JPH0196380A - 保護被膜の形成方法 - Google Patents
保護被膜の形成方法Info
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- JPH0196380A JPH0196380A JP25224187A JP25224187A JPH0196380A JP H0196380 A JPH0196380 A JP H0196380A JP 25224187 A JP25224187 A JP 25224187A JP 25224187 A JP25224187 A JP 25224187A JP H0196380 A JPH0196380 A JP H0196380A
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- Pending
Links
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ、産業上の利用分野
本発明は、化学的に腐食し易い環境下におかれる装置類
の部材上に耐食性合金薄膜をスパッタ法に準拠して被覆
形成する方法に関し、特に被膜の亀裂、剥離を防止する
ようにしたものである。
の部材上に耐食性合金薄膜をスパッタ法に準拠して被覆
形成する方法に関し、特に被膜の亀裂、剥離を防止する
ようにしたものである。
Ｂ１発明の概要
本発明は、部材上に鉄、クロムを組成物とする薄膜をス
パッタ法に準拠して被覆形成する方法において、 スパッタリング用ターゲットの組成を鉄３〜２０ｗｔＸ
、 りｏム２７〜４３Ｗｔ！、 −ＥＩＪブデ７２〜３
０Ｗｔ：、 ニッケル１０〜３０ｗｔ％、リン１〜１０
Ｗｔ：とするコトニより、非晶質構造の薄膜を形成して
部材への密着強度を高めると共に、亀裂を生ずることが
なく部材を腐食から有効に保護する被膜を形成するよう
にしたものである。
パッタ法に準拠して被覆形成する方法において、 スパッタリング用ターゲットの組成を鉄３〜２０ｗｔＸ
、 りｏム２７〜４３Ｗｔ！、 −ＥＩＪブデ７２〜３
０Ｗｔ：、 ニッケル１０〜３０ｗｔ％、リン１〜１０
Ｗｔ：とするコトニより、非晶質構造の薄膜を形成して
部材への密着強度を高めると共に、亀裂を生ずることが
なく部材を腐食から有効に保護する被膜を形成するよう
にしたものである。
Ｃ３従来の技術
酸アルカリ等により化学的に腐食し易い環境下で使用さ
れる装置類、例えば硝酸にさらされる使用済み核燃料再
処理装置や海水にさらされる海水用発電機などにおいて
は、その構成部材に耐食性を必要とする。このため、こ
のような部材には、スパッタ法又は真空蒸着法により被
膜をコーティングすることが一最に行われている。
れる装置類、例えば硝酸にさらされる使用済み核燃料再
処理装置や海水にさらされる海水用発電機などにおいて
は、その構成部材に耐食性を必要とする。このため、こ
のような部材には、スパッタ法又は真空蒸着法により被
膜をコーティングすることが一最に行われている。
従来のスパッタ法又は真空蒸着法では、被膜の材料とし
てクロムや鉄クロム合金が用いられている。
てクロムや鉄クロム合金が用いられている。
Ｄ６発明が解決しようとする問題点
上記従来のスパッタ法又は真空蒸着法による被膜の形成
方法Ｇこおいては、形成された被膜が部材への密着性に
欠け、特に部材が変形した場合に被膜がこれに追従しき
れず亀裂、剥離が生じてしまい、保護被膜に適さないと
いう問題点がある。
方法Ｇこおいては、形成された被膜が部材への密着性に
欠け、特に部材が変形した場合に被膜がこれに追従しき
れず亀裂、剥離が生じてしまい、保護被膜に適さないと
いう問題点がある。
本発明は、上記問題点を解決し、非晶質構造の薄膜を形
成して部材への密着強度を高めると共に、亀裂を生ずる
ことがなく部材を腐食から有効に保護する薄膜を形成す
ることができる方法を提供しようとするものである。
成して部材への密着強度を高めると共に、亀裂を生ずる
ことがなく部材を腐食から有効に保護する薄膜を形成す
ることができる方法を提供しようとするものである。
Ｅ１問題点を解決するための手段
上記従来の問題点を解決するため、本発明は、スパッタ
リング用ターゲットの組成を鉄３〜２０１″ｇ。
リング用ターゲットの組成を鉄３〜２０１″ｇ。
りＤＡ２７〜４３ｗｔ％、 −ｔ＝リブデン２〜３０Ｗ
ｔＸ、 ニッケル１０〜３０ｗｔ％、リン１〜１０ｗｔ
％とじてスパッタ法により保護被膜を形成するよ−うに
した。
ｔＸ、 ニッケル１０〜３０ｗｔ％、リン１〜１０ｗｔ
％とじてスパッタ法により保護被膜を形成するよ−うに
した。
Ｆ０作用
本発明の保護被膜の形成方法は、鉄３〜２ｏｔｖｔｚ。
りＤム２７〜４３’ｌｔ’、 モＩＪブデン２〜３０Ｗ
ｔ！：、 ：：”ｙケル１０〜３０ＷｔＸ、リン１〜ｘ
ｏｗｔ：の範囲内でスパッタリング用ターゲットを組成
し、このターゲットと用いてスパッタ法を実施すること
により部材上に薄膜を形成する。
ｔ！：、 ：：”ｙケル１０〜３０ＷｔＸ、リン１〜ｘ
ｏｗｔ：の範囲内でスパッタリング用ターゲットを組成
し、このターゲットと用いてスパッタ法を実施すること
により部材上に薄膜を形成する。
Ｇ、実施例
本発明の実施例を第１図及び第２図を多照して説明する
。第１図はクロム含有率に対する剥離発生率の変化を示
すグラフ、第２図は基板温度に対する剥！発生率の変化
を示すグラフである。
。第１図はクロム含有率に対する剥離発生率の変化を示
すグラフ、第２図は基板温度に対する剥！発生率の変化
を示すグラフである。
本発明の実施例においては、鉄、クロム、モリブデン、
ニッケル及びリンの原料粉末を混合してスパッタリング
用ターゲットを形成する。そして、このターゲットをス
パッタリングして１部材上に薄膜を形成する。
ニッケル及びリンの原料粉末を混合してスパッタリング
用ターゲットを形成する。そして、このターゲットをス
パッタリングして１部材上に薄膜を形成する。
次にこの方法により形成された薄膜について行った試験
の結果からその特性を説明する。
の結果からその特性を説明する。
試験は、薄膜の密着性を評価するために、先ず０、３ｍ
履ｘ ７ｍｍＸ Ｊ抛厘の軟鋼製試験基板上に、基板冷
却装置付き高周波２極スパツタリング装置を使用して、
組成及び基板温度を変え種々の薄膜を形成する。そして
、これらの試験基板な直径１０ｍｍの丸棒に挟んで固定
し両側へ交互に直角に折り曲げ、また復元するという操
作を２０回繰り返して試験基板上の薄膜の剥離状態を目
視で確認した。この試験結果と次の表に示す。
履ｘ ７ｍｍＸ Ｊ抛厘の軟鋼製試験基板上に、基板冷
却装置付き高周波２極スパツタリング装置を使用して、
組成及び基板温度を変え種々の薄膜を形成する。そして
、これらの試験基板な直径１０ｍｍの丸棒に挟んで固定
し両側へ交互に直角に折り曲げ、また復元するという操
作を２０回繰り返して試験基板上の薄膜の剥離状態を目
視で確認した。この試験結果と次の表に示す。
＜’；＜：ｉ！ＩＪ＊を生じたもの、Ｏ；剥離のないも
の）また、この表から第１図に示すようにクロム含有率
に対する剥離発生率の変化を示すグラフと、第２図に示
すように基板温度に対する剥離発生率の変化を示すグラ
フが得られる。
の）また、この表から第１図に示すようにクロム含有率
に対する剥離発生率の変化を示すグラフと、第２図に示
すように基板温度に対する剥離発生率の変化を示すグラ
フが得られる。
この結果、薄膜の組成が鉄３〜２ｏＷｔｚ、クロム２７
〜４３Ｗｔ’、 モｌＪブデン２〜３０ｗｔ％、 ニラ
’Ｉ ）Ｉｉ １０〜３ＯＷ代、リン１〜１０ＷｔＸの
範囲で剥離の発生率が低くなっている。これは、この組
成を有する薄膜のＸ線回折の結果、回折ピークが完全に
ブロードな非晶質状態を示したことから、薄膜の非晶質
ｔｉ造に起因するものと考えられる。
〜４３Ｗｔ’、 モｌＪブデン２〜３０ｗｔ％、 ニラ
’Ｉ ）Ｉｉ １０〜３ＯＷ代、リン１〜１０ＷｔＸの
範囲で剥離の発生率が低くなっている。これは、この組
成を有する薄膜のＸ線回折の結果、回折ピークが完全に
ブロードな非晶質状態を示したことから、薄膜の非晶質
ｔｉ造に起因するものと考えられる。
なお、試験基板の温度は、４５℃以上にして上記組成の
薄膜を形成した場合に密着性に優れる。
薄膜を形成した場合に密着性に優れる。
Ｈ０発明の効果
以上のように、本発明は、スパッタリング用ターゲット
の組成を鉄３−２０Ｗｔ：、クロム２７〜４３ｗｔ％モ
リブデン２〜３０ｗｔ％、ニッケル１０〜３０ｗｔ％、
リン〜ｔｏｖｔｚとするので、非晶質構造の薄膜を形成
し部材への密着強度を高めると共に、亀裂を生ずること
がなく部材を腐食から有効に保護する被膜を形成するこ
とができるという効果を奏する。
の組成を鉄３−２０Ｗｔ：、クロム２７〜４３ｗｔ％モ
リブデン２〜３０ｗｔ％、ニッケル１０〜３０ｗｔ％、
リン〜ｔｏｖｔｚとするので、非晶質構造の薄膜を形成
し部材への密着強度を高めると共に、亀裂を生ずること
がなく部材を腐食から有効に保護する被膜を形成するこ
とができるという効果を奏する。
第１図はクロム含有率に対する！４１ｇ！発生率の変化
３示すグラフ、第２図は基板温度に対する剥離発生率の
変化を示すグラフである。
３示すグラフ、第２図は基板温度に対する剥離発生率の
変化を示すグラフである。
Claims (1)
- 部材上に鉄、クロムを組成物とする薄膜をスパッタ法に
準拠して被覆形成する方法において、スパッタリング用
ターゲットの組成を鉄３〜２０ｗｔ％、クロム２７〜４
３ｗｔ％、モリブデン２〜３０ｗｔ％、ニッケル１０〜
３０ｗｔ％、リン１〜１０ｗｔ％とすることを特徴とす
る保護被膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25224187A JPH0196380A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 保護被膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25224187A JPH0196380A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 保護被膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0196380A true JPH0196380A (ja) | 1989-04-14 |
Family
ID=17234476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25224187A Pending JPH0196380A (ja) | 1987-10-06 | 1987-10-06 | 保護被膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0196380A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4965139A (en) * | 1990-03-01 | 1990-10-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Corrosion resistant metallic glass coatings |
| US5407548A (en) * | 1990-10-26 | 1995-04-18 | Leybold Aktiengesellschaft | Method for coating a substrate of low resistance to corrosion |
| JP2009073374A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Toyota Auto Body Co Ltd | シートベルト装置の取付け構造 |
| CN106636979A (zh) * | 2016-12-05 | 2017-05-10 | 大连理工大学 | 一种具有优异耐蚀性能的Cr‑Fe‑Ni基块体非晶合金及其制备方法 |
-
1987
- 1987-10-06 JP JP25224187A patent/JPH0196380A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4965139A (en) * | 1990-03-01 | 1990-10-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Corrosion resistant metallic glass coatings |
| US5407548A (en) * | 1990-10-26 | 1995-04-18 | Leybold Aktiengesellschaft | Method for coating a substrate of low resistance to corrosion |
| JP2009073374A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Toyota Auto Body Co Ltd | シートベルト装置の取付け構造 |
| CN106636979A (zh) * | 2016-12-05 | 2017-05-10 | 大连理工大学 | 一种具有优异耐蚀性能的Cr‑Fe‑Ni基块体非晶合金及其制备方法 |
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