JPH0129932Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、冬期におけるエナメルワニスの温度
低下を防止し、エナメル線の皮膜発泡を防止する
ことができるエナメル線焼付装置に関するもので
ある。

従来、エナメル線の品質不良の１つにその皮膜
の発泡がある。しかもこの発泡は冬期に発生し易
い。その原因は気温の低下に伴なうエナメルワニ
スの粘度上昇と考えられる。

従来のエナメル線焼付装置は、その一例の要部
を第１図に示す如く、床面１に対し竪型に、下部
シーブ２、ワニス受け３を具えたワニスバス４、
塗布ダイホールダー５、ワニス焼付炉６、及び上
部シーブ（図示せず）を具備するもので、ワニス
を塗布し焼付けるべき線７を下方より上方に前記
ワニス焼付炉６の下部入口７から該炉６内に送り
込み、これを上下に循環反復走行させて焼付ける
方式のものであつた。

このような従来の方式では、冬期になると線７
に塗布されたワニスの温度が焼付炉６に入いる迄
に低下してワニス粘度が上り、これが焼付炉６内
にて急激に加熱されるため発泡し易かつた。

そこで従来は冬期対策として、何等かの方法で
線に塗布前のエナメルワニスを加熱し、粘度を下
げることを行なつている。しかし冬期は雰囲気温
度が低く、又、エナメルワニスを塗布する線７の
方が冷えているため、ワニスは線７に塗布される
ことにより急速に冷やされて粘度が上つてしま
い、対策としては不充分であつた。

このようなことからエナメルワニスの温度をさ
らに高くしたり、エナメルワニス中で線７を温め
ることが試みられているが、前者はエナメルワニ
スの温度が上り過ぎ劣化して得られる皮膜の特性
が低下してくるので問題であり、又、後者は線７
の周辺のワニスが冷されたまゝ、加熱されるため
その外側にあるワニスとの間で短時間では熱交換
が行なわれないため不充分であつた。

本考案は、以上の欠点に着目し、冬期における
エナメルワニスの温度低下を防止することのでき
るエナメル線焼付装置を提供しようとするもので
ある。

本考案は、つまり前記の問題に対し接線装置及
びワニス塗布装置を加熱し、ワニス塗布装置周辺
の雰囲気温度を高くすることによつて問題を解決
しようとするものである。

すなわち、本考案の一実施例の要部を示すと第
２図に示す如く、本考案は、竪型に、下部シーブ
２、ワニス受け３を具えたワニスバス４、塗布ダ
イホールダー５、ワニス焼付炉６、及び上部シー
ブ（図示せず）を具備し、ワニスを塗布し焼付け
るべき線７を下方より上方に前記ワニス焼付炉６
の下部入口８から該炉６内に送り込み、これを上
下に循環反復走行させて焼付けるようにしたエナ
メル線焼付装置において、前記ワニス焼付炉６の
下部９に、前記下部シーブ２、ワニス受け３を設
けたワニスバス４及び塗布ダイホールダー５を略
略外気と遮断して格納した状態に上方の入線スリ
ツト１０及び下方の熱風吹出しスリツト１１を設
けたカバー１２を、一体に接続し前記カバー１２
の熱風吹出しスリツト１１に前記カバー１２内に
熱風を吹込むための加熱装置１３及びブロアー１
４とを接続して構成したことを特徴とする。

本考案装置の作動については、先ず送風ブロア
ー１４によつて送られた風は加熱装置１３によつ
て、例えば40〜70℃に加熱され、熱風となつて吹
出しスリツト１１から下部シーブ２に吹付けら
れ、この下部シーブ２を加熱する。その後熱風は
一部は入線スリツト１０から外部の室内へ拡散す
るが、その他は、ワニス受け３、ワニスバス４、
塗布ダイホールダー５に接触しながら焼付炉下部
入口８から焼付炉６の内部に吸い込まれて行く。

この熱風によつて下部シーブ２、ワニス受け
３、ワニスバス４、塗布ダイホールダー５は加熱
され熱風温度と略々等しくなる。

つまり、本考案の装置においては、焼付炉入口
側の接線装置及びワニス塗布装置をカバー１２で
覆い、このカバー１２内に熱風を吹き込んだもの
である。

次に、本考案の効果について簡単に説明すれば
先ず、焼付炉６上部の上部シーブ（図示せず）か
ら下りてきた冷えた線７が、カバー１２の入口す
なわち入線スリツト１０からカバー１２内に入い
り、下部シーブ２と接触して加熱される。下部シ
ーブ２を過ぎた線７はさらに雰囲気によつて更に
加熱され、ワニスバス４に入つて行く。一方、従
来からの方式で所定温度に加熱されたワニスはワ
ニスバス４に供給されるが雰囲気及び装置の温度
が殆んどワニス温度と変らないため、冷えること
もなく、線７に塗布される。線７も又、従来のよ
うに冷えていないため、線７に塗布されたエナメ
ルワニスは所定温度、すなわち所定粘度のまま、
焼付炉６内に入り、焼付けられるので良好な皮膜
を形成し、発泡不良が発生しない。

なお、本装置の実際の使用方法としては、カバ
ー１２の上部に温度計１５を配置し、この温度に
よつて加熱装置１３で発生される熱風の温度を制
御し、カバー１２内の雰囲気温度を適切温度に保
ち、年間を通じて炉内に入いるエナメルワニスの
温度を殆んど一定に保つことができる。

以上述べたように本考案においては、熱風によ
り接線装置及びワニス塗布装置を加熱し、又塗布
装置周辺の雰囲気温度を上げるので、線が加熱さ
れ、又、ワニス塗布後の温度低下も殆んどないた
め、エナメルワニス塗布後の製品品質が向上す
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のエナメル線焼付装置の一例の要
部を示す縦断側面略図、第２図は本考案の一実施
例の要部を示す縦断側面略図である。 １……床面、２……下部シーブ、３……ワニス
受け、４……ワニスバス、５……塗布ダイホール
ダー、６……ワニス焼付炉、７……線、８……ワ
ニス焼付炉６の下部入口、９……ワニス焼付炉６
の下部、１０……入線スリツト、１１……熱風吹
出しスリツト、１２……カバー、１３……加熱装
置Ｈ、１４……ブロアーＢ、１５……温度計。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 竪型に、下部シーブ２、ワニス受け３を具えた
   ワニスバス４、塗布ダイホールダー５、ワニス焼
   付炉６、及び上部シーブを具備し、ワニスを塗布
   し焼付けるべき線７を下方より上方に前記ワニス
   焼付炉６の下部入口８から該炉６内に送り込み、
   これを上下に循環反復走行させて焼付るようにし
   たエナメル線焼付装置において、 前記ワニス焼付炉６の下部９に前記下部シーブ
   ２、ワニス受け３を設けたワニスバス４、及び塗
   布ダイホールダー５を略々外気と遮断して格納し
   た状態に上方の入線スリツト１０及び下方の熱風
   吹出しスリツト１１を設けたカバー１２を、一体
   に接続し、 前記カバー１２の熱風吹出しスリツト１１に、
   前記カバー１２内に熱風を吹込むための加熱装置
   １３及びブロアー１４とを接続して構成したこと
   を特徴とするエナメル線焼付装置。