JPH01318015A - Optical disc - Google Patents

Optical disc

Info

Publication number
JPH01318015A
JPH01318015A JP63149845A JP14984588A JPH01318015A JP H01318015 A JPH01318015 A JP H01318015A JP 63149845 A JP63149845 A JP 63149845A JP 14984588 A JP14984588 A JP 14984588A JP H01318015 A JPH01318015 A JP H01318015A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
polyvinylcyclohexane
substrate
molecular weight
heat resistance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63149845A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2668945B2 (en
Inventor
Sadanori Suga
菅 禎徳
Eiji Tanaka
栄司 田中
Satoshi Kato
聡 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP63149845A priority Critical patent/JP2668945B2/en
Publication of JPH01318015A publication Critical patent/JPH01318015A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2668945B2 publication Critical patent/JP2668945B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain with high productivity an optical disc having improved heat resistance and moldability and being effectively usable under a severe thermal condition by using a polyvinylcyclohexane having specified MW and softening point. CONSTITUTION:This optical disc has a base formed of a polyvinylcyclohexane resin having a number-average MW of 50,000 or larger and a softening point of 150 deg.C or higher. Said polyvinylcyclohexane resin is obtd. by performing pref. nuclear hydrogenation of a styrene polymer. As the raw material styrene polymer, vinyl arom. hydrocarbon polymers or vinyl arom. hydrocarbon block copolymers are cited. As the latter block copolymers, those copolymers consisting of a vinyl arom. hydrocarbon polymer segment and at least one conjugated diene polymer segment are cited.

Description

【発明の詳細な説明】 [a業上の利用分野] 本発明は光ディスクに係り、特に、熱加工安定性等に優
れた、特定の分子量及び軟化点を有するポリビニルシク
ロヘキサン系樹脂より構成された基板を有する光ディス
クに関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Application in Industry A] The present invention relates to an optical disk, and in particular to a substrate made of a polyvinylcyclohexane resin having a specific molecular weight and softening point, which has excellent heat processing stability, etc. The present invention relates to an optical disc having:

[従来の技術] レーザーを用いた光学記録は高密度の情報記録、保存、
及び再生が可能であるため、近年その開発が積極的に行
なわれている。この様な光学記録の一例として光ディス
クを挙げることが出来る。一般に光ディスクは、透明な
基板とその上にコートされた種々の記録媒体とから基本
的に構成される。
[Conventional technology] Optical recording using lasers is capable of high-density information recording, storage,
Since it can be recycled and regenerated, its development has been actively carried out in recent years. An optical disk can be cited as an example of such optical recording. In general, an optical disk basically consists of a transparent substrate and various recording media coated thereon.

光ディスクの透明基板には無色透明な合成樹脂が用いら
れるケースが多く、その代表的なものとしてポリカーボ
ネート(以下、rPCJと略称する。)又はポリメチル
メタクリレート(以下、rPMMAJと略称する。)を
挙げることができる。これらの樹脂は無色透明性に秀い
でる他、夫々に固有の優れた性質を有するものではある
が、光学材料、特に光デイスク基板としての要件を全て
備えている訳ではなく、解決すべき問題点を有している
。例えば、PCにおいてはその芳香族環に起因する複屈
折性の問題があり、また、吸水性或いは透水性において
も問題がある。一方、PMMAにおいては、耐熱性、吸
水性、靭性の面における問題点がかねてより指摘されて
いる。
Colorless and transparent synthetic resins are often used for the transparent substrates of optical discs, and typical examples include polycarbonate (hereinafter abbreviated as rPCJ) and polymethyl methacrylate (hereinafter abbreviated as rPMMAJ). I can do it. Although these resins are excellent in colorless transparency and have unique and excellent properties, they do not meet all the requirements for optical materials, especially optical disk substrates, and there are problems that need to be solved. It has points. For example, PC has a problem with birefringence due to its aromatic ring, and also has problems with water absorption or water permeability. On the other hand, problems with PMMA in terms of heat resistance, water absorption, and toughness have been pointed out for some time.

このように、これらの樹脂は夫々固有の問題点を内在さ
せつつ使用に供されているのであるが、実際には更に、
これらの樹脂よりなる透明基板の上にコートされる記録
媒体との関係において、後述のような新たな問題が生じ
ている。
In this way, these resins are used with their own inherent problems, but in reality, there are also
In relation to recording media coated on transparent substrates made of these resins, new problems have arisen as described below.

一方、記録媒体については、従来より光ディスクの用途
に応じて多岐にわたる開発が行なわれている0例えば、
ライト・ワンス型と呼ばれる記録−再生専用のものでは
穴あけタイプのものが、またイレーザブル型と呼ばれる
、記録−再生一消去一再記録用のものでは、結晶社務現
象を利用した相転移タイプのもの、光磁気効果を利用し
た光磁気タイプのもの等が知られている。これらの記録
媒体用材料は、ライト・ワンス型ではテルル又はその酸
化物、合金化合物等、イレーザブル型では、GdFe、
TbFe、GdFeCo、TbFeCoといった希土類
−遷移金属のアモルファス合金化合物等、無機系材料が
主流とされており、一般に高真空下でのスパッタリング
等の乾式処決により、透明基板上に成膜することにより
形成されている。
On the other hand, regarding recording media, a wide variety of developments have been carried out depending on the use of optical discs.
The write-once type is a hole-drilling type that is only for recording and playback, and the erasable type is a phase change type that utilizes crystalline phenomena, and the erasable type is a type that uses the crystalline phenomenon. Magneto-optical types that utilize magnetic effects are known. These recording media materials include tellurium or its oxide, alloy compound, etc. for the write-once type, and GdFe, GdFe, etc. for the erasable type.
Inorganic materials such as rare earth-transition metal amorphous alloy compounds such as TbFe, GdFeCo, and TbFeCo are mainstream, and are generally formed by forming a film on a transparent substrate using a dry process such as sputtering under a high vacuum. has been done.

ところで、PC% PMMAの吸湿性及び透水性は、一
方では基板自身の吸湿時の膨張によるソリの問題を引き
起こすものであるが、他方1、基板を通しての水分の透
過により記録媒体の腐蝕を引き起こし、光デイスク基板
の寿命を縮める原因となっている。
By the way, the hygroscopicity and water permeability of PC% PMMA, on the one hand, cause the problem of warpage due to expansion of the substrate itself when it absorbs moisture, but on the other hand, on the other hand, it causes corrosion of the recording medium due to moisture permeation through the substrate. This causes the lifespan of the optical disk board to be shortened.

また、基板用樹脂の耐熱性について更に言及すれば、次
のような問題がある。即ち、光ディスク、特にライト・
ワンス型、イレーザブル型等の光ディスクにおいては、
記録の書き込み、消去時の記録媒体の温度は200℃以
上にもなる。このため、ディスク基板にこの熱が直接か
かることは無いにしても、記録の書き込み、消去時には
基板が相当高温になることが予想され、耐熱性の低い樹
脂では、基板の変形成いはグループの変形等の問題が起
こり得る。
Further, regarding the heat resistance of the substrate resin, there are the following problems. That is, optical discs, especially light discs,
For optical discs such as once type and erasable type,
The temperature of the recording medium during writing and erasing of records reaches 200° C. or higher. For this reason, even though this heat is not directly applied to the disk substrate, it is expected that the substrate will reach a considerably high temperature when writing and erasing records, and resins with low heat resistance may cause deformation of the substrate or group formation. Problems such as deformation may occur.

一方、光ディスクの生産工程においては、基板或いは記
録媒体の経時変化防止等の目的で、熱処理工程を取り入
れることが多いが、生産性の向上のためには、できるだ
け高い処理温度で処理することにより処理時間を短縮す
ることが望まれる。
On the other hand, in the production process of optical discs, a heat treatment process is often incorporated in order to prevent aging of the substrate or recording medium. It is desirable to shorten the time.

この様な観点からも、樹脂の耐熱性が低いと高い処理温
度を採用することができず、生産性を上げることかでき
ないという不具合がある。
From this point of view as well, if the heat resistance of the resin is low, a high treatment temperature cannot be used and productivity cannot be increased.

このようなことから、光ディスクの生産工程或いは使用
状況の高温度に耐えるには、耐熱性の低いPMMAでは
全く不十分であり、従来においては専ら、より耐熱性の
高いPCが透明基板材料として検討されている。しかし
ながら、PCでも必ずしも耐熱性が十分であるという評
価を受けているわけではなく、より高い耐熱性を備える
樹脂材料の出現が望まれている。
For these reasons, PMMA, which has low heat resistance, is completely insufficient to withstand the high temperatures of the optical disc production process and usage conditions, and conventionally, PC, which has higher heat resistance, has been exclusively considered as a transparent substrate material. has been done. However, even PC is not necessarily evaluated as having sufficient heat resistance, and the emergence of resin materials with higher heat resistance is desired.

PC,PMMA等の従来の樹脂の欠点を補うものとして
、特開昭63−43910.特願昭62−157324
において、ポリビニルシクロヘキサン系樹脂を光デイス
ク基板として用いる方法が提案されている。
To compensate for the drawbacks of conventional resins such as PC and PMMA, JP-A-63-43910. Patent application 1986-157324
, a method of using polyvinylcyclohexane resin as an optical disk substrate has been proposed.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、ポリビニルシクロヘキサン系樹脂を用い
た場合においても、必ずしも高特性光デイスク基板が得
られるわけではなく、耐熱性等の面で満足し得る結果が
得られていないのが現状である。
[Problems to be Solved by the Invention] However, even when polyvinylcyclohexane resin is used, it is not always possible to obtain a high-performance optical disk substrate, and satisfactory results have not been obtained in terms of heat resistance, etc. is the current situation.

本発明者等は、前記特許出願において提案されているポ
リビニルシクロヘキサン系樹脂を基板材料として用いた
光ディスクの製造上の問題等について詳細に検討した結
果、次のような知見を得た。
The inventors of the present invention have made the following findings as a result of a detailed study on the problems in manufacturing an optical disk using the polyvinylcyclohexane resin proposed in the above patent application as a substrate material.

ポリビニルシクロヘキサン系樹脂は、通常、ビニル芳香
族系重合体の芳香環の水添により得られ、一般にポリス
チレン同様の脆性高分子として知られている樹脂である
Polyvinylcyclohexane resin is usually obtained by hydrogenating the aromatic ring of a vinyl aromatic polymer, and is generally known as a brittle polymer similar to polystyrene.

前述した様にライト・ワンス型、イレーザブル型等の光
ディスクにおいては、その使用状況、生産工程において
、相当の熱履歴を受けることから、樹脂基板に対して高
い耐熱性が要求される。
As mentioned above, optical disks such as write-once type and erasable type are subjected to considerable heat history during their use and production process, so high heat resistance is required of the resin substrate.

また、ディスク基板用樹脂材料としては、少なくとも射
出成形の際の金型離型時に破損しない程度の靭性も要求
される。
Further, the resin material for the disk substrate is required to have at least a degree of toughness that will not cause damage during mold release during injection molding.

このような観点から、上述の従来の出願に記載されるポ
リビニルシクロヘキサン系樹脂を用いて光デイスク基板
を製造する場合について検討を行なった結果、これら従
来の出願に開示される重合体では、上記要求特性を満足
し得ないことが判明した。即ち、核水添率が高く耐熱性
の高い重合体では、分子量が低く、射出成形時に破損等
が発生することなどから、満足なディスク基板が得られ
なかった。一方、分子量低下が少ない重合体では、核水
添率が低く耐熱性が不十分であった。
From this point of view, we investigated the case of manufacturing optical disk substrates using the polyvinylcyclohexane resin described in the above-mentioned conventional applications, and found that the polymers disclosed in these conventional applications do not meet the above requirements. It was found that the characteristics could not be satisfied. That is, a polymer having a high nuclear hydrogenation rate and high heat resistance has a low molecular weight and may break during injection molding, so that a satisfactory disk substrate cannot be obtained. On the other hand, polymers with small molecular weight reductions had low nuclear hydrogenation rates and insufficient heat resistance.

本発明は上記従来の問題点を解決し、耐熱性に優れまた
成形性も良好なポリビニルシクロヘキサン系樹脂より構
成される基板を備える光ディスクを提供することを目的
とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and provide an optical disk equipped with a substrate made of a polyvinylcyclohexane resin that has excellent heat resistance and good moldability.

[課題を解決するための手段及び作用]本発明の光ディ
スクは、数平均分子量が50.000より大であり、軟
化点が150℃以上のポリビニルシクロヘキサン系樹脂
からなる基板を有することを特徴とする。
[Means and effects for solving the problems] The optical disc of the present invention is characterized by having a substrate made of a polyvinylcyclohexane resin having a number average molecular weight of more than 50.000 and a softening point of 150° C. or higher. .

即ち、本発明者等は、前述のポリビニルシクロヘキサン
系樹脂の耐熱性、成形性の改善について鋭意検討した結
果、特定の分子量及び軟化点を備えるポリビニルシクロ
ヘキサン系樹脂を用いることにより、ライト・ワンス型
、イレーザブル型等の苛酷な熱的条件下でも有効に使用
し得る光ディスクを高い生産性で得ることができること
を見出し、本発明に到達した。
That is, as a result of intensive studies on improving the heat resistance and moldability of the above-mentioned polyvinylcyclohexane-based resin, the present inventors have found that by using a polyvinylcyclohexane-based resin with a specific molecular weight and softening point, a light-once type, The inventors have discovered that it is possible to obtain, with high productivity, an optical disk that can be effectively used even under severe thermal conditions, such as an erasable disk, and have thus arrived at the present invention.

本発明で用いるポリビニルシクロヘキサン系樹脂の数平
均分子量が50,000以下であると樹脂の靭性が乏し
く、射出成形の際の金型離型時に基板の破損が起こる。
If the number average molecular weight of the polyvinylcyclohexane resin used in the present invention is 50,000 or less, the resin will have poor toughness and the substrate will be damaged during mold release during injection molding.

また、軟化点が150℃未満であると、ライト・ワンス
型、イレーザブル型等の光ディスクにおける記録の書き
込み、消去時の熱で、基板が反ったり、グループが変形
する等の問題が生じる。また、光ディスクの生産工程で
の熱処理温度を下げなければならず、特に従来検討され
ていたPCに比べ生産性が低下することとなる。
Further, if the softening point is less than 150° C., problems such as the substrate warping and the group deforming occur due to the heat generated during writing and erasing of records in write-once type, erasable type, etc. optical disks. In addition, the heat treatment temperature in the optical disk production process must be lowered, which results in lower productivity, especially compared to conventional PCs.

以下に本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

本発明で用いられるポリビニルシクロヘキサン系樹脂は
、好ましくはスチレン系重合体を核水添して得られる。
The polyvinylcyclohexane resin used in the present invention is preferably obtained by nuclear hydrogenation of a styrene polymer.

原料のスチレン系重合体としては、ビニル芳香族炭化水
素重合体或いはビニル芳香族炭化水素ブロック共重合体
が挙げられる。後者のビニル芳香族炭化水素ブロック共
重合体としてはビニル芳香族炭化水素重合体セグメント
(以下、「Aセグメント」と略称する。)と少なくとも
1 fffi以上の共役ジエン重合体セグメント(以下
、「Bセグメント」と略称する。)とから成るものが挙
げられる。
Examples of the raw material styrenic polymer include vinyl aromatic hydrocarbon polymers and vinyl aromatic hydrocarbon block copolymers. The latter vinyl aromatic hydrocarbon block copolymer includes a vinyl aromatic hydrocarbon polymer segment (hereinafter referred to as "A segment") and a conjugated diene polymer segment having at least 1 fffi (hereinafter referred to as "B segment"). ).

千ツマ−として用いられるビニル芳香族炭化水素として
は、スチレン、p−メチルスチレン、α−メチルスチレ
ン等を挙げることができ、特に代表的なものとしてスチ
レンが挙げられる。
Examples of the vinyl aromatic hydrocarbon used as the binder include styrene, p-methylstyrene, and α-methylstyrene, with styrene being a particularly representative example.

ビニル芳香族炭化水素重合体としては、これらのビニル
芳香族炭化水素1 fflよりなる単独重合体或いは2
種以上の共重合体が挙げられる。特に接着性等が要求さ
れる場合には、上記ビニル芳香族炭化水素と、これと共
重合可能な、極性基を持つ不飽和!#量体とを、ビニル
芳香族炭化水素重合体の特性が失なわれない範囲で共重
合して得られる共重合体を用いるのが好ましい。
As the vinyl aromatic hydrocarbon polymer, a homopolymer consisting of 1 ffl or 2 ffl of these vinyl aromatic hydrocarbons is used.
Copolymers of more than one species can be mentioned. In particular, when adhesion is required, unsaturated products with polar groups that can be copolymerized with the vinyl aromatic hydrocarbons mentioned above! It is preferable to use a copolymer obtained by copolymerizing the vinyl aromatic hydrocarbon polymer with #mer to the extent that the properties of the vinyl aromatic hydrocarbon polymer are not lost.

次に、ビニル芳香族炭化水素ブロック共重合体中のAセ
グメントとしては上述のビニル芳香族炭化水素重合体と
同様のものが挙げられる。また、ブロック共重合体中の
Bセグメントの共役ジエンとしては1.3−ブタジェン
、イソプレン、2゜3−ジメチル−1,3−ブタジェン
、1.3−ペンタジェン、1.3−へキサジエン等が挙
げられ、特に、1.3−ブタジェン、イソプレンが一般
的である。Aセグメント及びBセグメントからなるブロ
ック共重合体は、いわゆるリビングアニオン重合と称せ
られる公知の方法、例えば有機リチウム化合物を開始剤
とし、ヘキサン、ヘプタンの様な炭化水素溶媒中で重合
する方法等により容易に得ることができる。なお、この
ようなブロック共重合体中のAセグメントの含有量は8
0重量%以上、好ましくは90重量%以上、更に好まし
くは93重量%以上である。Aセグメントの含有量が8
0重量%未満の場合には、水素付加後に得られる樹脂の
耐熱性が低下し、光デイスク基板としては不適なものと
なる。
Next, examples of the A segment in the vinyl aromatic hydrocarbon block copolymer include those similar to those of the vinyl aromatic hydrocarbon polymer described above. In addition, examples of the conjugated diene of the B segment in the block copolymer include 1,3-butadiene, isoprene, 2゜3-dimethyl-1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, etc. In particular, 1,3-butadiene and isoprene are common. A block copolymer consisting of an A segment and a B segment can be easily produced by a known method called living anion polymerization, such as a method in which polymerization is performed using an organic lithium compound as an initiator in a hydrocarbon solvent such as hexane or heptane. can be obtained. In addition, the content of A segment in such a block copolymer is 8
The content is 0% by weight or more, preferably 90% by weight or more, and more preferably 93% by weight or more. A segment content is 8
If it is less than 0% by weight, the heat resistance of the resin obtained after hydrogenation will decrease, making it unsuitable for use as an optical disk substrate.

本発明において、このような原料スチレン系重合体の分
子量は、数平均分子量で80,000以上であることが
好ましい。スチレン系重合体の分子量が低過ぎると、水
素付加後得られる樹脂の耐熱性、靭性が低下する。分子
量の低下に伴う靭性の低下は、重合体中のジエン系重合
体の含有量が少いもの程著しい。従って、ジエン系重合
体を含まない重合体に関しては、数平均分子量が100
.000より犬であることが好ましい。−方、分子量の
上限については特に制限はないが、通常の場合、400
.000以下であることが好ましい。
In the present invention, the molecular weight of such raw material styrenic polymer is preferably 80,000 or more in terms of number average molecular weight. If the molecular weight of the styrenic polymer is too low, the heat resistance and toughness of the resin obtained after hydrogenation will decrease. The lower the content of the diene polymer in the polymer, the more remarkable the decrease in toughness accompanying the decrease in molecular weight. Therefore, for polymers that do not contain diene polymers, the number average molecular weight is 100.
.. A dog is more preferable than 000. - On the other hand, there is no particular restriction on the upper limit of the molecular weight, but in normal cases, 400
.. 000 or less is preferable.

ポリビニルシクロヘキサン系樹脂は、このようなスチレ
ン系重合体を、芳香族水素化能を有する水素化触媒の存
在下で、核水添して得ることができる。ここで使用され
る水素化触媒としては、例えばニッケル、コバルト、ル
テニウム、ロジウム、白金、パラジウム等の金属又はそ
の酸化物、塩、錯体及びこれらを活性炭、ケイソウ土、
アルミナ等の担体に担持したもの等が挙げられる。これ
らの中でも特にラネーニッケル、ラネーコバルト、安定
化ニッケル及びルテニウム、ロジウム又は白金のカーボ
ン又はアルミナ担持触媒が、反応性の面から好ましい。
Polyvinylcyclohexane resin can be obtained by nuclear hydrogenating such a styrene polymer in the presence of a hydrogenation catalyst capable of aromatic hydrogenation. Examples of the hydrogenation catalyst used here include metals such as nickel, cobalt, ruthenium, rhodium, platinum, and palladium, or their oxides, salts, and complexes, and activated carbon, diatomaceous earth, and their oxides, salts, and complexes.
Examples include those supported on a carrier such as alumina. Among these, Raney nickel, Raney cobalt, stabilized nickel and ruthenium, rhodium or platinum supported catalysts on carbon or alumina are particularly preferred from the viewpoint of reactivity.

核水添反応は、50〜250 k g / cゴの圧力
、100〜200℃の温度下にて、溶媒としてシクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、n−オクタン、デカリ
ン、テトラリン、ナフサ等の飽和炭化水素系溶媒を用い
て行なうのが好ましい。
The nuclear hydrogenation reaction is carried out at a pressure of 50 to 250 kg/c and a temperature of 100 to 200 °C using a saturated hydrocarbon solvent such as cyclohexane, methylcyclohexane, n-octane, decalin, tetralin, or naphtha as a solvent. It is preferable to use .

なお、通常、スチレン系重合体の核水添においては、副
反応として重合体の分子鎖の切断を伴う。この分子鎖切
断を防ぐために、水素化はできるだけ高い水素圧力で、
かつ短時間で行なうことが好ましい。
Note that nuclear hydrogenation of styrenic polymers usually involves scission of the molecular chains of the polymer as a side reaction. In order to prevent this molecular chain scission, hydrogenation is carried out at as high a hydrogen pressure as possible.
It is also preferable to carry out the process in a short period of time.

核水添反応による芳香核の核水添率は90%以上、特に
95%以上であることが好ましい。核水添率が低く、9
0%未満であると、得られる樹脂の耐熱性の低下、複屈
折の増大等の問題があり好ましくない。
It is preferable that the nuclear hydrogenation rate of the aromatic nucleus by the nuclear hydrogenation reaction is 90% or more, particularly 95% or more. Nuclear hydrogenation rate is low, 9
If it is less than 0%, there are problems such as a decrease in the heat resistance of the resulting resin and an increase in birefringence, which is not preferable.

本発明において、このようにして得られるポリビニルシ
クロヘキサン系樹脂の分子量は、原料となるスチレン系
重合体の組成、分子量、水素化(水添)条件等に依存し
、またその適正範囲も、組成により異なるが、通常、数
平均分子量で50,000より犬きく、好ましくは60
.000より大である。靭性の面からは、ジエン系重合
体の含有量が小であるもの程、分子量が高いことが要求
され、ジエン系重合体を含有しないものに関しては、分
子量は60,000より大であり、好ましくは70,0
00より犬であることが必要である。分子量の上限は、
成形性の面から規定されるが、通常は数平均分子量で3
00.000以下である。また、その軟化点は、サーモ
メカニカルアナライザーで測定した軟化点で150℃以
上、好ましくは160℃以上である。
In the present invention, the molecular weight of the polyvinylcyclohexane resin thus obtained depends on the composition, molecular weight, hydrogenation conditions, etc. of the styrene polymer as a raw material, and its appropriate range also depends on the composition. Although it varies, the number average molecular weight is usually greater than 50,000, preferably 60.
.. It is greater than 000. From the standpoint of toughness, the smaller the diene polymer content, the higher the molecular weight is required, and for those containing no diene polymer, the molecular weight is preferably greater than 60,000. is 70,0
It is necessary to be a dog than 00. The upper limit of molecular weight is
It is specified from the aspect of moldability, but usually the number average molecular weight is 3.
00.000 or less. Further, its softening point is 150°C or higher, preferably 160°C or higher, as measured by a thermomechanical analyzer.

このような本発明に係るポリビニルシクロヘキサン系樹
脂は、炭化水素系樹脂であるので、簡単な乾燥処理によ
り、樹脂中の水分を除くことができ、射出成形等の成形
に供することができる。なお、成形にあたっては、成形
中の樹脂の劣化を防止するための熱安定剤、酸化防止剤
等の添加剤を必要に応じて加えることができる。
Since the polyvinylcyclohexane resin according to the present invention is a hydrocarbon resin, water in the resin can be removed by a simple drying treatment, and it can be used for molding such as injection molding. Note that during molding, additives such as heat stabilizers and antioxidants may be added as necessary to prevent deterioration of the resin during molding.

本発明の光ディスクの基板の製造にあたっては、まず、
上記ポリビニルシクロヘキサン系樹脂に必要に応じて安
定剤等の添加剤を加えてリボンブレンダー、タンブラー
ブレンダー、ヘンシェルミキサー等で混合し、その後、
バンバリーミキサ−1−軸押出機、二軸押出機等で溶融
混錬し、ベレット形状とすることにより混合する。しか
して、このようにして得られたベレットを用い、成形温
度270〜330℃で射出成形することにより、透明性
、耐熱性等に優れ、光学歪の少ない光デイスク基板を得
ることができる。
In manufacturing the substrate of the optical disc of the present invention, first,
Additives such as stabilizers are added to the above polyvinylcyclohexane resin as necessary, and the mixture is mixed using a ribbon blender, tumbler blender, Henschel mixer, etc., and then
Banbury mixer: Melt and knead using a single-screw extruder, twin-screw extruder, etc., and mix by forming into a pellet shape. By injection molding the pellet thus obtained at a molding temperature of 270 to 330[deg.] C., it is possible to obtain an optical disk substrate with excellent transparency, heat resistance, etc. and low optical distortion.

このような光デイスク基板を用いて本発明の光ディスク
を製造する際には、該基板表面に金属蒸着等によりTe
又はこれの酸化物、合金化合物等、又はTbFe、Tb
FeCo、TbCo、DyFeCoといった希土類−1
穆金属のアモルファス合金化合物等の記録媒体の皮膜を
設け、これらを更に保護膜で覆う等の方法を採用するこ
とができる。
When manufacturing the optical disk of the present invention using such an optical disk substrate, Te is deposited on the surface of the substrate by metal vapor deposition or the like.
or its oxides, alloy compounds, etc., or TbFe, Tb
Rare earths such as FeCo, TbCo, and DyFeCo-1
It is possible to adopt a method such as providing a film of a recording medium such as an amorphous alloy compound of a black metal and further covering the film with a protective film.

[実施例] 以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。
[Examples] The present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples below, but the present invention is not limited to the following Examples unless it exceeds the gist thereof.

なお、以下の実施例及び比較例における各種物性は、次
の方法によって測定したものである。
In addition, various physical properties in the following Examples and Comparative Examples were measured by the following methods.

■ 数平均分子量ニ ゲル・パーミェーション・クロマトグラフィー(GPC
)により、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒として
ポリスチレンと同様に測定し、ポリスチレン換算の数平
均分子量を求めた。
■ Number average molecular weight Nigel permeation chromatography (GPC)
) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent in the same manner as polystyrene to determine the number average molecular weight in terms of polystyrene.

■ 核水添率(%): ポリビニルシクロヘキサン系樹脂をテトラヒドロフラン
(THF)に溶解し、UV吸収により測定した。
(2) Nuclear hydrogenation rate (%): Polyvinylcyclohexane resin was dissolved in tetrahydrofuran (THF) and measured by UV absorption.

■ 軟化点(℃): Dupont社製サーそ社製ニールアナライザーを用い
て、5℃/分の昇温速度で軟化温度を測定した。なお、
荷重は5g、試験片の厚みは3mmとした。
(2) Softening point (° C.): The softening temperature was measured at a heating rate of 5° C./min using a Neal Analyzer manufactured by Dupont and Surso. In addition,
The load was 5 g, and the thickness of the test piece was 3 mm.

■ 光ディスクの耐熱性測定: 記録媒体、保護膜をつけた光ディスクを、PINフォト
ダイオード差動検出器をもった動特性検出器によりキャ
リアレベル(C/N比)(AJ2膜を用いた場合をOd
Bとする)を測定した。測定は、100℃で2時間の熱
処理の前後で行ない、結果を比較した。
■ Measurement of heat resistance of optical discs: Recording media and optical discs with protective films are measured using a dynamic characteristic detector equipped with a PIN photodiode differential detector to measure the carrier level (C/N ratio) (Od when using AJ2 film).
B) was measured. Measurements were performed before and after heat treatment at 100° C. for 2 hours, and the results were compared.

なお、記録、再生条件は下記の通りとした。The recording and reproducing conditions were as follows.

記録条件:CAV(定角速度)1800rpm半径30
mm位置、溝上記録 記録周波数0.5MHz duty50% 再生条件: CAV 1800 rpm再生パワー0.
8mW 実施例1 スチレン単独重合体の水添により得られた、数平均分子
量70,000、核水添率99%、軟化点171℃のポ
リビニルシクロヘキサン100重量部に、熱安定剤とし
て、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)コブロビオネートメタ
ン(日本チバガイギー社製IrganoxlO10)及
びテトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル−4,
4′−ビフェニレンホスフォナイト(同I rgaph
os−PEPQ)各0.2重量部を添加し、押出機を用
いて260℃で溶融混練を行ないベレット化した。
Recording conditions: CAV (constant angular velocity) 1800 rpm radius 30
mm position, recording on the groove Recording frequency 0.5 MHz duty 50% Reproduction conditions: CAV 1800 rpm reproduction power 0.
8 mW Example 1 Tetrakis [methylene -3-(3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)cobrobionate methane (IrganoxlO10, manufactured by Ciba Geigy, Japan) and tetrakis(2,4-di-t-butylphenyl-4,
4'-biphenylene phosphonite (I rgaph
os-PEPQ) was added, and melt-kneaded at 260° C. using an extruder to form pellets.

このペレットを射出成形機(名機社製rM−140AJ
)を用いて、可動金型側にグループ付スタンパ−を取り
付け、樹脂温度300℃で厚さ1.2mm、直径130
mmの円盤状光デイスク基板を成形した。
The pellets were molded using an injection molding machine (rM-140AJ manufactured by Meiki Co., Ltd.).
), attach a stamper with a group to the movable mold side, and stamp a stamper with a thickness of 1.2 mm and a diameter of 130 mm at a resin temperature of 300°C.
A disc-shaped optical disk substrate with a diameter of mm was molded.

得られた基板をスパッタリング装置に装入し、まず8x
lO−’torr以下まで排気し、Arと02との混合
ガスを用いてTaターゲットの反応性スパッタを行ない
Ta205からなる干渉層(Jg、ざaooA)を形成
した。次いで、Tbターゲット及びFeCoターゲット
を用いたArガスによる2元同時スパッタにより、Tb
FeCoの記録層(厚さ30OA)を設けた。更に、T
iチップを配置したA℃ツタ−ットをArガス中でスパ
ッタして厚さ300Aの反射層を形成した。
The obtained substrate is loaded into a sputtering device, and first
The atmosphere was evacuated to below 10-'torr, and a Ta target was reactively sputtered using a mixed gas of Ar and 02 to form an interference layer (Jg, zaooA) made of Ta205. Next, by simultaneous binary sputtering with Ar gas using a Tb target and a FeCo target, Tb
A FeCo recording layer (thickness: 30 OA) was provided. Furthermore, T
A reflective layer having a thickness of 300 A was formed by sputtering an A.degree. C. tube on which an i-chip was placed in Ar gas.

得られた光ディスクの熱処理前のキャリアレベル(C/
N比)は60.8dBであり、熱処理後も変化がなかっ
た。また、グループ形状にも変化はなかった。
The carrier level (C/
The N ratio) was 60.8 dB and remained unchanged even after heat treatment. There was also no change in group shape.

実施例2 アニオン重合により合成したスチレン−ブタジェン−ス
チレンブロック共重合体(ブタジエ、ン含量5重二%)
を核水添して得られた数平均分子量61.000、核水
添率99%、軟化点165℃のポリビニルシクロヘキサ
ン−(エチレン−ブテン−1)−ビニルシクロヘキサン
ブロック共重合体を用い、実施例1と同様に基板成形、
記録層形成を行なった。
Example 2 Styrene-butadiene-styrene block copolymer synthesized by anionic polymerization (butadiene content: 5%)
Using a polyvinylcyclohexane-(ethylene-butene-1)-vinylcyclohexane block copolymer with a number average molecular weight of 61.000, a nuclear hydrogenation rate of 99%, and a softening point of 165°C obtained by nuclear hydrogenation of Similar to 1, substrate molding,
A recording layer was formed.

得られた光ディスクの熱処理前のキャリアレベル(C/
N比)は60.5dBであり、熱処理後も変化がなかっ
た。また、グループ形状にも変化はなかった。
The carrier level (C/
The N ratio) was 60.5 dB and remained unchanged even after heat treatment. There was also no change in group shape.

比較例1 スチレン単独重合体を核水添して得られた、数平均分子
量35,000、核水添率97%、軟化点156℃のポ
リビニルシクロヘキサンを用いて、実施例1と同様に射
出成形を行なった。その結果、分子量が低く、樹脂が脆
いため、金型離型時に基板にクラックが入り、正常な基
板が得られなかった。従って、光ディスクとしての評価
は行なえなかった。
Comparative Example 1 Injection molding was carried out in the same manner as in Example 1 using polyvinylcyclohexane, which was obtained by nuclear hydrogenation of a styrene homopolymer and had a number average molecular weight of 35,000, a nuclear hydrogenation rate of 97%, and a softening point of 156°C. I did it. As a result, since the molecular weight was low and the resin was brittle, cracks appeared in the substrate when the mold was released, and a normal substrate could not be obtained. Therefore, it was not possible to evaluate it as an optical disc.

比較例2 スチレン単独共重合体を核水添して得た、数平均分子量
ao、ooo、核水添率82%、軟化点125℃のビニ
ルシクロヘキサン−スチレン共重合体を用いて、実施例
1と同様に基板成形、記録層形成を行なった。
Comparative Example 2 Using a vinylcyclohexane-styrene copolymer obtained by nuclear hydrogenation of a styrene homocopolymer, having a number average molecular weight ao, ooo, a nuclear hydrogenation rate of 82%, and a softening point of 125°C, Example 1 The substrate molding and recording layer formation were carried out in the same manner as described above.

得られた光ディスクに熱処理を施したところ、耐熱性が
低いためにグループ形状力(変化した。
When the obtained optical disk was subjected to heat treatment, the group shape force (changed) due to its low heat resistance.

以上の結果をまとめて第1表に示す。The above results are summarized in Table 1.

第1表 第1表より明らかなように、本発明によれ番z、耐熱性
、光磁気記録特性に優れた光デイスク力<)是供される
As is clear from Table 1, the present invention provides an optical disk with excellent thickness z, heat resistance, and magneto-optical recording characteristics.

[発明の効果コ 以上詳述した通り、本発明の光ディスクによれば、耐熱
性、透明性等に優れ、低吸湿性、イ氏複屈折性で光特性
が著しく良好な光ディスクであって、その基板成形性、
生産性も良好な光ディスクが提供される。
[Effects of the Invention] As detailed above, the optical disc of the present invention has excellent heat resistance, transparency, etc., low hygroscopicity, I birefringence, and extremely good optical characteristics. Substrate formability,
An optical disc with good productivity is provided.

代理人  弁理士  重 野  剛Agent: Patent attorney Tsuyoshi Shigeno

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)数平均分子量が50,000より大であり、軟化
点が150℃以上のポリビニルシクロヘキサン系樹脂か
らなる基板を有することを特徴とする光ディスク。
(1) An optical disc characterized by having a substrate made of a polyvinylcyclohexane resin having a number average molecular weight of more than 50,000 and a softening point of 150° C. or more.
JP63149845A 1988-06-17 1988-06-17 optical disk Expired - Lifetime JP2668945B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63149845A JP2668945B2 (en) 1988-06-17 1988-06-17 optical disk

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63149845A JP2668945B2 (en) 1988-06-17 1988-06-17 optical disk

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01318015A true JPH01318015A (en) 1989-12-22
JP2668945B2 JP2668945B2 (en) 1997-10-27

Family

ID=15483911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63149845A Expired - Lifetime JP2668945B2 (en) 1988-06-17 1988-06-17 optical disk

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2668945B2 (en)

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5073427A (en) * 1989-07-28 1991-12-17 Mitsubishi Kasei Corporation Substrate of optical disc
US5178926A (en) * 1991-03-18 1993-01-12 Mitsubishi Kasei Corporation Hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon polymer composition and optical disc substrate
WO2000034340A1 (en) * 1998-12-04 2000-06-15 Nippon Zeon Co., Ltd. Hydrogenated polymers, resin composition, and process for producing substrate for information-recording medium
WO2000070607A1 (en) * 1999-05-12 2000-11-23 Bayer Aktiengesellschaft Substrates for optical storage media
WO2001012680A1 (en) * 1999-08-12 2001-02-22 Zeon Corporation Alicyclic hydrocarbon copolymer
US6299802B1 (en) 1999-09-08 2001-10-09 The Dow Chemical Company Method of producing optical media discs from hydrogenated block copolymers
US6426390B1 (en) 1999-06-11 2002-07-30 Dow Global Technology Inc. Hydrogenated block copolymer compositions
WO2002059173A1 (en) * 2001-01-25 2002-08-01 Teijin Limited Improved hydrogenated styrene/conjugated diene/styrene block copolymer and process for production thereof
JP2003502456A (en) * 1999-06-11 2003-01-21 ザ ダウ ケミカル カンパニー Hydrogenated block copolymer and optical media disk produced therefrom
JP2003502471A (en) * 1999-06-11 2003-01-21 ザ ダウ ケミカル カンパニー Compositions comprising hydrogenated block copolymers and their end uses
US6815475B2 (en) 1999-06-11 2004-11-09 Dow Global Technologies Inc. Compositions comprising hydrogenated block copolymers and end-use applications thereof
US6914091B2 (en) 1999-06-11 2005-07-05 The Dow Chemical Company Compositions comprising hydrogenated block copolymers and end-use applications thereof

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5073427A (en) * 1989-07-28 1991-12-17 Mitsubishi Kasei Corporation Substrate of optical disc
US5178926A (en) * 1991-03-18 1993-01-12 Mitsubishi Kasei Corporation Hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon polymer composition and optical disc substrate
WO2000034340A1 (en) * 1998-12-04 2000-06-15 Nippon Zeon Co., Ltd. Hydrogenated polymers, resin composition, and process for producing substrate for information-recording medium
US6433102B1 (en) 1998-12-04 2002-08-13 Nippon Zeon Co., Ltd. Hydrogenated polymers, resin composition, and process for producing substrate for information-recording medium
WO2000070607A1 (en) * 1999-05-12 2000-11-23 Bayer Aktiengesellschaft Substrates for optical storage media
US6426390B1 (en) 1999-06-11 2002-07-30 Dow Global Technology Inc. Hydrogenated block copolymer compositions
JP2003502456A (en) * 1999-06-11 2003-01-21 ザ ダウ ケミカル カンパニー Hydrogenated block copolymer and optical media disk produced therefrom
JP2003502471A (en) * 1999-06-11 2003-01-21 ザ ダウ ケミカル カンパニー Compositions comprising hydrogenated block copolymers and their end uses
US6815475B2 (en) 1999-06-11 2004-11-09 Dow Global Technologies Inc. Compositions comprising hydrogenated block copolymers and end-use applications thereof
US6914091B2 (en) 1999-06-11 2005-07-05 The Dow Chemical Company Compositions comprising hydrogenated block copolymers and end-use applications thereof
WO2001012680A1 (en) * 1999-08-12 2001-02-22 Zeon Corporation Alicyclic hydrocarbon copolymer
US6686430B1 (en) 1999-08-12 2004-02-03 Zeon Corporation Alicyclic hydrocarbon copolymer
US6299802B1 (en) 1999-09-08 2001-10-09 The Dow Chemical Company Method of producing optical media discs from hydrogenated block copolymers
WO2002059173A1 (en) * 2001-01-25 2002-08-01 Teijin Limited Improved hydrogenated styrene/conjugated diene/styrene block copolymer and process for production thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2668945B2 (en) 1997-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2995884B2 (en) Hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon polymer composition and optical disk substrate
EP1196458B1 (en) Hydrogenated block copolymers and optical media discs produced therefrom
US6632890B1 (en) Hydrogenated block copolymer compositions
JP2668945B2 (en) optical disk
JP2962291B2 (en) Optical disk substrate
EP1218420B1 (en) Hydrogenated block copolymers and optical media discs produced therefrom
JP2730053B2 (en) Substrate forming material for optical disks
EP1196456B1 (en) Hydrogenated block copolymers and optical media discs produced therefrom
JP2725402B2 (en) Hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon polymer composition and optical disk substrate
JPH01317728A (en) Production of optical disk substrate made of polyvinyl cyclohexane resin
US20030170564A1 (en) Optical recording medium and substrate for use therein
JPH01294753A (en) Optical disc base
US6632500B1 (en) Laminated disc and information recording disc
JPH03130943A (en) Optical disk substrate
JPH04315832A (en) Optical disk substrate
JPH0359832A (en) Optical disk substrate
EP1270606A1 (en) Hydrogenated styrene polymer and optical-disk substrate
JPH03160051A (en) Hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon resin composition and optical disc substrate
US20020037961A1 (en) Hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon polymer composition and an optical disk substrate
JPH0359833A (en) Optical disk substrate
US20010048991A1 (en) Compositions for flexible optical media discs
JP3173096B2 (en) Optical disk substrate
JPH0625326A (en) Hydrogenated alkoxy-substituted styrene copolymer
WO2001042355A1 (en) Hydrogenated block copolymer compositions for thin wall injection molding applications
JPH0334119A (en) Information recording carrier

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080704

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term