JPH019624Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH019624Y2 JPH019624Y2 JP14233384U JP14233384U JPH019624Y2 JP H019624 Y2 JPH019624 Y2 JP H019624Y2 JP 14233384 U JP14233384 U JP 14233384U JP 14233384 U JP14233384 U JP 14233384U JP H019624 Y2 JPH019624 Y2 JP H019624Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stopper
- rubbing
- groove
- present
- gas inlet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Closures For Containers (AREA)
- Devices For Use In Laboratory Experiments (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は改良された擦り合わせ栓に関する。
(従来の技術)
化学合成反応などにおいて、ガラス、プラスチ
ツク、金属製の器具を使用して、減圧下で操作す
ることは一般的である。このような場合、各器具
の栓から、空気中の酸素、ごみ又は擦り合わせ部
分に使用されるグリースのような異物が反応系内
に取り込まれやすい。電子材料原料のような極め
て高い純度を要求される化合物を合成するときに
は、反応系外からの異物の浸入を防止する必要が
ある。
ツク、金属製の器具を使用して、減圧下で操作す
ることは一般的である。このような場合、各器具
の栓から、空気中の酸素、ごみ又は擦り合わせ部
分に使用されるグリースのような異物が反応系内
に取り込まれやすい。電子材料原料のような極め
て高い純度を要求される化合物を合成するときに
は、反応系外からの異物の浸入を防止する必要が
ある。
(考案が解決しようとする問題点)
公知の擦り合わせ栓を使用した場合には、上記
の反応系外からの異物の浸入を効果的に防止する
ことができなかつた。本考案はこのような問題点
のない擦り合わせ栓を提供する。
の反応系外からの異物の浸入を効果的に防止する
ことができなかつた。本考案はこのような問題点
のない擦り合わせ栓を提供する。
(問題点を解決するための技術的手段)
本考案によれば、中空擦り合わせ栓において、
ガス導入口が栓の上部に形成されており、擦り合
わせ部の外周面に少なくとも1本の溝が全周にわ
たつて設けられており、上記溝に少なくとも1個
の孔が設けられていることを特徴とする擦り合わ
せ栓が提供される。
ガス導入口が栓の上部に形成されており、擦り合
わせ部の外周面に少なくとも1本の溝が全周にわ
たつて設けられており、上記溝に少なくとも1個
の孔が設けられていることを特徴とする擦り合わ
せ栓が提供される。
つぎに、本考案を図面に示す一実施例に基づい
て説明する。
て説明する。
第1図は本考案の一つの実施例を示す断面図で
ある。
ある。
中空栓1の上部には、ガス導入口2が形成され
ている。擦り合わせ部3の外周面には、少なくと
も1本の溝4が全周にわたつて設けられている。
溝4の幅及び深さについては特に制限はないが、
通常、幅が0.5〜5mm、深さが0.1〜1mmである。
この溝は擦り合わせ部3の外周面に2本以上設け
ることもできる。溝4には、少なくとも1個の孔
5が貫通して設けられている。孔5の径は、溝4
の幅とほぼ等しいことが望ましい。この孔は溝4
に複数個設けてもよい。
ている。擦り合わせ部3の外周面には、少なくと
も1本の溝4が全周にわたつて設けられている。
溝4の幅及び深さについては特に制限はないが、
通常、幅が0.5〜5mm、深さが0.1〜1mmである。
この溝は擦り合わせ部3の外周面に2本以上設け
ることもできる。溝4には、少なくとも1個の孔
5が貫通して設けられている。孔5の径は、溝4
の幅とほぼ等しいことが望ましい。この孔は溝4
に複数個設けてもよい。
本考案においては、第2図に示すように、ガス
導入口2とほぼ反対側にガス排出口6を設けても
よい。
導入口2とほぼ反対側にガス排出口6を設けても
よい。
栓1の材質については特に制限されず、ガラ
ス、プラスチツク又は金属であることができる。
ス、プラスチツク又は金属であることができる。
(作用)
本考案の栓1は、第3図に示すように、擦り合
わせ部3の外形とほぼ一致する雌型の擦り合わせ
部7を有する器具8にはめこんで使用される。
わせ部3の外形とほぼ一致する雌型の擦り合わせ
部7を有する器具8にはめこんで使用される。
第1図で示される栓1の場合、栓1を器具8に
はめこんだ後、ガス導入口2から、窒素ガス、ア
ルゴンガスのような不活性ガスを導入し、ついで
ガス導入口2を真空ラインに連結して、栓1の中
空部の空気を除去する。この操作は2回以上繰り
返してもよい。栓1の中空部の空気を除去した後
に、ガス導入口2から不活性ガスを、若干の加圧
下、例えば2Kg/cm2以下の加圧下に導入する。導
入された不活性ガスは栓1の中空部から孔5を経
由して溝4に供給される。このため、空気のよう
な異物は溝4より内部に入り込むことができな
い。従つて、反応系内に異物が混入することを効
果的に防止することができる。
はめこんだ後、ガス導入口2から、窒素ガス、ア
ルゴンガスのような不活性ガスを導入し、ついで
ガス導入口2を真空ラインに連結して、栓1の中
空部の空気を除去する。この操作は2回以上繰り
返してもよい。栓1の中空部の空気を除去した後
に、ガス導入口2から不活性ガスを、若干の加圧
下、例えば2Kg/cm2以下の加圧下に導入する。導
入された不活性ガスは栓1の中空部から孔5を経
由して溝4に供給される。このため、空気のよう
な異物は溝4より内部に入り込むことができな
い。従つて、反応系内に異物が混入することを効
果的に防止することができる。
また、第2図で示される栓1の場合は、上記と
同様にして不活性ガスをガス導入口2から導入
し、ガス排出口6から連続的に排出する。栓1の
中空部の空気を完全に除去するために、上記と同
じく不活性ガスを導入した後に、中空部を真空ラ
インに連結して脱気することもできる。
同様にして不活性ガスをガス導入口2から導入
し、ガス排出口6から連続的に排出する。栓1の
中空部の空気を完全に除去するために、上記と同
じく不活性ガスを導入した後に、中空部を真空ラ
インに連結して脱気することもできる。
第1図は本考案の一実施例を示す断面図であ
り、第2図は本考案の他の実施例を示す断面図で
あり、第3図は本考案の栓を使用している状態の
断面図である。 1……栓、2……ガス導入口、4……溝、5…
…孔。
り、第2図は本考案の他の実施例を示す断面図で
あり、第3図は本考案の栓を使用している状態の
断面図である。 1……栓、2……ガス導入口、4……溝、5…
…孔。
Claims (1)
- 中空擦り合わせ栓において、ガス導入口が栓の
上部に形成されており、擦り合わせ部の外周面に
少なくとも1本の溝が全周にわたつて設けられて
おり、上記溝に少なくとも1個の孔が設けられて
いることを特徴とする擦り合わせ栓。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14233384U JPH019624Y2 (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14233384U JPH019624Y2 (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6161030U JPS6161030U (ja) | 1986-04-24 |
JPH019624Y2 true JPH019624Y2 (ja) | 1989-03-16 |
Family
ID=30700657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14233384U Expired JPH019624Y2 (ja) | 1984-09-21 | 1984-09-21 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH019624Y2 (ja) |
-
1984
- 1984-09-21 JP JP14233384U patent/JPH019624Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6161030U (ja) | 1986-04-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ZA966433B (en) | Process for the production of high purity carbon dioxide. | |
AU545677B2 (en) | Process for the production of high pressure oxygen gas | |
ZA874605B (en) | Process for the genetic modification of yeast | |
EP0130768A3 (en) | External isolation module | |
EP0814500A3 (en) | Method for etching polycide structures | |
WO2001080055A3 (en) | Advanced recipe-a knowledge based information system for production processes | |
MX9802344A (es) | Metodo y aparato para producir bioxido de titanio. | |
CA2320915A1 (en) | Process for effecting mass transfer between a liquid phase and a gaseous phase | |
ZA976349B (en) | Mixture of organosilanepolysulphanes and a process for the production of rubber compounds containing these mixtures. | |
JPH019624Y2 (ja) | ||
KR920003424A (ko) | 표면처리 장치, 표면처리방법 및 반도체장치의 제조방법 | |
AU6804990A (en) | Process for removing vinylidene chloride from 1,1-dichloro-1-fluoroethane | |
AU575633B2 (en) | Discharging solids from process gases subjected to pressure | |
EP0068582A3 (en) | Purification process of water containing organic pollutants | |
JPH019623Y2 (ja) | ||
NO162114C (no) | Fremgangsmaate ved fremstilling av omsetningsprodukter av hydrogencyanid. | |
JPH0329652Y2 (ja) | ||
AU7714487A (en) | Process for the production of low carbon silicon | |
AU599784B2 (en) | Process for the removal of cyanide, arsenic, antimony and/or molybdenum impurities from solution | |
FR2720540B3 (fr) | Procédé de fabrication de comprimés d'oxyde mixte de (U,Pu)O2. | |
ZA926246B (en) | Process for the separation of rhodium from organic solutions. | |
CA2050709A1 (en) | Method for purification of ibuprofen comprising mixtures | |
AU596456B2 (en) | Electrochemical removal of hypochlorites from chlorate cell liquors | |
CA2155191A1 (en) | Method for manufacturing lactulose anhydride | |
AU6108686A (en) | Fermentation process for the production of fructose from aqueous mixtures of fructose and glucose and zymomonas mobilis mutants which can be used for such fermentation |