JPH0195728U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0195728U JPH0195728U JP19323587U JP19323587U JPH0195728U JP H0195728 U JPH0195728 U JP H0195728U JP 19323587 U JP19323587 U JP 19323587U JP 19323587 U JP19323587 U JP 19323587U JP H0195728 U JPH0195728 U JP H0195728U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat exchange
- resist
- exchange pipe
- resist coating
- tip
- Prior art date
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- Pending
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
第1図はこの発明の一実施例によるレジスト塗
布装置を示す断面図、第2図は第1図の部分の
拡大断面図、第3図は従来のレジスト塗布装置を
示す断面図である。 図中、1はカツプ、2は回転チヤツク、3は半
導体ウエハ、4はチヤツク回転モータ、5はレジ
スト液、7は恒温水、8は薬液ノズル、9はテフ
ロンチユーブ、10は熱交換器本体、11は熱交
換パイプである。尚、図中同一符号は同一又は相
当部分を示す。
布装置を示す断面図、第2図は第1図の部分の
拡大断面図、第3図は従来のレジスト塗布装置を
示す断面図である。 図中、1はカツプ、2は回転チヤツク、3は半
導体ウエハ、4はチヤツク回転モータ、5はレジ
スト液、7は恒温水、8は薬液ノズル、9はテフ
ロンチユーブ、10は熱交換器本体、11は熱交
換パイプである。尚、図中同一符号は同一又は相
当部分を示す。
Claims (1)
- 熱交換パイプをレジスト液供給ノズル先端まで
温調可能に設置したことを特徴とするレジスト塗
布装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19323587U JPH0195728U (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | |
US07/279,721 US4932353A (en) | 1987-12-18 | 1988-12-05 | Chemical coating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19323587U JPH0195728U (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0195728U true JPH0195728U (ja) | 1989-06-26 |
Family
ID=31484043
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19323587U Pending JPH0195728U (ja) | 1987-12-18 | 1987-12-18 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0195728U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10326736A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給装置およびそれを用いた液処理装置 |
-
1987
- 1987-12-18 JP JP19323587U patent/JPH0195728U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10326736A (ja) * | 1997-05-23 | 1998-12-08 | Tokyo Electron Ltd | 処理液供給装置およびそれを用いた液処理装置 |