JPH01310734A - 流動固体接触容器 - Google Patents
流動固体接触容器Info
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- JPH01310734A JPH01310734A JP1024108A JP2410889A JPH01310734A JP H01310734 A JPH01310734 A JP H01310734A JP 1024108 A JP1024108 A JP 1024108A JP 2410889 A JP2410889 A JP 2410889A JP H01310734 A JPH01310734 A JP H01310734A
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- grid plate
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
-
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- B01J8/18—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
- B01J8/1872—Details of the fluidised bed reactor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/00017—Controlling the temperature
- B01J2208/00477—Controlling the temperature by thermal insulation means
- B01J2208/00495—Controlling the temperature by thermal insulation means using insulating materials or refractories
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
- B01J2208/00884—Means for supporting the bed of particles, e.g. grids, bars, perforated plates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は流動固体の接触装置用のグリッド支持体に関す
る。より具体的には、本発明はグリッドの圧力荷重が支
持体から接触容器へ効果的に伝達される方法で流動固体
接触装置内にグリッドを支持し、それによりグリッドと
支持体間の接点亀裂を低減し、かつグリッドと容器間に
存在する熱勾配を調節するものである。従って、本発明
は触媒または非触媒の微細分割されｔＣ固体を高温、例
えば、約１３５０”Ｆの温度で液体またはガス流体で流
体化して処理する、またはそれと反応させる容器に特に
適している。実際に、本発明は流体触媒亀裂系における
触媒再生機に特に適している。
る。より具体的には、本発明はグリッドの圧力荷重が支
持体から接触容器へ効果的に伝達される方法で流動固体
接触装置内にグリッドを支持し、それによりグリッドと
支持体間の接点亀裂を低減し、かつグリッドと容器間に
存在する熱勾配を調節するものである。従って、本発明
は触媒または非触媒の微細分割されｔＣ固体を高温、例
えば、約１３５０”Ｆの温度で液体またはガス流体で流
体化して処理する、またはそれと反応させる容器に特に
適している。実際に、本発明は流体触媒亀裂系における
触媒再生機に特に適している。
当業界に既知の通り、流動固体接触系内のグリラドプレ
ートを支持する方法は種々ある。例えば、アメリカ合衆
国特許束２．５９５．３８４に記載された触媒再生機に
おいて、グリッドプレートは該再生機容器内の耐火押縁
上に載せた円筒状スカートによって支持されている。
ートを支持する方法は種々ある。例えば、アメリカ合衆
国特許束２．５９５．３８４に記載された触媒再生機に
おいて、グリッドプレートは該再生機容器内の耐火押縁
上に載せた円筒状スカートによって支持されている。
アメリカ合衆国特許束２．８３６．９０２には、深皿状
グリッドプレートを吊下げる円形状支持体が開示されて
いる。この円形状支持体はグリッド上の一点で容器壁部
に溶接されており、これはグリッドプレートに溶接また
は固定されていてよい。
グリッドプレートを吊下げる円形状支持体が開示されて
いる。この円形状支持体はグリッド上の一点で容器壁部
に溶接されており、これはグリッドプレートに溶接また
は固定されていてよい。
アメリカ合衆国特許束４．２９２．０２３には、ガスデ
イストリビユータを少なくとも１部で台形側壁によって
支持した流動ベツド燃焼器が開示されている。
イストリビユータを少なくとも１部で台形側壁によって
支持した流動ベツド燃焼器が開示されている。
アメリカ合衆国特許束４．３５９．３２６はグリッドプ
レートを２個の環状囲、１個は他のものより小径である
により支持した装置を開示している。
レートを２個の環状囲、１個は他のものより小径である
により支持した装置を開示している。
上記文献が明らかなように、様々な構造のものが流動固
体反応器内にり゛リッドプレートを支持するために採用
されている。これらの設計中のあるものは、特に、グリ
ッドと反応器間に、特に循環中に生じる熱膨脹および収
縮の調節に関する。しかし、流動固体接触法で採用され
る上昇しつづける温度によってグリッドプレートと容器
シェルとの間の熱勾配は大きくなり、熱応力の調整の改
善を必要とする。また、グリッドプレートと容器壁との
間の圧力荷重によって流動固体接触装置内に応力が生じ
る。従って、グリッドプレート、具体的には流動固体接
触装置内の容器壁からフラットなグリッドプレートを支
持する構造の改善が必要とされている。
体反応器内にり゛リッドプレートを支持するために採用
されている。これらの設計中のあるものは、特に、グリ
ッドと反応器間に、特に循環中に生じる熱膨脹および収
縮の調節に関する。しかし、流動固体接触法で採用され
る上昇しつづける温度によってグリッドプレートと容器
シェルとの間の熱勾配は大きくなり、熱応力の調整の改
善を必要とする。また、グリッドプレートと容器壁との
間の圧力荷重によって流動固体接触装置内に応力が生じ
る。従って、グリッドプレート、具体的には流動固体接
触装置内の容器壁からフラットなグリッドプレートを支
持する構造の改善が必要とされている。
本発明は上記従来の流動固体接触装置の欠点を改良しよ
うとするものである。
うとするものである。
上記課題を解決するための本発明による流動固体接触装
置は、グリッドプレート、特にフラットなグリッドプレ
ートを水平に内設した流動体容器において該グリッドプ
レートを支持する円錐形支持体を有し、該円錐形支持体
が該グリッドプレートの実質的外周から下方へ所定間隔
であって垂直軸から所定角度で内方向へ延びかつ続いて
該容器の底壁部へ垂直に下降していることを特徴とする
ものである。
置は、グリッドプレート、特にフラットなグリッドプレ
ートを水平に内設した流動体容器において該グリッドプ
レートを支持する円錐形支持体を有し、該円錐形支持体
が該グリッドプレートの実質的外周から下方へ所定間隔
であって垂直軸から所定角度で内方向へ延びかつ続いて
該容器の底壁部へ垂直に下降していることを特徴とする
ものである。
上記円錐形支持体、即ち円錐形スカートは好ましくは垂
直軸から測って約２０°から約４５°の範囲の角度、更
に好ましくは約３０°の角度で該スカートの長さの約１
／３から１／２に相当する距離分、即ち概ね該スカート
の半分長が内方向へ下降している。
直軸から測って約２０°から約４５°の範囲の角度、更
に好ましくは約３０°の角度で該スカートの長さの約１
／３から１／２に相当する距離分、即ち概ね該スカート
の半分長が内方向へ下降している。
上記構成により、本発明のグリッド支持スカートは、基
本的に、グリッドと容器壁との間の熱膨伝達し、それに
より支持構造を潜在的に損傷する応力を低減する。
本的に、グリッドと容器壁との間の熱膨伝達し、それに
より支持構造を潜在的に損傷する応力を低減する。
本発明によるグリッド支持体の重要な特徴は添付図面を
参照して以下に詳述する。
参照して以下に詳述する。
添伺図面は本発明の実施例態様を示す。
第１図において、流動固体接触容器１０は概ね半円形頂
部８および円錐形または半円形底壁部７を有する概ね円
筒状の側壁９を有する。グリッドプレート１１は水平に
容器１０内に設定され、該グリッドの熱膨脹を可能にす
るだけの空間を容器側壁９との間に有する。当然のこと
ながら、該グリッドは該容器の直径を横切って流動ガス
を十分に流通させる適当な孔を具備する。
部８および円錐形または半円形底壁部７を有する概ね円
筒状の側壁９を有する。グリッドプレート１１は水平に
容器１０内に設定され、該グリッドの熱膨脹を可能にす
るだけの空間を容器側壁９との間に有する。当然のこと
ながら、該グリッドは該容器の直径を横切って流動ガス
を十分に流通させる適当な孔を具備する。
本発明の実施例において、上記グリッドプレートはフラ
ットであるのが特に好ましい。ただし、凹凸プレートで
あっても、同様に本発明の特異の支持構造により支持さ
れうる。
ットであるのが特に好ましい。ただし、凹凸プレートで
あっても、同様に本発明の特異の支持構造により支持さ
れうる。
第１図に示したように、反応器１０は流動ガスを導入す
る入口６と該ガスを排出する出口５とを具備する。また
、該反応器１０はその中で再生される触媒のような粒状
物を導入するためのパイプ４、および粒子、即ち再生触
媒を排除する降下管３を具備する。該容器はサイクロン
（図示せず）およびかかる再生容器の他の通常の構成部
材を具備していてよい。
る入口６と該ガスを排出する出口５とを具備する。また
、該反応器１０はその中で再生される触媒のような粒状
物を導入するためのパイプ４、および粒子、即ち再生触
媒を排除する降下管３を具備する。該容器はサイクロン
（図示せず）およびかかる再生容器の他の通常の構成部
材を具備していてよい。
作用において、流動固体２のベツドは入口６を介して上
記容器内に導入された流動ガスにより上記グリッド１１
上に浮遊する。流動ガスは当然のことながら、該グリッ
ドを通って上昇し出口５を介して排出される。
記容器内に導入された流動ガスにより上記グリッド１１
上に浮遊する。流動ガスは当然のことながら、該グリッ
ドを通って上昇し出口５を介して排出される。
第１図から明らかなように、上記グリッドプレート１１
は後述する円錐形スカート１２により支持されている。
は後述する円錐形スカート１２により支持されている。
選択的にまたは好ましくは、コラム１３は該グリッドの
付加的支持部として設けられている。
付加的支持部として設けられている。
円錐形スカート１２は第２図に詳細に示されている。第
２図から明らかなように、円錐形スカート１２はスカー
ト長の約１／３〜１／２、好ましくは約１／２長が下方
かつ内方へ延びている。該スカートは、続いて、上記反
応器の底壁部７へ向って実質的に垂直に下降している。
２図から明らかなように、円錐形スカート１２はスカー
ト長の約１／３〜１／２、好ましくは約１／２長が下方
かつ内方へ延びている。該スカートは、続いて、上記反
応器の底壁部７へ向って実質的に垂直に下降している。
第２図のごとく円錐形スカート１２の垂直軸に対する内
角αは約２０’〜４５°の範囲、好ましくは３０°であ
る。円錐形スカート１２は、例えばその頂部で上記グリ
ッドプレート１１の外周に溶接され、かつその下部で該
反応器の床７へ溶接されている。好ましくは該円錐形ス
カートは上スタブ２１を該スカートの頂部に有し、該上
スタブと該スカートの中央ウェブ２３との間に先細り状
転移部２２を有する。選択的にまたは好ましくは太い下
スタブ２５を有する。
角αは約２０’〜４５°の範囲、好ましくは３０°であ
る。円錐形スカート１２は、例えばその頂部で上記グリ
ッドプレート１１の外周に溶接され、かつその下部で該
反応器の床７へ溶接されている。好ましくは該円錐形ス
カートは上スタブ２１を該スカートの頂部に有し、該上
スタブと該スカートの中央ウェブ２３との間に先細り状
転移部２２を有する。選択的にまたは好ましくは太い下
スタブ２５を有する。
上述のごとく、流動触媒再生機においては、クリッドと
反応器壁との間に大きな温度差がある。
反応器壁との間に大きな温度差がある。
例えば、クリッドプレートは１２００’Ｆを越える温度
に達するが、該反応器壁は３００″Ｆから４５０”Ｆの
範囲の温度に達するにすぎない。本発明の円錐形スカー
トはこのような差のある温度勾配を調節するのに効果的
である。更に、本発明の円錐形スカートを利用すること
により、クリッドプレートの圧力荷重はグリッドプレー
トと円錐形スカートとの間へ効率的に伝達されるので、
存在するフラットなプレートと存在する円錐形スカート
間の接合部で亀裂原因となる応力を低減させる。
に達するが、該反応器壁は３００″Ｆから４５０”Ｆの
範囲の温度に達するにすぎない。本発明の円錐形スカー
トはこのような差のある温度勾配を調節するのに効果的
である。更に、本発明の円錐形スカートを利用すること
により、クリッドプレートの圧力荷重はグリッドプレー
トと円錐形スカートとの間へ効率的に伝達されるので、
存在するフラットなプレートと存在する円錐形スカート
間の接合部で亀裂原因となる応力を低減させる。
第１図、特に第３図を参照して、反応器１０はかかる容
器に採用されるのが典型である耐火絶縁材料等の絶縁材
３４によるライニングが施されている。円錐形スカート
１２と上記反応器壁との間の環状空間には圧縮絶縁材３
１が設けである。第３図に示したように、ライニング絶
縁材３４の先細り部３３は円錐形スカート１２の内側を
その長さの略３／４、好ましくは該スカート１２の先細
り部転移部２２位までを覆うように底壁部７から上昇し
ている。
器に採用されるのが典型である耐火絶縁材料等の絶縁材
３４によるライニングが施されている。円錐形スカート
１２と上記反応器壁との間の環状空間には圧縮絶縁材３
１が設けである。第３図に示したように、ライニング絶
縁材３４の先細り部３３は円錐形スカート１２の内側を
その長さの略３／４、好ましくは該スカート１２の先細
り部転移部２２位までを覆うように底壁部７から上昇し
ている。
第１図に関して上述したように、付加的コラム１３は上
記フラットなグリッド１１を支持するために使用されて
いる。このコラムの設置は第４から７図との関係で説明
する。
記フラットなグリッド１１を支持するために使用されて
いる。このコラムの設置は第４から７図との関係で説明
する。
第４図においてグリッドプレート１１は３個の同心リン
グビーム１４を具備し、好ましくは第４および５図に示
したＴ型ガセット１７を具備している。
グビーム１４を具備し、好ましくは第４および５図に示
したＴ型ガセット１７を具備している。
第６図から明らかなように、コラム１３はＵリンク１５
およびピン１６によりリングビーム１４に連結されてい
る。また第７図において、取付はブラケット１８はピン
１９を介してコラム１３の底部を固定するために反応器
の底壁部７に取り付けられている。コラム１３を反応器
壁に取り付ける他の手段、例えば、ボルト、溶接等が、
採用されてよい。
およびピン１６によりリングビーム１４に連結されてい
る。また第７図において、取付はブラケット１８はピン
１９を介してコラム１３の底部を固定するために反応器
の底壁部７に取り付けられている。コラム１３を反応器
壁に取り付ける他の手段、例えば、ボルト、溶接等が、
採用されてよい。
第１図は本発明の改良された円錐形グリッド支持体を有
する流動固体接触容器を概略的に示す。 第２図は本発明のグリッド支持体の１部の構造を示す説
明図である。 第３図は本発明のグリッド支持体と該支持体に対する耐
火ライニング材の好ましい位置を概略的に示す。 第４および５図はグリッドプレートのリングビームおよ
びガセット支持部を示す本発明のグリッドプレートの断
面概略図である。 第６および７図はそれぞれ本発明のグリッドプレートの
付加支持手段を概略的に示す。 ２・・・流動固体、 ３・・・降下管、４・・・
パイプ、 ５・・・出口、６・・・入口、 ７・・・容器の床または底壁部、 ９・・・側壁、 １０・・・流動固体接触容器または反応器、１１・・グ
リッドプレートまたはグリッド、１２・・・支持体また
はスカート、 １３・・・コラム、 １４・・・リングビーム、
１５・・・Ｕリンク、 １６・・・ピン、１７・・
・ガセット、 ２１・・・上スクブ、２２・・・転
移部、 ２３・・・中央ウェブ、２５・・・下ス
タブ、 ３１・・・圧縮絶縁材、３３・・・先細り
部、 ３４・・・絶縁材。
する流動固体接触容器を概略的に示す。 第２図は本発明のグリッド支持体の１部の構造を示す説
明図である。 第３図は本発明のグリッド支持体と該支持体に対する耐
火ライニング材の好ましい位置を概略的に示す。 第４および５図はグリッドプレートのリングビームおよ
びガセット支持部を示す本発明のグリッドプレートの断
面概略図である。 第６および７図はそれぞれ本発明のグリッドプレートの
付加支持手段を概略的に示す。 ２・・・流動固体、 ３・・・降下管、４・・・
パイプ、 ５・・・出口、６・・・入口、 ７・・・容器の床または底壁部、 ９・・・側壁、 １０・・・流動固体接触容器または反応器、１１・・グ
リッドプレートまたはグリッド、１２・・・支持体また
はスカート、 １３・・・コラム、 １４・・・リングビーム、
１５・・・Ｕリンク、 １６・・・ピン、１７・・
・ガセット、 ２１・・・上スクブ、２２・・・転
移部、 ２３・・・中央ウェブ、２５・・・下ス
タブ、 ３１・・・圧縮絶縁材、３３・・・先細り
部、 ３４・・・絶縁材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、グリッドプレートを水平に内設した流動固体接触容
器において、該グリッドプレートを支持するための円錐
形支持体を有し、該円錐形支持体が該グリッドプレート
の周囲から下方へ所定間隔であって垂直軸から所定角度
で内方へ延びかつ続いて該容器の底壁部へ垂直に下降し
ていることを特徴とする流動固体接触容器。 ２、上記角度が約２０°から約４０°の範囲である、請
求項１の容器。 ３、上記角度が３０°である、請求項１の容器。 ４、上記支持体は上記グリッドプレートの外周から支持
体長の約１／３から約１／２の間隔が円方に向って下降
している、請求項２の容器。 ５、上記間隔が上記支持体の長さの約１／２である、請
求項３の容器。 ６、上記支持体が上記グリッドプレートに取り付けられ
た支持体の端部で太部を、中間部でウェブ部を、かつ上
記底壁部に取り付けられた支持体の端部で太部を有する
、請求項５の容器。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US152804 | 1988-02-05 | ||
| US07/152,804 US4863699A (en) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | Grid with conical support skirt |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01310734A true JPH01310734A (ja) | 1989-12-14 |
Family
ID=22544521
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1024108A Pending JPH01310734A (ja) | 1988-02-05 | 1989-02-03 | 流動固体接触容器 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4863699A (ja) |
| EP (1) | EP0327383A3 (ja) |
| JP (1) | JPH01310734A (ja) |
| AR (1) | AR244104A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018516746A (ja) * | 2015-05-11 | 2018-06-28 | シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイＳｈｅｌｌ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｍａａｔｓｃｈａｐｐｉｊ Ｂｅｓｌｏｔｅｎ Ｖｅｎｎｏｏｔｓｈａｐ | 流動固体分配装置 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE462446B (sv) * | 1989-06-29 | 1990-06-25 | Abb Stal Ab | Foerraadsbehaallare foer baeddmaterial vid en kraftanlaeggning med braennkammare foer fluidiserad baedd |
| GB0208458D0 (en) * | 2002-04-12 | 2002-05-22 | Bp Chem Int Ltd | Support grid |
| CA2590411C (en) * | 2004-12-17 | 2013-09-17 | Niels Erikstrup | Reactor for a catalytic conversion reaction |
| FR2977259B1 (fr) * | 2011-06-28 | 2013-08-02 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif a profil specifique de reacteur de type lit a jet pour depot par cvd |
| US10118144B2 (en) | 2017-03-31 | 2018-11-06 | Uop Llc | Vessel for removing hydrocarbons on catalyst |
| KR20240026495A (ko) * | 2021-06-30 | 2024-02-28 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 플레이트 그리드 분배기 및 이를 사용하는 방법 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2595384A (en) * | 1950-12-07 | 1952-05-06 | Standard Oil Co | Grid seal for fluidized solids contacting systems |
| US2651565A (en) * | 1951-05-02 | 1953-09-08 | Universal Oil Prod Co | Apparatus for uniform distribution and contacting of subdivided solid particles |
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