JPH0194938A - 液体の分散方法 - Google Patents

液体の分散方法

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Publication number
JPH0194938A
JPH0194938A JP25000787A JP25000787A JPH0194938A JP H0194938 A JPH0194938 A JP H0194938A JP 25000787 A JP25000787 A JP 25000787A JP 25000787 A JP25000787 A JP 25000787A JP H0194938 A JPH0194938 A JP H0194938A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluid
plate
pressure loss
liquid
distribution plate
Prior art date
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Pending
Application number
JP25000787A
Other languages
English (en)
Inventor
Masato Kawabe
正人 河辺
Yoshiyuki Harano
原野 嘉行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0194938A publication Critical patent/JPH0194938A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J4/00Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
    • B01J4/04Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices using osmotic pressure using membranes, porous plates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野)  。
この発明は流路内を均一な速度分布を持つ流れにする液
体の分散方法に関し、即ちピストンフローを必要とする
液体処理関係に有効に利用されるものである。
(従来の技術と問題点) 液体分散手段を構ぜずに、里に液体を比較的大きな流路
内に導入した場合、第2図の斜線部で示すようなデッド
ゾーンが生じ、このデッドゾーンでの液体の滞留が生じ
てピストンフローとならないことは公知である。
そして、流路径/流路長の値が大きい程その傾向が著し
いことも知られている。
この問題を解決するため、1点からの液体導入の代りに
複数の点から導入することも考えられるが、その場合装
置の構造が複雑になり、どの点からも同じ流量の液体を
導入するのが困難である。
又、特開昭58−76131号に開示される方法は一つ
の流路から流路分割を繰返す、いわゆるトーナメント方
式の分散方法であるが、各段階での流路が孔あき板で構
成され、その板を積重ねるため、板面間に液体が滞留し
たり板間から液体が半径方向に漏れたりする問題点があ
り、また、分割流路の数や精度に工作上の限界があるた
め、やはりデッドゾーンの発生は避けられない問題点が
あった。
(問題点を解決しようとする手段及び実施例)この発明
は以上の事情に鑑みなされたものであり、一つ若しくは
複数の流入口から流入する液体を同一方向のより断面積
の大きな一つの流路に半径方向の速度分布なく均一に分
散するに際し、上記流路内に分散板を設け、流体が該分
散板と上記流入口間に出来る空間を半径方向に流れると
きの圧力損失よりも上記分散板を通過するときの圧力損
失がはるかに大きくなるように分散させることを特徴と
する液体の分散方法である。
第1図は本発明の実施の際使用される分散器の説明図で
あるが図において、圧力損失の大きい分散板(2)を液
体が軸方向に流れるときの圧力11失をPl、圧力損失
の小さな空間(3)を流体が半径方向に流れるときの圧
力損失をP2とする。
(4)は円筒状壁、(5)は流体入口である。
このとき流体が分散板(2)の中心部から流れ出る流体
の圧力損失をP3、壁面近くから流れ出る流体の圧力損
失をP4とすると P3=P1 p4 =pl +p2 となる。
従って分散器の中心部と壁面部での流量を均一にするに
はP3 =P4 、すなわちPl =P1 +P2とな
りPlに比べてP2が十分に小さければ良い。
一般的に圧力損失が大きな分散板としては、多孔質性板
例えば焼結金属が用いられ、この分散板の圧力損失は分
散板の微細な細孔径によって決まる。好適には3〜7μ
m程度の細孔径が良い。
一方、圧力損失の小さな空間には、目の荒い金網を上記
分散板の支持材として挿入しても良い。
圧力損失P2をPlよりも十分に小さくするた   5
めには、空間(3)の巾(深さ)が分散板(2)の細孔
径よりも十分に大きければ良いが5μm〜’1cmの範
囲が良い。
逆に圧力損失の小さな空間(3)の巾が大きすぎると、
流体の滞留時間が長くなり、その滞留の間に液体が分離
してしまう等の問題が生じたり、分散板を液体が通過す
る際に中心部から半径方向に行くに従って時間遅れが生
じ分散板を通過した時点で流体の濃度差が生じたりする
ことがあり好ましくない。
この発明での標準としては分散板は焼結金属としたら良
いが空間の巾は筒の径、流体の種類・粘度流量等により
様々な組み合せがあり、実施者が適宜状況により決定す
ると良い。
尚、この発明の分散方法は液体出口に使用すると、収集
方法になる。
(発明の効果) この発明は以上説明した様に一つ若しくは複数の流入口
から流入する液体を同一方向のより断面積の大きな一つ
の流路に半径方向の速度分布なく均一に分散するに際し
、上記流路内に分散板を設け、流体が該分散板と上記流
入口間に出来る空間を半径方向に流れるときの圧力損失
よりも上記分散板を通過するときの圧力損失がはるかに
大きくなるように分散させることを特徴とする液体の分
散方法なので、分散板前後の流体の濃度変化がなく、又
、分離もせず、且つ、分散板以降でピストンフローとな
り、吸着床、固液反応器等の固液接触方法において効果
を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施の際使用される分散器の断面説明
図、第2図はデッドゾーン説明図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 一つ若しくは複数の流入口から流入する液体を同一方向
    のより断面積の大きな一つの流路に半径方向の速度分布
    なく均一に分散するに際し、上記流路内に分散板を設け
    、流体が該分散板と上記流入口間に出来る空間を半径方
    向に流れるときの圧力損失よりも上記分散板を通過する
    ときの圧力損失がはるかに大きくなるように分散させる
    ことを特徴とする液体の分散方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03232836A (ja) * 1989-12-06 1991-10-16 Teijin Ltd ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03232836A (ja) * 1989-12-06 1991-10-16 Teijin Ltd ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造方法
JP2752498B2 (ja) * 1989-12-06 1998-05-18 帝人株式会社 ヒドロキシカルボン酸誘導体の製造方法

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