサ、LL・・・バ
イパスインダクタ、 LD・・・レーザ負荷。 特許出願人     三井石油化学工業株式会社第1図 第2図 第5図 PS 第6図 L S 第7図 手続補正書(自発) 昭和62年12月25日
1 to 6 show examples of the present invention, FIG. 1 is a perspective view of heat-treated amorphous metal, FIG. 2 is a perspective view of amorphous metal impregnated with synthetic resin,
Figure 3 is a circuit diagram of a pulsed laser excitation power supply using a saturable inductor, Figure 4 is a side view showing the internal structure of a pulse compression circuit used in the pulsed laser excitation power supply, and Figures 5 and 6 are FIG. 7 is a circuit diagram showing another configuration example of the pulsed laser excitation power supply device, and is a partially cutaway perspective view showing the internal structure of a standard saturable inductor. 1... Amorphous metal, 2... Insulating material, Tl... Step-up transformer, PS... Charging power supply, SLI, SL2. SL3...Saturable inductor, C
I, C2, C3, C4...Capacitor, LL...Bypass inductor, LD...Laser load. Patent applicant Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Figure 1 Figure 2 Figure 5 PS Figure 6 L S Figure 7 Procedural amendment (voluntary) December 25, 1988

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)加熱処理済みのアモルファス金属製コイルに合成
樹脂を含浸させたことを特徴とする可飽和インダクタ。
(1) A saturable inductor characterized by impregnating a heat-treated amorphous metal coil with synthetic resin.
(2)アモルファス金属をコイル状に巻回し、加熱処理
した後、このアモルファス金属の巻回により形成された
隙間に合成樹脂を含浸させることを特徴とする可飽和イ
ンダクタの製造方法。
(2) A method for producing a saturable inductor, which comprises winding an amorphous metal into a coil, heat-treating it, and then impregnating a synthetic resin into the gap formed by the winding of the amorphous metal.
(3)昇圧トランスと、この昇圧トランスに電源を断続
的に接続するためのパルススイッチ手段と、及び前記昇
圧トランスの出力に直列的に接続された可飽和インダク
タと、並列的に接続されたエネルギ蓄積コンデンサとを
有する複数のパルス圧縮回路を具備し、前記可飽和イン
ダクタは、コイル状に巻回したアモルファス金属を加熱
処理し、この加熱処理済のアモルファス金属製コイルに
合成樹脂を含浸させたことを特徴とするパルスレーザ励
起電源装置。
(3) a step-up transformer; a pulse switch means for intermittently connecting a power source to the step-up transformer; and a saturable inductor connected in series to the output of the step-up transformer; The saturable inductor includes a plurality of pulse compression circuits having a storage capacitor, and the saturable inductor is formed by heat-treating amorphous metal wound into a coil, and impregnating the heat-treated amorphous metal coil with a synthetic resin. A pulsed laser excitation power supply device featuring:
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