JPH01500503A - 真空ポンプコントロールシステム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 真空ポンプコントロールシステム １１立豆見 この発明は、例えば、木材もしくは木材混合物のようなセルロースの処理に特に 役立つ、材料含浸システムに関するものである。

これについては、難燃剤および／または防燃剤を木材に含浸させ、それによって 材料の本来の特性を改良することが知られている。典型的なものとしては、これ までカフパークロムアルセニフク（ｃｏｐｐｅｒ　ｃｈｒｏｍｅａｒｓ、ｅｎｉ ｃ　）　（Ｃ，Ｃ，Ａ）が化学処理剤として使用されてきたが、しかしながらこ れは有毒化学物質で取り扱いがむずかしく、しかも処理後の浸出物のために環境 を汚染する危険性を持っている。　Ｃ，Ｃ，Ａ　は防燃剤として広く使用されて いる。水溶性のリン酸塩および微殺生物剤も耐食性および防黴性をもつものとし て知られている。

処理剤の含浸性を向上させ、上記の問題を最小にするために、真空圧状態下でそ の加工を行うことが従業されている。これは非常に有効であることが分っている が、化学処理剤の量、圧力の条件を経験的に確定していかなければならない。こ れらの結果は、処理すべき木材の含水率は多様であり、適切な含浸の条件が変る ために、華におおまかな目安にしかならないものである。従って、仮に真空−圧 含浸を採用しても、化学処理剤を多口にし、処理時間も長くするというのが通常 である。

もっと効果的で処理時間をより短くする含浸を可能にする真空−圧含浸システム を提供することがこの発明の目的である。

また、含浸のプロセスをもっと効果的に実施する装置を提供することもこの発明 の目的である。

主亙皇翌ユ 従って、この発明の第１の実施Ｂ様においては、以下のものより構成される真空 −圧材籾含浸用装置が備えられている。

（ａｌ　化学処理剤を含浸する材料を受入れるメイン処理室と、このメイン処理 室と連絡している上方の室を有するオートクレーブ。

ｆｂｌ　化学処理剤をメイン処理室に推し進めるポンプ装し くＣ１化学処理剤がメイン処理室を前もって設定したレベルまで満たしたことを 感知し、出力信号を出すメイン処理室の上部に配置された検知装置。

ｆｄｌ　メイン処理室が一杯になり、上方の室が前もって設定されたレベルまで 満たされるまで、ポンプ装置がメイン処理室に化学処理剤を推し進めた後に、メ イン処理室に残っているエアーを排出するための出力信号に応答する排出装置。

（ｅ）　メイン処理室と上方の室をエアーが侵入しないようにシールする上方の 室のバルブ装置。

仔）　メイン処理室に圧力をかけ、化学処理剤を材料に含浸させる圧力装置。

（ａ　排出装置と圧力装置の稼動を制御するタイマー装し く！〕）　メイン処理室より化学処理剤を除去するための回収装置。

この発明の第２の実施態様では次のステップより成る真空−圧材料含浸の方法が 講じられている。

［ａ）　オートクレーブのメイン処理室の材料の位置を定める。このオートクレ ーブはメイン処理室と連絡している上方の室を含んでいる。

ｆｂｌ　材料を浸す最初のレベルまで化学処理剤をメイン処理室に満たす。

（Ｃ１メイン処理室、上方の室、および材料よりエアーを除去するために、最初 の前もって設定した時間オートクレーブを真空にする。

（ｄｉ　メイン処理室を完全に、および、上方の室を第２のレベルまで化学処理 剤で満たす。

（８＋　第２の前もって設定された時間メイン処理室に圧力をかけ、材料に化学 処理剤を含浸させる。

（ｆｌ　メイン処理室の圧力をゆるめ、メイン処理室から化学処理剤を抜く。

典型的な例は、メイン処理室は端部が半球状になった球形で、上方の室は底の開 いた円錐形もしくは截頭円錐形をしている。これらの室は、メイン処理室の開口 部の回りで完全に密閉されて接続されている。

この発明の特徴は、化学処理剤がメイン処理室に導き入れられるその速度にある 。１つの好ましい形においては、このことはメイン処理室の出口を開ける装置を 含む回収装置と、メイン処理室にエアーを入れ、出口を介して化学処理剤を取り 出すためのエアー投入装置により達成される。

エアー投入の最も好ましい形は、排出の２つの役目もまた成し遂げることのでき る真空ポンプである。真空ポンプの難点は、信輔でき、しかも藺草な方法でいか にしてこれらの稼動を制御するかということである。

従うて、この発明を別の面から見れば、真空ポンプ用のコントロールシステムを 提供することである。明らかに、このコントロールシステムは、上記の含浸シス テムと共に使用するものが主に開発されているが、それはその用途に限られるも のではない。

より詳細には、真空ポンプ用のコントロールシステムを構成するコントロールシ ステムは、次のものを含む。

（ａ）１つの入口と第１、第２各々１つずつの出口を有する正圧をかけられる第 １の室。

（ｂｌ　第１、第２各々１つずつの入口と１つの出口を有する負圧がかけられる 第２の室。

ｆｃｌ　次のものを含む調整装置。

（１）第１の出口もしくは第１の入口のいずれかを閉じ、残りのもう一方を開け るための、第１の室の第１出口と第２の室の第１人口と関連した第１バルブ装闇 。

（１１）第１の室の第２出口を開閉する第２バルブ装置。

（ｉｉｉ　＞第２の室の第２人口を開閉する第３バルブ装置。

（ｄ）　以下のことを行うパルプ装置を操作するためのコントロール装置。

（ｉ）（８１第１の室の第１人口を開く。

（ホ））　第１の室の第２出口を閉しる。

ｔｅｌ　第２の室の第１人口を閉しる。

ｆｄｌ　第２の室の第２人口を開く。

（ｉｉ　）　ｆａｔ　第２の室の第１人口を開く。

偽）　第２の室の第２人口を閉じる。

ｆｃｌ　第１の室の第１出口を閉じる。

（（１１第１の室の第２出口を開く。

このコントロールシステムの特徴は、遠隔室を空にする、もしくは加圧するよう に作動させられているだけであるにもかかわらず、各室を、正圧もしくは負圧の かかった状態に保つということである。更に、このことは真空ポンプをいずれか の状態より、容易に変えることができることを意味している。

製造を容易にするために、２つの室の内の一方を他方の上に１き、バルブを室内 に配置することが好ましい。

バルブ装置は、バタフライ弁、もしくは入口や出口を開閉できるその他のものに することができる。一般には、これらの弁は適切な連動機構により制御すること のできるレバーを用いることによって制御することができる。この連動機構とバ ルブはオートクレーブの希望の状態に応じて遠隔操作される。レバーに連結した ピストンは、バルブ装置を作動させる特に藺草で効果的な方法であることが分っ ている。

また、正圧および負圧のかけられる室に隣接して勺イレンサー室を配置し、この 室を全ての導管が通るようにすることが望ましいことも分っている。こうするこ とにより、著しく騒音を低下させることができ、騒音調整レベルの達成が容易と なる。

また、このような配置は、コンパクトな製造にも役立ち、従来のようにかさ高な コントロールシステムを回避することができる。

含浸法の中で既に示したように、含浸される材料は、化学処理剤の中に浸される が、その材料全部でないとしても、大半がそれに包まれることが望ましい。この ようにすることにより、相当量の化学処理剤にメイン処理室の大半を占めさせる ことができ、次の排出、充填ステップを行うために要する時間を最小にする。

オートクレーブは通常化学処理剤に利用されるポンプを使って加圧される。一般 に、圧力含浸ば１．．２００ｋｐａと１，５００ｋｐａの間で、２〜３時間にわ たり実施されるが、１　、３８０ｋｐａ程度がより好ましい。

含浸後の化学処理剤の除去は、オートクレーブへの圧力を保持し、メイン処理室 の出口を開くことにより促進することができる。次に、メイン処理室より、材料 から余分の化学処理剤を回収するエアーをもう一度排出することが好ましい。ま た更に、メイン処理室は、そこより残りの化学処理剤を除去する次の排出の前お よび／または後に、加圧することができる。

既述のように、このコントロールシステムは、メイン処理室より残りの化学処理 剤を除去するために排出モードより加圧モードに容易に変えることができるので 、この方法での使用に特に適している。

本発明の種々の態様については、ここでは次の様な添付の図面により示されてい る。

第１図は排出位置にある真空ポンプ用のコントロールシステムである。

第２図は、加圧位置にある真空ポンプ用のコントロールシステムである。

第３図は化学剤適用チャー１・である。

第４図は本発明の１つの他様による含浸システムの一部の流れ図である。

第５図は第４図に使用されている含浸システムの更にまた一部の流れ図である。

第６図は第４図に使用されている化学剤供給の一部の流れ図である。

第７図は本発明による方法を逐次示したものである。

第１図と第２図に示したように、このコントロールシステムは升イレンサー室１ １と正圧室１２、負圧室１３という３つの室を有するハウジング１０を構成して いる。

この正圧室には、以下に述べるバルブシステムの点検とメンテナンスを容易にす ることのできる検査ハツチが備えられている。

バイブ１４はハウジング１０の外部では負圧＃１（−）まで延びており、サイレ ンサー室１１と正圧室１２を通り、負圧室１３の中にまで延びている。バイブ１ ５はハウジング１０の外部ではサイレンサー室１１の中に延びている。

バイブ１６はハウジング１０の外部で正圧＃（＋）に接続しており、サイレンサ ー室１１を通り、正圧室１２の中にまで延びている。バイブ１７は、排出される か、もしくは正圧がかけられるかいずれかの室（図示しない）にその外部で接続 されている。これはサイレンサー室１１を通り正圧室ｊ２の中にまで延びており 、バルブ２０に密閉して接続されている。バイブ１８はサイレンサー室１１より 正圧室１２の中に延び、バルブ２２に密閉して接続されており、このバルブ２２ はまたバルブ２０にも密閉して接続されている。バイブ２８は負圧室１３より正 圧室１２に延び、バルブ２０とも接続されている。バイブ１９はサイレンサー室 １１と負圧室】３の間に延びている。バルブ２１はバイブ１９の中に置かれてい る。

バルブ２０．２］、、２２には各々アーム２，１，２６．２５がついている。連 動機構２７がアーム２４，２６．２５を連結している。アーム２５にはバルブ２ ２の両側に延びており、一端で作動ピストン２３に連結されている。そして、こ の端とはバルブ２２に対して連動機構２７とアーム２５とが接続されているのと は反対側である。

正圧室１２はドレンパイプ３１を有しており、これは正圧室１２より負圧室１３ を通り、ハウジング１０より外に排出する。

このコントロールシステムは次のように稼動する。

図示されているように、第１図は、排出室（図示しない）からのエアーの流れを 示したものである。特にバイブ１４はハウジング１０の外で負圧源に接続されて いるので、負圧室１３よりエアーを引き出す。負圧室１３の圧力の低下はバイブ ２８と１９への吸引を引き起こす。バルブ２１は閉しており、サイ！／ンサー室 】１からエアーが引き出されるのを防止する。バルブ２０は開いており、バイブ １７よりバルブ２０を通り、バイブ２８の中にエアーを入れることになる。バル ブ２２は閉した位置にあり、正圧室１２もしくはバイブ１８のいずれかよりバル ブ２２を介してエアーが引き出されるのを防止している。従って、エアーは、排 出室（図示しない）よりバルブ２０を弁してパイプ１７を通り、パイプ２８の中 に引き出される。

パイプ２８はエアーを負圧室１３の中に導き、このエアーは続いて負圧室１３よ り、負圧源（＝）へのパイプ１４を介し除去される。

正圧源（＋）はこの排出作用のときに中断しない。

エアーはパイプ１６を介して圧力下で推し進められ、正圧室１２の中に排出され る。バルブ２２は正圧室１２によりバルブ２０の中にエアーが吸い込まれるのを 防止するために閉しているが、にもかかわらず、正圧室１２がらのエアーがバル ブ２２に入り、パイプ１８の中を通過させてしまう、パイプ１８のエアーはサイ レンサー室１１の中に排出され、パイプ１５を介して大気に吐き出される。既述 のように、パイプ１９のバルブ２２は従って、エアーが負圧室１３の中をその結 果通過することがないように閉じている。

第２図は排出室（図示しない）への加圧に影響するコントロールシステムを描い たものである。加圧されたエアー（＋）はパイプ１６に入り、正圧室１２に放出 される。バルブ２２は、バルブ２０にエアーが流れるよう開いており、このバル ブ２０もパイプ１７の中にエアーを迂回させるために開かれている。バルブ２２ はパイプ１８にエアーが入るのを防止している。バルブ２０はパイプ２８にエア ーが入るのを防止している。バイブ１７内の加圧されたエアーは、排出室（図示 しない）の中に放出される。

この作動中は、負圧源はまだバルブ２１を開けることにより使用できるようにな っている。大気がサイレンサー室１１の中へとパイプ１５に引き出され、パイプ １９を通り、バルブ２１を介して、負圧室１３の中に引き出される。このエアー は順に負圧源に向かうパイプ１４に引き寄せられる。

バルブ２０．２１．２２の位置決めは、アーム２４，２５．２６と連動機構２７ を介してそれらのバルブを作動させるピストン２３を作動させることによって達 成される。

加圧モードでは、エアーの含水量が高く、これがバルブ２２に入る前に正圧室１ ２にたまることが分っている。

余分の液が正圧室１２に蓄積するとしても、フロート２９がドレンバイブ３１の 一端より取りはずしプラグ３０を持ち上げることになる。この液は、フロート２ ９０レベルがドレンパイプ３１のプラグ３０を再配置するまでドレンパイプブ３ １の下をン素れる。

このコントロールシステムでは、エアーはすべて、必然的にサイレンサー室１１ を通過するか、もしくはその中に入る。このサイレンサー室は、普通この様な稼 動につきものの騒音を減らし、規定の騒音制限に合致したものにすることができ る。

ここに述べたコントロールシステムは、真空ポンプを藺草なやり方で稼動させる ことを可能にするものである。このシステムは非常にコンパクトで、操作の簡易 性を保っている上に、従来のシステムに比べて資本支出も低くて済むものである 。

第４図、第５図、第６図は、この発明の一態様による装置も同時に示す一部の流 れ図である。

この装置を利用する場合には、処理を行う木材に、最初の含水率テストを実施す ることが必要である。第３図には、！用量のチャートを示したが、これより化学 側の濃度を選択することもできる。

この図は、化学処理剤の濃度＜１／ｇ＞　と木材のタイプに対する含水率の割合 を描いたものである。これＡ、Ｂ、Ｃ−高密度 り、Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ−普通の密度 ！、Ｊ、に、Ｌ、Ｍ、Ｎ　−中密度 ０、Ｐ、Ｑ、Ｒ−低密 第４図、第５図、第６図に示したように、オートクレーブ３２は処理室３３と上 方の室３４を構成している。化学処理剤３５は、供給タンクＡ、Ｂ、Ｃより処理 室３３に送られる。供給タンクＡは加工槽で、この中にリサイクルされた使用済 みの化学処理剤３６が、処理フィルター４３を通って入ってくる。タンクＢは、 多量の濃縮化学処理剤の供給槽で、タンクＣは多量の水の供給槽である。

化学処理剤３５の濃度を第３図に示された図より最初に選択すれば、タンクＡ、 、Ｂ、Ｃの出口は、正しい配合をするように設定される。導管３７に放出される ｔａ　Ｉ化学処理剤の量は、センサー５５による化学処理剤配合のモニタリング に関連してコントロールバルブ３８を制御する導管３７の中に配置されているセ ンサー５５により綿密にコントロールされる。揺動チェックバルブ４０゜４１は タンクＡとＣに関連しており、各々化学処理剤の逆流を防止している。

導管３７を選択的に閉じることのできる空圧バルブ４２が導管３７の中に挿入さ れている。同様に、チェ、クハルブ４４と４５が導管４６と３７の中に配置され ており、使用された化学処理剤３６の再利用を可能にしている。センサー３９及 び４７が化学処理剤の存在を検知する。

図示されている上方の室３４は、処理室３３に密閉して取り付けられている。レ ベルセンサー５０は、処理される材料の上面をオーバーするレベルのところで、 処理室３３に配置されている　（図示しない）、導管４８と４９は上方の室に接 続している。導管４８は、上方の室３４と処理室３３を選択的に加圧することが できる。この加圧は、真空ポンプ装置５１の使用により達成される。導管４９は これも真空ポンプ装置５１を使用して、上方の室３４と処理室３３を選択的に排 出することができる。真空にしたり、加圧する際に騒音が発生するので、サイレ ンサーとフィルター５２とを利用する。

安全上の理由により圧力安全弁５３を導管４８と真空ポンプ５１の間に設置する 。

圧力ボンブ５４が導管３７の中に配置されており、処理室３３への中に流れる化 学処理剤３５を加圧し、オートクレーブ３２を加圧する操作が行える。

この装置の操作方法は、下記の通りであるが、これも第７Ｒと関連させて説明さ れている。

オートクレーブ３２は最初は空の状態ＡＡである。木材５６の水分テストを行い 、濃縮化学処理剤の適量を選択する。次に木材５６を処理室３３の中に配置し、 密閉する　（状態Ｂ　Ｂ　）。センサー５５が、タンクＡとＣがらの量と組み合 わせて前もって決められた量の濃縮化学処理剤が導管３７に流入し、それが保持 されるように調整する。化学処理剤３５は、処理室３３の中にポンプ注入され、 チェックバルブ４４により導管４６に流入することを防止している。

化学処理剤３５は、処理室３３のバルブ４２が閉じていることをレベルセンサー ５０が検知するまで、処理室３３を満たす　（状態ＣＣ）。導管４８は閉じてお り、導管４９はオートクレーブからエアーを排出する　（状態Ｅ　Ｅ　＞。

圧力ボンブ５４は、前もって決めた時間、オー［クレープ３２を加圧するように 働く　（状Ｐ、Ｅ　Ｆ　Ｆ　＞。ポンプ５４は稼動停止となり、バルブ４５は導 管３７を閉じ、使用された化学処理剤３６は、処理室から送り出され（状、Ｇ　 ＧＧ）、フィルター４３においての処理と、タンク八への再循環のために、導管 ４６に入る。

導管４８は閉し、導管４９が開いて、真空を利用して、余分の化学処理剤を、メ イン処理室３３の低部に蓄積している材料の面より回収する　（状態ＨＨ）。導 管４９は閉じ、導管４日が開き、エアーを中に入れ、上方の室３４と処理室３３ を加圧する　（状ＢＨＨ）。バルブ４２が開いて、余分の使用済化学処理剤３６ を処理室３３より吹き出させることができる（状Ｎｕ　Ｉ　１　＞。

この後、オートクレーブ３２が開き、処理された木材が取り出される。

この発明のシステムとＷ　置により、含浸プラントの稼動をほぼ理忠状態に近い ものにすることができる。

改良されたこのオートクレーブは、メイン処理室の排出を効果的に行うため、材 料の含浸を改良することができる。従って、この発明は、短い処理時間でこれま で以上の含浸を達成するものである。従って、処理コストも安くなる。

また、このシステムは、±０．１％の精度まで処理溶液の１度を監視する。これ は現在の比重メーターをはるかにオーバーするもので、従って、この化学ｍＷを 連続的、自動的にサンプリングテストするために、化学処理剤をより正確に保持 し、大幅なコスト節減につながる。これがオートクレーブに入ると、流量制御バ ルブがこの精度を維持するように液体の濃度を変えるので、化学処理剤がオート クレーブに入った後に手で混合、調整する必要がない。

木材のクイプ／濃度Ｃ１／扉） 含水率 ＦＫｙ、３ 閑際謝査報告 １−・・１ｉｅＩ・ムＩｓ・ｉｌｌ　ＩＨ％・　ＰＣＴ／ＡＵ　［１７１００１ ９２ＡＮＮＥＸ　ＴＣＩ　ＴＦＥ　’ｒＮＩＴＲＭｋｎαＯＸ、　５ＥＡＲＯＩ 　圧フコσＧＪ］ｎス９ホＫｔＱＬ　ＡＰＰＩＪＣＡｆｆＴＣＮ　ＮＯ，ＫＴ／ ＡＵ　８７００四２

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 この発明を定義する特許請求の範囲は以下の通りである。 １次のものより構成される材料に其空−圧含浸を行うための装置 （ａ）化学処理剤を含浸する材料を受け入れるメイン処理室と、このメイン処理 室と連絡している上方の室を有するオートクレーブ。 （ｂ）化学処理剤をメイン処理室に推し進めるポンプ装置。 （ｃ）化学処理剤がメイン処理室を前もって設定したレベルまで満たしたことを 感知し、出力信号を出すメイン処理室の上部に配置された検知装置。 （ｄ）メイン処理室が一杯になり、上方の室が前もって設定されたレベルに満た されるまでポンプ装置がメイン処理室に化学処理剤を推し進めた後、メイン処理 室に残っているエアーを排出するための出力信号に応答する排出装置。 （ｅ）メイン処理室と上方の室にエアーが侵入しないようにシールする上方の室 のバルブ装置。 （ｆ）メイン処理室に圧力をかけ、化学処理剤を材料に含浸させる圧力装置。 （ｇ）排出装置と圧力装置を制御するタイマー装置。 （ｈ）メイン処理室より化学処理剤を除去するための回収装置。 ２メイン処理室が半球状の端部を持つ一般にシリンダー状である特許請求の範囲 第１項記載の装置。 ３上方の室が底の開いた円錐形、もしくは截頭円錦形である特許請求の範囲第１ 項もしくは第２項のいずれかに記載の装置。 ４上方の室がメイン処理室の開口部の回りで密閉して接続されている特許請求の 範囲第１項から第３項のいずれかに記載の装置。 ５ポンプ装置が、排出装置が使用可能のときには使用不可となる特許請求の範囲 第１項から第４項のいずれかに記載の装置。 ６回収装置が、化学処理剤を逃がすことができるように、メイン処理室の出口 を開く装置を有している特許請求の範囲第１項から第５項のいずれかに記載の装 置。 ７回収装置が、処理室からエアーを排出し、材料から余分の化学処理剤を回収す る装置をも有する特許請求の範囲第６項記載の装置。 ８回収装置が、化学処理剤をメイン処理室の出口に導き入れるために、メイン処 理室にエアーを導くエアー投入装置をも有する特許請求の範囲第６項または第７ 項のいずれかに記載の装置。 ９エアー投入装置と排出装置は真空ポンプである特許請求の範囲第８項記載の装 置。 １０真空ポンプは次のものを含んだコントロールシステムにより制御される特許 請求の範囲第９項記載の装置。 （ａ）１つの入口と第１、第２各々１つずつの出口を有する正圧をかけられる第 １の室。 （ｂ）第１、第２各々１つずつの入口と１つの出口を有する負圧がかけられる第 ２の室。 （ｃ）次のものを含む調整装置。 （ｉ）第１の出口もしくは第１の入口のいずれかを閉じ、残りのもう一方を開け るための、第１の室の第１出口と第２の室の第１入口と関連した第１バルブ装置 。 （ｉｉ）第１の室の第２出口を開閉する第２バルブ装置。 （ｉｉｉ）第２の室の第２入口を開閉する第３バルブ装置。 （ｄ）以下のことを行うバルブ装置を操作するためのコントロール装置。 （ｉ）（ａ）第１の室の第１入口を開く。 （ｂ）第１の室の第２出口を閉じる。 （ｃ）第２の室の第１入口を閉じる。 （ｄ）第２の室の第２入口を開く。 （ｉｉ）（ａ）第２の室の第１入口を開く。 （ｂ）第２の室の第２入口を閉じる。 （ｃ）第１の室の第１出口を閉じる。 （ｄ）第１の室の第２出口を開く。 １１第１の室が第２の室の上に配置されている特許請求の範囲第１０項記載の装 置。 １２第２の室が第１の室の上に配置された特許請求の範囲第１０項記載の装置。 １３サイレンサー室を更に有する特許請求の範囲第１０項から第１２項のいずれ かに記載の装置。 １４調整装置が、第１の室、第２の室のいずれかに、もしくは双方に配置されて いる特許請求の範囲第１０項から第１３項のいずれかに記載の装置。 １５第１バルブ装置が、第１レバーにより作動される第１バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第１０項から第１４項のいずれかに記載の装置。 １６第２バルブ装置が、第２レバーにより作動される第２バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第１０項から第１５項のいずれかに記載の装置。 １７第３バルブ装置が、第３レバーにより作動される第３バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第１０項から第１６項のいずれかに記載の装置。 １８コントロール装置が連動機構により互いに連結されている第１、第２、第３ レバーを有する特許請求の範囲第１５項から第１７項のいずれかに記載の装置。 １９コントロールシステムが更にまた、第１、第２、第３レバーのいずれか１つ に接続されている遠隔作動されるピストンを有する特許請求の範囲第１８項記載 の装置。 ２０第１の室がその中に蓄積している液体を除去する装置を含む特許請求の範囲 第１０項から第１９項のいずれかに記載の装置。 ２１次のものを含む真空ポンプ用のコントロールシステム。 （ａ）１つの入口と第１、第２各々１つずつの出口を有する正圧をかけられる第 １の室。 （ｂ）第１、第２各々１つずつの入口と１つの出口を有する負圧がかけられる第 ２の室。 （ｃ）次のものを含む調整装置。 （ｉ）第１出口もしくは第１入口のいずれかを閉じ、残りのもう一方を開けるた めの第１の室の第１出口と第２の室の第１人目と関連した第１バルブ装置。 （ｉｉ）第１の室の第２出口を開閉する第２バルブ装置。 （ｉｉｉ）第２の室の第２入口を開閉する第３バルブ装置。 （ｄ）以下のことを行うバルブ装置を操作するためのコントロールシステム。 （ｉ）（ａ）第１の室の第１入口を開く。 （ｂ）第１の室の第２出口を閉じる。 （ｃ）第２の室の第１人目を閉じる。 （ｄ）第２の室の第２入口を開く。 （ｉｉ）（ａ）第２の室の第１入口を開く。 （ｂ）第２の室の第２人口を閉じる。 （ｃ）第１の室の第１出口を閉じる。 （ｄ）第１の室の第２出口を開く。 ２２第１の室が第２の室の上に配置されている特許請求の範囲第２１項記載のコ ントロールシステム。 ２３第２の室が第１の室の上に配置されている特許請求の範囲第２１項記載のコ ントロールシステム。 ２４更に、サイレンサー室を有する特許請求の範囲第２１項から第２３項のいず れかに記載のコントロールシステム。 ２５調整装置が、第１の室もしくは第２の室のいずれかに、もしくは双方に配置 されている特許請求の範囲第２１項から第２４項のいずれかに記載のコントロー ルシステム。 ２６第１バルブ装置が、第１レバーにより作動される第１バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第２１項から第２５項のいずれかに記載のコントロールシステム 。 ２７第２バルブ装置が、第２レバーにより作動される第２バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第２１項から第２６項のいずれかに記載のコントロールシステム 。 ２８第３バルブ装置が、第３レバーにより作動される第３バタフライ弁を有する 特許請求の範囲第２１項から第２７項のいずれかに記載のコントロールシステム 。 ２９コントロールシステムが、連動機構により互いに連結されている第１、第２ 、第３レバーを有する特許請求の範囲第２６項から第２８項のいずれかに記載の コントロールシステム。 ３０コントロールシステムがさらにまた、第１、第２、第３レバーの１つに接続 されている遠隔作動されるピストンを有する特許請求の範囲第２９項記載のコン トロールシステム。 ３１第１の室がその中に蓄積している液体を除去する装置を含んでいる特許請求 の範囲第２１項から第３０項のいずれかに記載のコントロールシステム。 ３２次のステップより構成される、真空−圧材料含浸法。 （ａ）メイン処理室と連絡している上方の室も含んでいるオートクレーブのメイ ン処理室の材料の位置を定める。 （ｂ）材料を浸す最初のレベルまで化学処理剤をメイン処理室に満たす。 （ｃ）メイン処理室、上方の室、および材料よりエアーを除去するために最初の 前もって設定した時間オートクレーブを真空にする。 （ｄ）メイン処理室を完全に、および上方の室を第２のレベルまで化学処理剤で 満たす。 （ｅ）第２の前もって設定された時間、メイン処理室に圧力をかけ材料に化学処 理剤を含浸させる。 （ｆ）メイン処理室の圧力をゆるめ、メイン処理室より化学処理剤を抜く。 ３３材料から余分の化学処理剤を除去するために、第３段階の間オートクレーブ を真空にする付加ステップ（ｇ）を含む特許請求の範囲第３２項記載の方法。 ３４材料がセルロースである特許請求の範囲第３２項もしくは第３３項のいずれ かに記載の方法。 ３５材料が木材もしくはチップボード、排紙を含む木材混合物である特許請求の 範囲第３２項もしくは第３３項のいずれかに記載の方法。 ３６材料の大半が真空にする前に化学処理剤の中に浸される特許請求の範囲第３ ２項から第３５項のいずれかに記載の方法。 ３７材料全体が真空にする前に化学処理剤の中に浸される特許請求の範囲第３２ 項から第３５項のいずれかに記載の方法。 ３８適用圧が１，２００ｋｐａより１，５００ｋｐａまでの特許請求の範囲第３ ２項から第３７項のいずれかに記載の方法。 ３９適用圧がほぼ１，３８０ｋｐａの特許請求の範囲第３８項記載の方法。 ４０圧力が２〜３時間かけられる特許請求の範囲第３８項及び第３９項のいずれ かに記載の方法。 ４１圧力を化学処理剤の回収によりメイン処理室より軽減する特許請求の範囲第 ３２項から第４０項のいずれかに記載の方法。 ４２メイン処理室への加圧下でエアーを導き、メイン処理室の出口を介して化学 処理剤を排出し、メイン処理室を空にする特許請求の範囲第３２項から第４０項 のいずれかに記載の方法。 ４３化学処理剤がオートクレーブでの使用のために、処理、再利用される特許請 求の範囲第４１項もしくは第４２項記載の方法。 ４４特許請求の範囲第３２項から第４３項のいずれかに記載の方法を実施するた めに使用される時には、特許請求の範囲第１項から第３１項のいずれかに記載の 装置。