JPH01309005A - レーザ反射鏡 - Google Patents
レーザ反射鏡Info
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- JPH01309005A JPH01309005A JP14071088A JP14071088A JPH01309005A JP H01309005 A JPH01309005 A JP H01309005A JP 14071088 A JP14071088 A JP 14071088A JP 14071088 A JP14071088 A JP 14071088A JP H01309005 A JPH01309005 A JP H01309005A
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- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 25
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 43
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 42
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 28
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 26
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 4
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 235000014347 soups Nutrition 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(7)技術分野
この発明は、CO□レーザやCOレーザなどの赤外レー
ザの光を反射するためのレーザ反射鏡に関する。
ザの光を反射するためのレーザ反射鏡に関する。
CO2レーザは、例えば10.6μmの波長の光を発す
る。高出力のレーザを得やすいので、機械加工、医療の
分野で使われる。小出力のものは、赤外用の光ファイバ
によって導波する事ができる。
る。高出力のレーザを得やすいので、機械加工、医療の
分野で使われる。小出力のものは、赤外用の光ファイバ
によって導波する事ができる。
大出力のCO2レーザ光は、光ファイバを通す事ができ
ない。熱損失が大きいので光ファイバが焼損するからで
ある。
ない。熱損失が大きいので光ファイバが焼損するからで
ある。
このため、大出力のCO2レーザ光は、ミラーで多重反
射する事により導波する。このために、反射率の高い反
射鏡が必要である。
射する事により導波する。このために、反射率の高い反
射鏡が必要である。
この反射鏡は、反射率が高いという事の他に、熱伝導率
が高い事、耐熱性に優れる事、化学変化しにくい事など
の特性が要求される。
が高い事、耐熱性に優れる事、化学変化しにくい事など
の特性が要求される。
CO2レーザの光は、エネルギーが高いので、反射鏡も
強(加熱される。この熱を速やかに除去しなければなら
ない。また、高い温度に耐え、酸化されてはならない。
強(加熱される。この熱を速やかに除去しなければなら
ない。また、高い温度に耐え、酸化されてはならない。
このため、上述の特性を持つ事が必要である。
ここで反射鏡というのは、平面鏡、凹面鏡、凸面鏡など
全ての形状の鏡を含む。
全ての形状の鏡を含む。
可視光と赤外光では、波長が違うので、同じ物質でも、
反射率、が違う。可視光用の鏡と赤外光用の鏡とでは、
最適の材料が異なる。
反射率、が違う。可視光用の鏡と赤外光用の鏡とでは、
最適の材料が異なる。
可視光用の鏡として、ガラスに金属を蒸着、メツキした
ものが用いられる。このようなものは、熱伝導性が悪(
、熱衝撃に弱いので、赤外光用に用いる事ができない。
ものが用いられる。このようなものは、熱伝導性が悪(
、熱衝撃に弱いので、赤外光用に用いる事ができない。
(イ)従来技術
赤外レーザ用反射鏡として、従来用いられてし)るもの
は、 ■ 鏡面加工された銅Cu、モリブデンMO、シリコン
Si1アルミニウムAIなどの金属単体よりなる鏡。
は、 ■ 鏡面加工された銅Cu、モリブデンMO、シリコン
Si1アルミニウムAIなどの金属単体よりなる鏡。
これらはいずれも、赤外光をよく反射する。
さらに、熱伝導度、耐熱性もよい。モリブデンは耐熱性
では優れるが、加工性は劣る。
では優れるが、加工性は劣る。
銅の反射鏡は、CO2レーザの10.6μmの光に対し
て、99%以上の反射率を持つ。反射率の点では、最も
優れたものである。また加工性もよく、熱伝導度も高く
、冷却しやすい。
て、99%以上の反射率を持つ。反射率の点では、最も
優れたものである。また加工性もよく、熱伝導度も高く
、冷却しやすい。
だから、銀単体の反射鏡がCO2レーザ光に対して使わ
れる事も多い。
れる事も多い。
■ 銅を主体として、この上に金Auの薄膜をコートし
た鏡。
た鏡。
銅Cuは上述の優れた点があるが、表面が柔く傷がつき
やすい。また酸化されやすい、という欠点を持つ。
やすい。また酸化されやすい、という欠点を持つ。
そこで、銅基板の上に金Auの薄膜をコートするのであ
る。これによって酸化を防ぐ事ができる。しかし、傷つ
きやすいという欠点を除く事はできない。
る。これによって酸化を防ぐ事ができる。しかし、傷つ
きやすいという欠点を除く事はできない。
銅以外の金属(Mo、Si、A4)の表面に、Auコー
トするものも考えられるが、その必要性が低いので現実
には存在しない。
トするものも考えられるが、その必要性が低いので現実
には存在しない。
■ 銅を主体として、この上に0.1〜05%のコバル
)Coを含む金Auの薄膜を形成した鏡。
)Coを含む金Auの薄膜を形成した鏡。
コバル)Coを金Auに混ぜてCo−Auの合金とし、
これを薄膜材料とする。Coを入れるのは、表面を硬く
するためである。coの量が多いと、反射率が低下する
ので望ましくない。
これを薄膜材料とする。Coを入れるのは、表面を硬く
するためである。coの量が多いと、反射率が低下する
ので望ましくない。
(つ)発明が解決しようとする問題点
反射率、熱伝導度、加工性の点から、銅の反射匁が赤外
レーザ光に最適である。先に述べた、Mo。
レーザ光に最適である。先に述べた、Mo。
Si、Alなどは、反射率、熱伝導度、加工性のいずれ
かに難点があり、最適のものとはいえない。
かに難点があり、最適のものとはいえない。
しかし、銅も柔かくて傷がつきやすい。また表面が酸化
しやすい。傷ついたり、酸化したりすると、赤外光に対
する反射率は著しく低くなり、鏡としての機能を果さな
い。
しやすい。傷ついたり、酸化したりすると、赤外光に対
する反射率は著しく低くなり、鏡としての機能を果さな
い。
そこで、銅を主体として、この上に金をコーティングし
たものもある。この場合、銅は反射率に寄与せず、熱の
良導体としての作用があるだけである。金の反射率が高
いので、反射鏡としては優れている。銅を伝わって、熱
が逃げる。高反射率、高熱伝導の性質を持つ。しかし、
金は柔いので、非常に傷つきやすい。
たものもある。この場合、銅は反射率に寄与せず、熱の
良導体としての作用があるだけである。金の反射率が高
いので、反射鏡としては優れている。銅を伝わって、熱
が逃げる。高反射率、高熱伝導の性質を持つ。しかし、
金は柔いので、非常に傷つきやすい。
表面に傷がつくと、反射率が低下する。この場合、金は
99.99%の高純度のものが使われる。
99.99%の高純度のものが使われる。
0.1〜0.5%のCoを含むAuによって薄膜を形成
するものもある。コバルトCOを入れるのはAuの硬度
を増すためである。
するものもある。コバルトCOを入れるのはAuの硬度
を増すためである。
しかし、これとて、Au薄膜の強度が充分でない。
やはり傷つきやすい、という難点がある。コバルトの量
を増すとAu薄膜の強さが増えるが、そうすると、反射
率が低下してくる。
を増すとAu薄膜の強さが増えるが、そうすると、反射
率が低下してくる。
00 目 的
赤外光をよく反射し、熱伝導度が高(、表面に傷がつき
にくく酸化しない赤外用の反射鏡を提供する事が本発明
の目的である。
にくく酸化しない赤外用の反射鏡を提供する事が本発明
の目的である。
(6)構 成
本発明のレーザ反射鏡は金属板上に、1〜20重量%の
Crを含む金Auの薄膜を形成したものである。
Crを含む金Auの薄膜を形成したものである。
ここで金属基板というのは、銅Cu、アルミA11モリ
ブデンMo 1シリコンSiなどである。この上に金の
薄膜をコーティングするのであるが、金の中に1〜20
重量%のCrを添加したところが新規なのである。
ブデンMo 1シリコンSiなどである。この上に金の
薄膜をコーティングするのであるが、金の中に1〜20
重量%のCrを添加したところが新規なのである。
クロムCrを加える事により、金薄膜が著しく強化され
る。このため金薄膜は傷つきにくい。化学的、物理的に
金薄膜を強化する、という事がCr添加の目的である。
る。このため金薄膜は傷つきにくい。化学的、物理的に
金薄膜を強化する、という事がCr添加の目的である。
Cr添加により耐蝕性も向上する。
金は化学的に安定し、酸化しない物質であるから、金薄
膜に傷がつかなければ酸化、腐蝕の問題はない。しかし
、金は柔く傷つきやすいので、地肌が露出する事がある
。そうなると、露出した部分から腐蝕、酸化が進行する
。
膜に傷がつかなければ酸化、腐蝕の問題はない。しかし
、金は柔く傷つきやすいので、地肌が露出する事がある
。そうなると、露出した部分から腐蝕、酸化が進行する
。
本発明では、AuにCrを加えて金薄膜を強くし、傷つ
かないようにしている。傷がつかなければ、酸化、腐蝕
は起こらない。
かないようにしている。傷がつかなければ、酸化、腐蝕
は起こらない。
しかし、Crを多量に加えると、反射率が低下して、反
射鏡にならない。
射鏡にならない。
反対に、Cr添加量が少いと、表面の硬度が十分なもの
にならない。
にならない。
そこで、クロム添加量と、反射率、表面硬度の関係を調
べる必要がある。
べる必要がある。
第1図は、その測定結果を示すグラフである。
基板は無酸素銅である。この上に、Crを含む金の薄膜
をイオンブレーティング法によって形成した。CrのA
uに対する重量%を横軸にとっである。
をイオンブレーティング法によって形成した。CrのA
uに対する重量%を横軸にとっである。
縦軸は反射率と、ヌープ硬さである。
反射率は10.6μmのC02レーザの光に対するもの
である。
である。
ヌープ硬さは、荷重10g1荷重時間10secで測定
した。測定点は10点である。その平均値を示しである
。
した。測定点は10点である。その平均値を示しである
。
反射率は、Cr096、Au 10096の場合最大で
あるが、99.5%程度である。反射率はCrの含有量
が10重量%まで殆ど変らず99.5%を維持する。
あるが、99.5%程度である。反射率はCrの含有量
が10重量%まで殆ど変らず99.5%を維持する。
Crの含有量が10重量%を越えると、反射率が低下し
始める。しかし、 Crが20重量%でも99.359
6である。
始める。しかし、 Crが20重量%でも99.359
6である。
Crが20重量%を越えると、反射率の低下は著しくな
る。Crが24重量%で99.2%に低下する。
る。Crが24重量%で99.2%に低下する。
ヌープ硬さは、表面の硬さを示すものであるが、Cr
096Au 1009+6の時は75Hkである。極め
て柔い。
096Au 1009+6の時は75Hkである。極め
て柔い。
Crが2wt%(重量%のこと)のとき100Hk+C
上る。
上る。
僅かなCrの添加によって、表面硬度が著しく向上する
。
。
Crの含有量が上るに従ってヌープ硬さも増える。
Cr10wt%、Au 90 wt 97;で150
Hkである。
Hkである。
Cr 20 vtrt %、Au 80 wt 96で
、200Hkになる。これよりCrを増してもヌープ硬
さはあまり増えない。
、200Hkになる。これよりCrを増してもヌープ硬
さはあまり増えない。
Cr 24 wt % 、Au 76 wt 96でも
200Hkである。
200Hkである。
反射率があまり低下せず、表面硬さが大きいという範囲
はCrのwt%が1〜20wt%である事が分る。
はCrのwt%が1〜20wt%である事が分る。
a)作 用
金属基板の上に1〜20wt%のCrを含むAuの薄膜
をコーティングする。
をコーティングする。
純金によるコーティングに比べて、表面の硬度が増す。
第1図に示すように、Au100wt%のとき、ヌープ
硬さが75Hkであるが、Crを2wt%混ぜるだけで
100Hkになり、Crを10wt%混ぜると150
Hkになる。
硬さが75Hkであるが、Crを2wt%混ぜるだけで
100Hkになり、Crを10wt%混ぜると150
Hkになる。
このように少量のCrを金に添加する事により、金薄膜
を硬くする事ができる。この結果傷のつきにくい反射面
を作る事ができる。
を硬くする事ができる。この結果傷のつきにくい反射面
を作る事ができる。
Crを添加すると、反射率が減るが、Crが10wt%
までは、殆ど変化がない。Crが20 wt%になると
、反射率は少し減る。
までは、殆ど変化がない。Crが20 wt%になると
、反射率は少し減る。
しかし、Cuの添加を1〜20wt96とすれば、高反
射率で、高硬度の薄膜とする事ができる。
射率で、高硬度の薄膜とする事ができる。
表面に傷がつかなければ、金は化学的に安定した物質で
あるので、腐蝕しない。酸化もしない。
あるので、腐蝕しない。酸化もしない。
金属基板が銅Cuである場合、これは化学的には弱い物
質で、腐蝕酸化されやすいが、Crを含む金薄膜で覆わ
れる事によ怜、化学的に安定となる。
質で、腐蝕酸化されやすいが、Crを含む金薄膜で覆わ
れる事によ怜、化学的に安定となる。
金属基板がCu1°St、A1%Moのいずれであって
も本発明を適用できる。しかし、基板がCuである場合
に、本発明の利点が最も顕著に現われる。
も本発明を適用できる。しかし、基板がCuである場合
に、本発明の利点が最も顕著に現われる。
さらに%Cu基板の上にNi薄膜を付け、この上に本発
明のAu−Cr薄膜を形成するようにしてもよい。
明のAu−Cr薄膜を形成するようにしてもよい。
(ホ)実施例
無酸素銅基板を、単°結晶ダイヤモンドバイトで超精密
切削加工した反射鏡基板について、本発明を適用した。
切削加工した反射鏡基板について、本発明を適用した。
鏡面加工されたこの銅基板上に、10wt96のCrを
含むAuの薄膜をイオンブレーティング法によって ゛
形成した。膜厚は1μmである。
含むAuの薄膜をイオンブレーティング法によって ゛
形成した。膜厚は1μmである。
イオンブレーティングの条件は以下の通りである。
0真空度 I X 10−’Torr
○イオン化電圧 52V
O基板バイアス電圧 1.1kVO蒸着速度
20人/就 O原料は、Au−Cr(10%)合金を準備しこれを原
料として使用した。
20人/就 O原料は、Au−Cr(10%)合金を準備しこれを原
料として使用した。
このようなイオンブレーティングシーよってAu−Cr
層をCuの表面に形成した。この反射鏡についてヌープ
硬さを測定したところ150Hkであった。
層をCuの表面に形成した。この反射鏡についてヌープ
硬さを測定したところ150Hkであった。
無酸素銅を超精密切削加工しただけのもののスープ硬さ
が75Hkである事に比べ、十分に硬い膜であることが
分る。
が75Hkである事に比べ、十分に硬い膜であることが
分る。
次に、アルコールを含ませたガーゼを用いた拭取り試験
を行なった。
を行なった。
切削加工のみの無酸素銅反射鏡では、表面にヘアライン
状の傷がついた。
状の傷がついた。
ところがAu−Cr薄膜で覆った反射鏡では全く傷つか
なかった。表面硬さが十分である事が分る。
なかった。表面硬さが十分である事が分る。
耐蝕性を調べるため、反射鏡表面を指で触れ、室温空気
中に放置する実験を行なった。
中に放置する実験を行なった。
切削加工したCuの反射鏡は、24時間で指紋跡に錆を
生じた。ところがCuO上にAu−Cr薄膜を被覆した
反射鏡では表面に全く錆を生じない。1ケ月放置した後
も、錆を生じなかった。耐蝕性も十分である事が分る。
生じた。ところがCuO上にAu−Cr薄膜を被覆した
反射鏡では表面に全く錆を生じない。1ケ月放置した後
も、錆を生じなかった。耐蝕性も十分である事が分る。
C)効 果
本発明のレーザ反射鏡は、Crを含むAuの薄膜で金属
基板を覆っているから、十分な硬さの表面を持つ反射鏡
が得られる。
基板を覆っているから、十分な硬さの表面を持つ反射鏡
が得られる。
表面を擦っても傷がつかない。メンテナンス時に傷が発
生しない。これに原因する反射率の低下が防止できる。
生しない。これに原因する反射率の低下が防止できる。
反射鏡の寿命が長くなる。
第1図は超精密切削加工した銅基板の上に0〜24%の
Crを含むAuの薄膜をイオンブレーティング法によっ
て形成(膜厚1μm)した時の、Crの含有量と反射率
、ヌープ硬度の測定値を示すグラフ。 発明者 京谷達也 特許出願人 住友電気工業株式会社
Crを含むAuの薄膜をイオンブレーティング法によっ
て形成(膜厚1μm)した時の、Crの含有量と反射率
、ヌープ硬度の測定値を示すグラフ。 発明者 京谷達也 特許出願人 住友電気工業株式会社
Claims (1)
- 赤外レーザ用の反射鏡であつて、鏡面加工されたCu、
Al、Si、Mo或はCuの上にNi薄膜を付けたもの
の上に、1〜20重量%のCrを含むAuの薄膜を形成
した事を特徴とするレーザ反射鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14071088A JPH01309005A (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | レーザ反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14071088A JPH01309005A (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | レーザ反射鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01309005A true JPH01309005A (ja) | 1989-12-13 |
Family
ID=15274919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14071088A Pending JPH01309005A (ja) | 1988-06-08 | 1988-06-08 | レーザ反射鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01309005A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5864425A (en) * | 1994-12-15 | 1999-01-26 | Filas; Robert William | Low polarization sensitivity gold mirrors on silica |
JP2002090638A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-03-27 | Olympus Optical Co Ltd | レーザ走査型光学顕微鏡 |
JP2010210681A (ja) * | 2009-03-06 | 2010-09-24 | Mitsubishi Electric Corp | ミラーおよびその製造方法 |
-
1988
- 1988-06-08 JP JP14071088A patent/JPH01309005A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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