JPH01298600A - Semiconductor memory - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体記憶装置に関する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a semiconductor memory device.
(従来の技術)
電気的に書込み及び消去n1能な内部記憶素子を有する
不揮発性半導体記憶装置の一例を第5図に示す。内部記
憶素子(セル)1には読出し回路2、書込み回路3及び
消去回路4が接続されている。(Prior Art) FIG. 5 shows an example of a nonvolatile semiconductor memory device having an internal memory element that can be electrically written and erased n1. A read circuit 2, a write circuit 3, and an erase circuit 4 are connected to the internal storage element (cell) 1.
それらの各回路2〜4によって、読出し、書込み及び消
去が行われる。その消去回路4による消去方法としては
、
■ 素子の記憶領域毎に消去する第1のh法。Reading, writing, and erasing are performed by each of these circuits 2 to 4. The erasing methods used by the erasing circuit 4 include (1) the first h method in which each storage area of an element is erased;
■ 素子の全ての記憶領域を一括して消去する第2の方
l去。■ The second method is to erase all memory areas of the device at once.
の2通りの方法があった。There were two methods.
(発明が解決しようとする課8)
上記従来の第1及び第2の2通りの電気的消去方法には
、それぞれ次のような問題点があった。(Issue 8 to be Solved by the Invention) The two conventional electrical erasing methods, the first and second, each have the following problems.
即ち、
a 前記第1の方法には、素子の記憶領域数が多いと消
去時間が長くなるという問題がある。しかも、それらの
領域数が多くなると、それについて消去時間もさらに長
くなるという問題がある。That is, a. The first method has the problem that erasing time becomes longer if the number of memory areas of the element is large. Moreover, as the number of these areas increases, there is a problem in that the erasing time also increases.
b 前記第2の方法には、その方法を、素子のデータの
書換えを素子のうちの一部分の領域について行う場合に
ついて採用した場合には、消去は一括的に行えるものの
、その後に全ての領域について再度書込みを行わなけれ
ばならず、その全ての領域についての書込みには多大の
時間がかかるという問題がある。b. In the second method, if the method is adopted for rewriting data on a part of the element, the data can be erased all at once, but then the data on all the areas can be rewritten. There is a problem in that writing has to be performed again, and it takes a lot of time to write to all the areas.
本発明は、上記に鑑みてなされたもので、その目的は、
内部記憶素子の一部の領域についての書換えを短時間で
効率良く行うことのできる半導体記憶装置を提供するこ
とにある。The present invention has been made in view of the above, and its purpose is to:
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can efficiently rewrite a part of an area of an internal memory element in a short time.
(課題を解決するための手段)
本発明の半導体記憶装置は、電気的に書込み及び消去可
能な不揮発性内部記憶素子を白°する半導体記憶装置に
おいて、前記内部記憶素子は、互いに独立的に書込み及
び消去可能な複数のブロックに分割されたものであり、
さらに、前記ブロックのうちの消去すべき任意数のブロ
ックを選択するブロック選択信号を出力するブロック選
択回路と、前記ブロック選択信号を記憶して、前記消去
すべき任意数のブロックを選択する記憶回路と、前記選
択されたブロックに対してブロック消去信号を加えるブ
ロック消去回路と、を備えるものとして構成される。(Means for Solving the Problems) A semiconductor memory device of the present invention includes electrically writable and erasable non-volatile internal memory elements, in which the internal memory elements can be written to and erased independently of each other. and is divided into a plurality of erasable blocks,
Further, a block selection circuit that outputs a block selection signal for selecting an arbitrary number of blocks to be erased from among the blocks, and a storage circuit that stores the block selection signal and selects the arbitrary number of blocks to be erased. and a block erase circuit that applies a block erase signal to the selected block.
さらに、記憶回路は、ブロック選択回路からのブロック
選択信号に基づいて状態を変化させ、ブロック消去回路
からのブロック消去ta号をどのブロックに加えるかを
決めるものとして構成される。Further, the storage circuit is configured to change its state based on a block selection signal from the block selection circuit and decide to which block the block erasure ta from the block erasure circuit is applied.
(作 用)
内部記憶素子は、互いに独立的に書込み及び消去可能な
複数のブロックに分割されている。それらのブロックの
うち消去すべき任意数のブロックを選択するブロック選
択信号がブロック選択回路から出力される。そのブロッ
ク選択信号が記憶回路に記憶され、任意数のブロックが
選択される。(Operation) The internal storage element is divided into a plurality of blocks that can be written and erased independently of each other. A block selection signal for selecting an arbitrary number of blocks to be erased is output from the block selection circuit. The block selection signal is stored in the storage circuit, and an arbitrary number of blocks are selected.
選択されたブロックに対してブロック消去信号がブロッ
ク消去回路によって一印加される。即ち、記憶回路はブ
ロック選択回路からのブロック選択信号によって状態を
変化させ、どのブロックに加えるかを決め、決めたブロ
ックのみに対してブロック消去1g号を印加する。それ
により、選択された任意数のブロックのみや消去が行わ
れる。よって、今後の書込みは、消去したブロックにつ
いて行えばよい。これにより、消去及び書込みの時間か
短縮される。A block erase signal is applied to the selected block by the block erase circuit. That is, the storage circuit changes its state in response to a block selection signal from the block selection circuit, determines which block is to be added, and applies block erase No. 1g only to the determined block. As a result, only the selected arbitrary number of blocks are erased. Therefore, future writing can be performed on the erased block. This reduces erasing and writing time.
(実施例)
第1図は、本発明の一実施例の全体構成図である。同図
において、11は内部記憶素子である。(Embodiment) FIG. 1 is an overall configuration diagram of an embodiment of the present invention. In the figure, 11 is an internal storage element.
その索子11においては、素子の記憶領域がn個のブロ
ック111〜11nに分割されている。それらのブロッ
ク111〜11nには一括消去回路12が接続されてい
る。その−括消去回路12からの消去信号により、全て
のブロック111〜11 の内容が一括して消去される
。In the cable 11, the storage area of the element is divided into n blocks 111 to 11n. A batch erase circuit 12 is connected to these blocks 111 to 11n. The contents of all blocks 111-11 are erased at once by the erase signal from the batch erase circuit 12.
さらに、ブロック111〜11nにはデコーダ回路13
が接続されている。そのデコーダ回路13は、外部から
加えられるアドレス信号をデコードしてブロック11.
〜11oのうちの任意のものを1又は複数選び、選んだ
全てのブロックの内容を一括的に消去するように構成さ
れている。Furthermore, the blocks 111 to 11n include a decoder circuit 13.
is connected. The decoder circuit 13 decodes the address signal applied from the outside and blocks 11.
-11o is selected, and the contents of all the selected blocks are erased at once.
即ち、デコーダ回路】3はブロック選択回路15を何す
る。そのブロック選択回路15は、外部から加えられる
アドレス信号をデコードして次段の不揮発性の記憶回路
16に加える。記憶回路16は、ブロック選択回路15
から加えられる信号を記憶し、その信号に応じて第1出
力線161〜16□の任意の1又は複数のものに第1出
力を出力する。第1出力は次段のANDゲート171〜
17 の任意のものの一方の入力端子に加えられ口
る。それらのANDゲート17.〜17□の他方の入力
端子には、ブロック消去回路18からのブロック消去信
号が加えられる。これにより、ANDゲート17、〜1
7□のうちの第1出力が加えられているものの第2出力
線19□〜19゜に第2出力(消去電圧)、が出力され
る。第2出力は第2出力線19、〜19nを通じてブロ
ック11〜11 に加えられる。ブロック111〜i
n
11 のうちの第2出力の加えられた任意数のブロック
の内容が一括的に消去される。That is, what does the decoder circuit 3 do for the block selection circuit 15? The block selection circuit 15 decodes the address signal applied from the outside and applies it to the nonvolatile storage circuit 16 at the next stage. The memory circuit 16 includes the block selection circuit 15
The first output line 161 to 16□ is outputted to any one or more of the first output lines 161 to 16□ according to the signal. The first output is the next-stage AND gate 171~
It is applied to one input terminal of any one of 17. Their AND gate17. A block erase signal from the block erase circuit 18 is applied to the other input terminal of .about.17□. As a result, AND gates 17, ~1
A second output (erase voltage) is output to the second output line 19□ to 19° to which the first output of 7□ is applied. A second output is applied to blocks 11-11 through second output lines 19, .about.19n. Blocks 111-i
The contents of an arbitrary number of blocks of n 11 to which the second output is added are erased all at once.
第2図は、第1図の鎖線部分の一具体例を示す回路図で
ある。第2図かられかるように、記憶回路16は複数の
不揮発性素子16aを備えたものとして構成されている
。さらに、この第2図においては、ANDゲート17
として増幅器21を用い、ブロック選択回路】5からの
出力と消去電圧VEPとのアンドがとれたときに前記第
2出力が得られるように構成している。そして、その不
揮発性素子16aが書込まれずに導通状態にある場合に
は消去電圧VEP(第2出力)が第2出力線191から
出力されない。また、その不揮発性索子16aが書込み
により非導通状態にある場合には消去電圧vEPが第2
出力線191から第2出力として出力され、ブロック1
11が消去される。FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific example of the chain line portion in FIG. 1. As can be seen from FIG. 2, the memory circuit 16 is configured to include a plurality of nonvolatile elements 16a. Furthermore, in FIG. 2, the AND gate 17
An amplifier 21 is used as the block selection circuit 5, and the second output is obtained when the output from the block selection circuit 5 and the erase voltage VEP are ANDed. If the nonvolatile element 16a is not written and is in a conductive state, the erase voltage VEP (second output) is not output from the second output line 191. Furthermore, when the nonvolatile cable 16a is in a non-conductive state due to writing, the erase voltage vEP is set to the second level.
It is output as the second output from the output line 191 and is output from block 1.
11 is deleted.
よって、ブロック111〜11nのうちの消去しようと
するブロックに対応する不揮発性素子16aに書込めば
それらの消去しようとするブロックの一括消去が可能で
ある。Therefore, by writing to the nonvolatile element 16a corresponding to the block to be erased among the blocks 111 to 11n, the blocks to be erased can be erased all at once.
第3図は、第2図の不揮発性素子16aとしてE P
ROM 16 a Jを有するものを用いた場合のもの
を示す。ブロック11□のみを選択するには、全てのE
PROMのうちE P ROM 1.6 a 1のみに
書込み(ホットエレクトロンのホットエレクトロンへの
注入)を行う。これにより、通常の電源電圧V の印加
時には、E P ROM 16 a 1のみC
が非導通状態にあり、その他のEPROM(図示せず)
は導通状態にある。この状態において、ブロック消去回
路18から消去電圧vEPを出力させると、E P R
OM 16 a 1は非導通状態にあることから、その
消去電圧vEPはそのままブロック11□に加えられ、
消去が行われる。これに対し、その他のEPROMは導
通状態にあることから消去電圧vEPは抵抗Rで降ドし
てその他のブロック11□〜11nには印加されず、消
去は行われない。従って、消去したいブロック(111
〜11 )に対応するEFROMに予め書込みをしてお
けば、消去したいブロックのみの消去を一括的に行うこ
とができる。EPROMの書込みの消去は、紫外線の照
射によって行われる。FIG. 3 shows E P as the nonvolatile element 16a in FIG.
The case where a device with ROM 16 a J is used is shown. To select only block 11□, select all E
Writing (injection of hot electrons into hot electrons) is performed only in E PROM 1.6 a 1 of the PROMs. As a result, when the normal power supply voltage V is applied, only the EPROM 16 a 1 has C in a non-conducting state, and the other EPROMs (not shown)
is in a conducting state. In this state, when the block erase circuit 18 outputs the erase voltage vEP, E P R
Since OM 16 a 1 is in a non-conductive state, its erase voltage vEP is directly applied to block 11 □,
Erasure is performed. On the other hand, since the other EPROMs are in a conductive state, the erase voltage vEP is dropped by the resistor R and is not applied to the other blocks 11□ to 11n, so that erasure is not performed. Therefore, the block you want to erase (111
By writing in advance to the EFROM corresponding to 11), it is possible to erase only the blocks that are desired to be erased at once. Writing and erasing of EPROM is performed by irradiation with ultraviolet rays.
ただし、紫外線を通さないようにパッケージングした場
合のように紫外線の照射によって消去が不可能な場合に
は、EFROMに代えてEEPROMを用いればよい。However, if erasing cannot be done by irradiation with ultraviolet rays, such as when packaging is done so that ultraviolet rays cannot pass through, EEPROM may be used instead of EFROM.
第4図は、その場合の一例を示すものである。E E
P ROM 26 a 1の消去、は、リセット信号出
力回路26bから出力されるリセット信号によって電気
的に行われる。FIG. 4 shows an example of such a case. E E
Erasing of the PROM 26a1 is electrically performed by a reset signal output from the reset signal output circuit 26b.
このようにして、内部記憶素子11中の特定の任意数の
ブロックが一括して消去される。この後は、In去した
ブロックについてのみ書込みを行えばよい。In this way, a specific arbitrary number of blocks in the internal storage element 11 are erased all at once. After this, it is only necessary to write to the block from which In has been removed.
上記゛実施例によれば以ドの効果が得られる。According to the above embodiment, the following effects can be obtained.
(1) 前記従来技術■の問題点aの改善従来技術■に
よれば、素子の記憶領域数に比例して消去時間が長くな
る。しかしながら、上記実施例によれば、消去すべき記
憶領域を一括して消去するようにしたので、その分消去
時間が短縮できる。(1) Improvement of problem a of the prior art (1) According to the prior art (2), erasing time increases in proportion to the number of storage areas of the device. However, according to the above embodiment, since the storage areas to be erased are erased all at once, the erasing time can be shortened accordingly.
(2) 前記従来技術■の問題点すの改善従来技術■に
よれば、素子の記憶領域の書換えを一部のものについて
行う場合でも、全ての記憶領域を消去しなければならず
、その全ての領域について書込を行う必要があった。し
かしながら、上記実施例によれば、消去した記憶領域に
ついてのみ書込みを行えばよく、書込み時間の短縮にな
る。(2) Improvement of the problem of the prior art (2) According to the prior art (2), even when rewriting a part of the memory area of an element, all the memory areas must be erased; It was necessary to write to this area. However, according to the above embodiment, it is only necessary to write to the erased storage area, which shortens the write time.
本発明によれば、内部記憶素子を複数のブロックに分け
、それらのブロックのうちの任意の1又は複数のものの
みを一括して消去可能としたので、内部記憶素子のうち
の一部についてのみ書換えを行う場合に、必要な部分の
みの消去及び書換えを行って、それに要する時間を無駄
のない極力短いものとすることができる。According to the present invention, the internal memory element is divided into a plurality of blocks, and only one or more of these blocks can be erased at once, so that only a part of the internal memory element can be erased. When performing rewriting, only the necessary portions are erased and rewritten, and the time required for rewriting can be minimized without wasting any waste.
第1図は本発明の一実施例の要部を示すブロック図、第
2図はその一部を具体化した回路図、第3図及び第4図
はそのそれぞれ異なる具体例を示す回路図、第5図は従
来例のブロック図である。
11・・・内部記憶素子、11□〜11.・・・ブロッ
ク、13・・・デコーダ、15・・・ブロック選択回路
、16・・・記憶回路、18・・・ブロック消去回路。
出願人代理人 佐 藤 −雄
第5図FIG. 1 is a block diagram showing a main part of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram embodying a part thereof, and FIGS. 3 and 4 are circuit diagrams showing different specific examples thereof. FIG. 5 is a block diagram of a conventional example. 11... Internal storage element, 11□-11. ... block, 13 ... decoder, 15 ... block selection circuit, 16 ... memory circuit, 18 ... block erase circuit. Applicant's agent Mr. Sato Figure 5
Claims (1)
子を有する半導体記憶装置において、前記内部記憶素子
は、互いに独立的に書込み及び消去可能な複数のブロッ
クに分割されたものであり、さらに、 前記ブロックのうちの消去すべき任意数のブロックを選
択するブロック選択信号を出力するブロック選択回路と
、 前記ブロック選択信号を記憶して、前記消去すべき任意
数のブロックを選択する記憶回路と、前記選択されたブ
ロックに対してブロック消去信号を加えるブロック消去
回路と、 を備えることを特徴とする半導体記憶装置。 2、記憶回路は、ブロック選択回路からのブロック選択
信号に基づいて状態を変化させ、ブロック消去回路から
のブロック消去信号をどのブロックに加えるかを決める
ものであることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶
装置。[Claims] 1. In a semiconductor memory device having a nonvolatile internal memory element that can be electrically written to and erased, the internal memory element is divided into a plurality of blocks that can be written to and erased independently of each other. further comprising: a block selection circuit that outputs a block selection signal for selecting an arbitrary number of blocks to be erased from among the blocks; and a block selection circuit that stores the block selection signal and selects the arbitrary number of blocks to be erased. A semiconductor memory device comprising: a memory circuit that selects a block; and a block erase circuit that applies a block erase signal to the selected block. 2. The memory circuit changes its state based on the block selection signal from the block selection circuit, and determines to which block the block erasure signal from the block erasure circuit is applied. semiconductor storage device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63129156A JPH01298600A (en) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | Semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63129156A JPH01298600A (en) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | Semiconductor memory |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01298600A true JPH01298600A (en) | 1989-12-01 |
Family
ID=15002527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63129156A Pending JPH01298600A (en) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | Semiconductor memory |
Country Status (1)
Country | Link |
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