JPH01295429A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH01295429A
JPH01295429A JP63126514A JP12651488A JPH01295429A JP H01295429 A JPH01295429 A JP H01295429A JP 63126514 A JP63126514 A JP 63126514A JP 12651488 A JP12651488 A JP 12651488A JP H01295429 A JPH01295429 A JP H01295429A
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Abstract

PURPOSE:To suppress noises generated in paths of power source voltage and to prevent the occurrence of erroneous operations, by making the area for the inner lead parts of lead frame terminals for supplying at least the power source voltage to a semiconductor chip larger than other inner lead parts. CONSTITUTION:The area of inner lead parts 32 for lead frame terminals for supplying a power source voltage is made large. Thus, power-source-current supplying capability in the inner lead parts 32 is increased. Noises generated in pad electrodes 20 and 21 on a semiconductor chip 31 are absorbed in the inner lead parts 32. Each of the inner lead parts 32 which are divided into a plurality of parts is independently connected to the pad electrodes 20 and 21 on the semiconductor chip 31. Therefore, the effects of the noises between the divided inner leads parts 32 are largely alleviated. In this way, the occurrence of erroneous operation can be suppressed to be of a low ratio.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は過渡電流に基づく電源ノイズによる影響を緩
和するようにした半導体集積回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a semiconductor integrated circuit designed to alleviate the effects of power supply noise based on transient currents.

(従来の技術) 多くの半導体素子を集合させて一つの機能を持たせるよ
うにした集積回路装置、いわゆるICは、素子を多数形
成した半導体チップを外囲器に封入することによって形
成されている。この半導体チップ上には、信号の入出力
や電源電圧の供給等を行なうために複数のパッド電極が
設けられている。
(Prior Art) An integrated circuit device that has a single function by assembling many semiconductor elements, so-called IC, is formed by enclosing a semiconductor chip with a large number of elements in an envelope. . A plurality of pad electrodes are provided on this semiconductor chip for inputting and outputting signals, supplying power supply voltage, and the like.

第8図は典型的なメモリICチップの回路構成を示すブ
ロック図である。チップの外部からはアドレス信号がア
ドレス用のパッド電極11に人力される。このパッド電
極11に入力されたアドレス信号はアドレスバッファ1
2を介してアドレスデコーダ13に入力され、このアド
レスデコーダ13のデコード出力に応じたメモリ回路1
4の番地からデータが読み出される。メモリ回路14か
ら読み出されたデータはセンスアンプ15によって増幅
され、さらに出力回路16を経由して出力バッファ17
に入力される。そして、この出力バッファ17からデー
タ出力用のパッド電極18を介してデータが外部に出力
される。
FIG. 8 is a block diagram showing the circuit configuration of a typical memory IC chip. An address signal is input to the address pad electrode 11 from outside the chip. The address signal input to this pad electrode 11 is sent to the address buffer 1.
2 to the address decoder 13, and the memory circuit 1 corresponds to the decoded output of the address decoder 13.
Data is read from address 4. The data read from the memory circuit 14 is amplified by the sense amplifier 15, and then sent to the output buffer 17 via the output circuit 16.
is input. Then, data is outputted from this output buffer 17 to the outside via a pad electrode 18 for data output.

ところで、上記メモリICチップを動作させるには電源
電圧と基I$雷電圧を外部から印加する必要がある。こ
のうち、電源電圧VCCは電源用パッド電極19に印加
され、基準電圧はvsslとvsS2との二種類がそれ
ぞれ専用の電源用パッド電極20.21に印加される。
By the way, in order to operate the memory IC chip, it is necessary to apply a power supply voltage and a base voltage from the outside. Among these, the power supply voltage VCC is applied to the power supply pad electrode 19, and two types of reference voltages, vssl and vsS2, are respectively applied to the dedicated power supply pad electrodes 20.21.

なお、上記データ出力用のパッド電極18には負荷容量
24が寄生的に附随している。
Note that a load capacitor 24 is parasitically attached to the pad electrode 18 for data output.

ここで、上記電源用パッド電極19に印加される電源電
圧VCCは、アドレスバッファ12、アドレスデコーダ
13、メモリ回路14及びセンスアンプ15からなる内
部回路22と、出力回路1B及び出力バッファ17から
なる周辺回路23に対して共通に供給されるが、基準電
圧については内部回路22と周辺回路23にVsslと
vsS 2の二種類が独立に供給される。この理由は次
の通りである。
Here, the power supply voltage VCC applied to the power supply pad electrode 19 is applied to an internal circuit 22 consisting of an address buffer 12, an address decoder 13, a memory circuit 14, and a sense amplifier 15, and a peripheral circuit consisting of an output circuit 1B and an output buffer 17. Although it is commonly supplied to the circuit 23, two types of reference voltages, Vssl and vsS2, are independently supplied to the internal circuit 22 and peripheral circuit 23. The reason for this is as follows.

メモリICには種々の構成のものがあるが、代表的なS
RAM(スタティック型RA M )やROM等では出
力データが多ビットであるものが多く、8ビツトあるい
は16ビツト等が一般的である。通常、各ビットデータ
が出力される出力用のパッド電極に附随している上記負
荷容量24の値は通常100pF程度である。多ビツト
構成のメモリでは、この負荷容量を複数個、同時に充、
放電する必要があり、チップ内の電源配線にはこの充、
放電による大きな電流が流れる。このため、チップ内に
おける配線長が特に長く、大きな抵抗成分やインダクタ
ンス成分を持った基準電圧配線に上記のような大きな電
流が流れると、チップ内で基準電圧が大きく変動する。
There are various configurations of memory ICs, but the typical S
Many RAMs (static RAM), ROMs, and the like have multi-bit output data, typically 8 bits or 16 bits. Normally, the value of the load capacitance 24 attached to the output pad electrode from which each bit data is output is usually about 100 pF. With multi-bit memory, multiple load capacitors can be charged at the same time.
It is necessary to discharge the power, and the power supply wiring inside the chip is
A large current flows due to discharge. For this reason, when a large current as described above flows through a reference voltage wiring having a particularly long wiring length and a large resistance component or inductance component within the chip, the reference voltage within the chip fluctuates greatly.

このため、内部回路22には基や電圧Vsslを供給し
、大きな電流が流れる出力バッファを有する周辺回路2
3には基準電圧V9 S 2を独立して供給することに
より、基準電圧vsS 2にノイズが発生しても基準電
圧Vsslが影響を受けないようにしている。また、第
8図では、出力回路16及び出力バッファ17の基準電
圧をvsS2にしているが、出力回路16を内部回路用
の基準電圧をvsS1にし、出力バッファ17のみを基
準電圧Vss2に接続する場合もある。
Therefore, the internal circuit 22 is supplied with the base voltage Vssl, and the peripheral circuit 2 which has an output buffer through which a large current flows.
By independently supplying the reference voltage V9S2 to the reference voltage vsS2, the reference voltage Vssl is not affected even if noise occurs in the reference voltage vsS2. In addition, in FIG. 8, the reference voltage of the output circuit 16 and the output buffer 17 is set to vsS2, but when the reference voltage for the internal circuit of the output circuit 16 is set to vsS1 and only the output buffer 17 is connected to the reference voltage Vss2. There is also.

他方、ICは上記半導体チップの他に、インナーリード
部とこのインナーリード部と一体的に形成されたアウタ
ーリード部とから構成された複数のリードフレーム端子
が設けられている。そして、インナーリード部の先端部
分と半導体チップ上に設けられているパッド電極とがボ
ンディングワイヤと呼ばれ、例えばAuやAノ等からな
る金属細線で電気的に接続された後に、インナーリード
部が外囲器内に半導体チップといっしょに封入される。
On the other hand, in addition to the semiconductor chip, an IC is provided with a plurality of lead frame terminals each including an inner lead portion and an outer lead portion integrally formed with the inner lead portion. Then, the tip of the inner lead part and the pad electrode provided on the semiconductor chip are electrically connected with a thin metal wire called a bonding wire made of, for example, Au or Al. It is enclosed together with a semiconductor chip in an envelope.

他方、外囲器から導出しているアウターリード部は、所
定形状に切断及び折曲されることによって、例えばDI
P型の外部端子として使用される。
On the other hand, the outer lead portion led out from the envelope is cut and bent into a predetermined shape, so that it can be used, for example, as a DI.
Used as a P-type external terminal.

第9図は上記メモリICチップが封入され、外部端子が
28ピンの外囲器の従来の内部構成を示す平面図である
。31はICチップであり、このチップ上には電源電圧
VCC用のパッド電極19、基準電圧Vssl、vsS
2用のパッド電極20.21を始めとする種々のパッド
電極が設けられている。
FIG. 9 is a plan view showing the conventional internal structure of an envelope in which the memory IC chip is encapsulated and has 28 external terminals. 31 is an IC chip, on which are pad electrodes 19 for power supply voltage VCC, reference voltages Vssl, vsS.
Various pad electrodes including pad electrodes 20 and 21 for 2 are provided.

また、32はそれぞれリードフレーム端子のインナーリ
ード部、33はそれぞれボンディングワイヤ、34は外
囲器である。なお、電源電圧用以外のパッド電極及びリ
ードフレーム端子のアウターリード部は省略した。
Further, 32 is an inner lead portion of a lead frame terminal, 33 is a bonding wire, and 34 is an envelope. Note that pad electrodes other than those for power supply voltage and outer lead portions of lead frame terminals are omitted.

図示するように、従来では出力バッファ等のように大き
な電流が流れる回路の基準電圧を半導体チップ上で他の
回路とは別にしているが、リードフレーム端子はインナ
ーリード部及びアウターリード部ともに共通にしている
As shown in the figure, conventionally the reference voltage for circuits through which large current flows, such as output buffers, is separated from other circuits on the semiconductor chip, but the lead frame terminals are common to both the inner and outer leads. I have to.

ところで、近年、アクセス時間の短縮化が図られた高速
メモリでは、高速化のために出力負荷容量を急速に充、
放電するため、基準電圧供給用のリードフレーム端子に
おけるインダクタンス成分による基準電圧の変動が無視
できなくなってきた。
By the way, in recent years, high-speed memories have been designed to shorten access times.
Due to the discharge, fluctuations in the reference voltage due to inductance components at the lead frame terminals for supplying the reference voltage can no longer be ignored.

例えば、第9図のようなICの基準電圧供給用リードフ
レーム端子の、インナーリード部32におけるインダク
タンスの値を求めてみる。インナーリード部の自己イン
ダクタンスしは、インナーリード部の長さをノ、幅をw
1厚さをtとすると、近似的に次の式で表わされる。
For example, let us find the value of inductance in the inner lead portion 32 of the lead frame terminal for supplying the reference voltage of an IC as shown in FIG. The self-inductance of the inner lead part is determined by the length of the inner lead part and the width of the inner lead part.
1 thickness is approximately expressed by the following equation.

(nH)   ・・・1 ここで典型的な値の例として、ノー1.5(cm)、w
−0,05(c+a) 、t−0,02(c+a)を上
記1式に代入すると、Lの値は12.8 (nH)とな
る。
(nH)...1 Here, examples of typical values include no 1.5 (cm), w
When -0,05(c+a) and t-0,02(c+a) are substituted into the above equation 1, the value of L becomes 12.8 (nH).

他方、前記第8図にメモリにおける出力バッファ17の
放電電流を求めてみる。第10図は、第8図中の出力バ
ッファ17に関係した部分の等価回路である。第10図
において、Cは負荷容量、Qはこの負荷容量Cを放電す
るための出力バッファ内のNチャネル型の出力トランジ
スタ、Lは基準電圧供給用リードフレーム端子のインナ
ーリード部に存在する自己インダクタンス成分である。
On the other hand, the discharge current of the output buffer 17 in the memory will be determined in FIG. FIG. 10 is an equivalent circuit of a portion related to the output buffer 17 in FIG. 8. In Figure 10, C is the load capacitance, Q is the N-channel output transistor in the output buffer for discharging this load capacitance C, and L is the self-inductance present in the inner lead of the lead frame terminal for supplying the reference voltage. It is an ingredient.

なお、この場合は負荷容量Cの放電時を考えており、出
力バッファ内で電源電圧VCCに接続されるPチャネル
型の充電用の出力トランジスタはオフしているので、こ
こでは省略しである。このメモリが8ビツト構成の場合
、負荷容量Cの値は1ビット分の値である100pFの
8倍の800pFとなる。また、出力トランジスタ1個
分のチャネル幅W及びチャネル長しの寸法は通常、W−
300(μm) 、L−2,2(μm)程度にされてい
るので、8ビット分の出力トランジスタQの等価的なチ
ャネル幅Wは2400 (μm)、チャネル長しは2.
2(μm)となる。
In this case, we are considering discharging the load capacitance C, and the P-channel charging output transistor connected to the power supply voltage VCC in the output buffer is turned off, so it is omitted here. When this memory has an 8-bit configuration, the value of the load capacitance C is 800 pF, which is eight times the value of 1 bit, 100 pF. In addition, the dimensions of the channel width W and channel length for one output transistor are usually W-
300 (μm) and L-2.2 (μm), the equivalent channel width W of the output transistor Q for 8 bits is 2400 (μm) and the channel length is 2.300 (μm).
2 (μm).

ここで、予め負荷容量Cにおける信号D outが5(
v)に充電され、Doutが“10レベルにされている
とき、出力トランジスタQのゲートに第11図の波形図
に示すような信号Dinが入力され、その後、トランジ
スタQがオンすることによって流れる放電電流Isの変
化を計算機によるシミュレーションよって求めた結果を
第12図の特性図に示す。基準電圧vs52に発生する
ノイズは上記放電電流Isの時間的変化の割合い、すな
わちd I s / d tに比例し、これの最大値d
is/dt(a+ax)は図中の直線で示す位置の約7
8X 106(A/ 5ee)となる。従って、上記負
荷容量Cを放電する際の前記基準電圧■sS2のパッド
電極21における最大電圧Vs s 2  (IIla
x )は次式で表わされる。
Here, the signal D out at the load capacitance C is set to 5 (
V) and Dout is at level 10, a signal Din as shown in the waveform diagram of FIG. The results obtained by computer simulation of the change in current Is are shown in the characteristic diagram in Figure 12.The noise generated in the reference voltage vs52 is determined by the ratio of the temporal change in the discharge current Is, that is, d I s / d t Proportional, its maximum value d
is/dt(a+ax) is approximately 7 points at the position indicated by the straight line in the figure.
8X 106 (A/5ee). Therefore, the maximum voltage Vs s 2 (IIla
x) is expressed by the following formula.

Vss2(wax)−L−dls/dt(iax)  
−2ここで、先はど求めた、L−12,8(nH)、d
 I s/d t (s+ax ) −7sx 106
(A/5ee)を代入すると、V5 S 2  (Il
ax ) :1 (V)となる。すなわち、前記第9図
に示すような従来のICでは、本来ならば0(v)であ
るチップ上のパッド電極21が最大で1(v)まで上昇
する。従って、パッド電極20もこの電圧変動の影響を
受けるため、従来では内部回路が誤動作し易くなるとい
う欠点がある。
Vss2(wax)-L-dls/dt(iax)
-2Here, what was calculated earlier, L-12,8(nH), d
I s/d t (s+ax) -7sx 106
Substituting (A/5ee), we get V5 S 2 (Il
ax ): 1 (V). That is, in the conventional IC shown in FIG. 9, the pad electrode 21 on the chip, which would normally be 0 (v), rises to a maximum of 1 (v). Therefore, since the pad electrode 20 is also affected by this voltage fluctuation, the conventional method has a drawback in that the internal circuit is likely to malfunction.

(発明が解決しようとする課題) このように従来の半導体集積回路では、半導体チップ上
で電源電圧供給用のパッド電極を、電流が多く流れる回
路とそうでない回路とで独立して設けることによりノイ
ズによる誤動作の防止を図るようにしているが、それで
もまだ十分ではない。
(Problem to be Solved by the Invention) As described above, in conventional semiconductor integrated circuits, pad electrodes for power supply voltage supply are provided independently on the semiconductor chip for circuits where a large amount of current flows and circuits where a large amount of current flows, and circuits where a current does not flow. Efforts have been made to prevent malfunctions due to this, but this is still not enough.

この発明は上記のような事情を考慮してなされたもので
あり、その目的は、電源電圧の経路に発生するノイズの
抑制を図ることにより、誤動作の発生を極めて低くおさ
えることができる半導体集積回路を提供することにある
This invention was made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to provide a semiconductor integrated circuit that can minimize the occurrence of malfunctions by suppressing noise generated in the power supply voltage path. Our goal is to provide the following.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) この発明の半導体集積回路は、少なくとも電源電圧を半
導体チップに供給するためのリードフレーム端子のイン
ナーリード部の面積を他のインナーリード部よりも大き
くしたことを特徴とする。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The semiconductor integrated circuit of the present invention has at least an inner lead portion of a lead frame terminal for supplying power supply voltage to a semiconductor chip whose area is larger than other inner lead portions. It is characterized by being enlarged.

この発明の半導体集積回路は、少なくとも電源電圧を半
導体チップに供給するためのリードフレーム端子のアウ
ターリード部から先のインナーリード部を複数の部分に
分割したことを特徴とする。
The semiconductor integrated circuit of the present invention is characterized in that at least an inner lead portion from an outer lead portion of a lead frame terminal for supplying a power supply voltage to a semiconductor chip is divided into a plurality of portions.

(作用) 電源電圧供給用のリードフレーム端子のインナーリード
部の面積を大きくすることによりインナーリード部にお
ける電源電流の供給能力が増加し、半導体チップ上のパ
ッド電極に発生するノイズがこのインナーリード部で吸
収される。
(Function) By increasing the area of the inner lead part of the lead frame terminal for power supply voltage supply, the ability to supply power supply current in the inner lead part increases, and the noise generated in the pad electrode on the semiconductor chip is transferred to this inner lead part. It is absorbed by.

さらに、複数の部分に分割されたインナーリード部のそ
れぞれを半導体チップ上のパッド電極に対し独立に接続
することにより、分割されたインナーリード部相互間の
ノイズの影響が大幅に緩和される。
Furthermore, by independently connecting each of the inner lead parts divided into a plurality of parts to the pad electrodes on the semiconductor chip, the influence of noise between the divided inner lead parts can be significantly reduced.

(実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例により説明する
(Examples) Hereinafter, the present invention will be explained by examples with reference to the drawings.

第1図はこの発明の第1の実施例による外囲器の内部構
成を示す平面図である。この実施例によるICでは、前
記第8図と同様に2個の基準電圧Vssl、Vss2用
のパッド電極20.21が設けられたメモリICチップ
31が使用されている。第9図と同様、32はそれぞれ
リードフレーム端子のインナーリード部であり、33は
それぞれボンディングワイヤ、34は外囲器である。な
お、第1図ではチップ上の基準電圧用以外のパッド電極
と、リードフレーム端子のアウターリード部とは省略し
たが、第2図のIC全体の構成を示す斜示図のように各
アウターリード部35は外囲器34の外部に導出され、
所定形状に切断及び折曲されることにより、例えばDI
P (デユアルーイン0ライン)型の外部端子として使
用される。
FIG. 1 is a plan view showing the internal structure of an envelope according to a first embodiment of the present invention. The IC according to this embodiment uses a memory IC chip 31 provided with pad electrodes 20 and 21 for two reference voltages Vssl and Vss2 as in FIG. 8 above. As in FIG. 9, 32 is the inner lead portion of each lead frame terminal, 33 is a bonding wire, and 34 is an envelope. Note that although pad electrodes other than those for reference voltage on the chip and the outer leads of the lead frame terminals are omitted in Figure 1, each outer lead is shown in Figure 2 as a perspective view showing the overall structure of the IC. The portion 35 is led out to the outside of the envelope 34,
By cutting and bending into a predetermined shape, for example, DI
Used as a P (dual-in-0 line) type external terminal.

この実施例によるICでは、基準電圧Vs s l、V
s s Z用のリードフレーム端子のインナーリード部
32が、第1図では図示しないリードフレーム端子のア
ウターリード部から先が2つのインナーリード部32A
、 32Bに分割されており、それぞれのインナーリー
ド部32A、 32Bの先端部と、チップ上の2個のパ
ッド電極20.21との間が各ボンディングワイヤ33
でそれぞれ接続されている。
In the IC according to this embodiment, the reference voltages Vs s l, V
The inner lead portion 32 of the lead frame terminal for s s Z has two inner lead portions 32A starting from the outer lead portion of the lead frame terminal (not shown in FIG. 1).
, 32B, and each bonding wire 33 is separated between the tip of each inner lead part 32A, 32B and two pad electrodes 20, 21 on the chip.
are connected to each other.

このような構成において、前記出力バッファ17が設け
られている周辺回路23(いずれも第8図に図示)に大
きな電流が流れ、パッド21における基*tS圧vs5
2が前記のように瞬時的に1(v)程度浮いたとする。
In such a configuration, a large current flows through the peripheral circuit 23 (both shown in FIG. 8) in which the output buffer 17 is provided, and the base *tS pressure at the pad 21 vs.
Suppose that 2 instantaneously floats by about 1 (v) as described above.

このときの基準電圧v882の電圧変動はリードフレー
ム端子のインナーリード部32Bに伝達される。ところ
が、内部回路22(第8図に図示)が接続されているパ
ッド20は、独立したボンディングワイヤ33及び上記
インナーリード部32Bとは分割されているインナーリ
ード部32Aを介してリードフレーム端子の同じアウタ
ーリード部35(第2図に図示)と接続されている。
Voltage fluctuations in the reference voltage v882 at this time are transmitted to the inner lead portion 32B of the lead frame terminal. However, the pad 20 to which the internal circuit 22 (shown in FIG. 8) is connected is connected to the same lead frame terminal via an independent bonding wire 33 and an inner lead portion 32A that is separated from the inner lead portion 32B. It is connected to an outer lead portion 35 (shown in FIG. 2).

このため、インナーリード部32Bに伝達された基準電
圧VS S 2の電圧変動は内部回路22が接続された
インナーリード部32Aには伝達されない。従って、基
準電圧vsS lは出力バッファに流れる電流に影響を
受けず常に安定となり、内部回路22は誤動作を起こす
ことなく、正常動作が行われる。
Therefore, voltage fluctuations in the reference voltage VS S 2 transmitted to the inner lead portion 32B are not transmitted to the inner lead portion 32A to which the internal circuit 22 is connected. Therefore, the reference voltage vsS1 is always stable without being affected by the current flowing through the output buffer, and the internal circuit 22 operates normally without causing any malfunction.

高速動作が必要なICメモリでは、特に出力バッファに
多くの電流を瞬時的に流す必要があり、このように基準
電圧用のインナーリード部を分割することによる、内部
回路に対する電源ノイズの低減効果は大きい。
In IC memories that require high-speed operation, it is necessary to instantaneously flow a large amount of current especially to the output buffer, and dividing the inner lead part for the reference voltage in this way has the effect of reducing power supply noise on the internal circuit. big.

第3図はこの発明の第2の実施例による外囲器34と、
この外囲器34の内部に封入されるリードフレーム端子
の構成を示す平面図である。図において、3Bは前記半
導体チップが載置されるベツド部であり、37及び38
はこのベツド部3Bを保持する吊りビン部であり、さら
に39はそれぞれ上記容量りピン部37.38を固定す
るための保持部である。
FIG. 3 shows an envelope 34 according to a second embodiment of the invention;
FIG. 3 is a plan view showing the structure of a lead frame terminal sealed inside the envelope 34. FIG. In the figure, 3B is a bed portion on which the semiconductor chip is placed, and 37 and 38
Reference numeral 39 indicates a hanging bottle portion for holding the bed portion 3B, and 39 indicates a holding portion for fixing the capacitor pin portions 37 and 38, respectively.

この実施例によるICでは、上記第1図の実施例と同様
に前記基準電圧用のインナーリード部32を、一方の基
準電圧vssl用のインナーリード部32Aと、他方の
基準電圧vssz用のインナーリード部32Bとに分割
すると共に、前記電源電圧VCC用のインナーリード部
32Cを図示しない他の信号入出力用のインナーリード
部よりも大きな面積となるように構成したものである。
In the IC according to this embodiment, as in the embodiment shown in FIG. In addition, the inner lead part 32C for the power supply voltage VCC is configured to have a larger area than other inner lead parts for signal input/output (not shown).

さらにこの実施例では、上記基準電圧用及び電源電圧用
のインナーリード部を含む、外囲器34の四隅に配置さ
れた各インナーリード部32に対し、外囲器34を例え
ばトランスファ・モールド法等による樹脂成型によって
形成する際に、各インナーリード部が所定の位置からず
れないようにするための補強用の吊りピン部40を追加
するようにしたものである。
Furthermore, in this embodiment, each inner lead part 32 disposed at the four corners of the envelope 34, including the inner lead parts for the reference voltage and the power supply voltage, is molded by, for example, a transfer molding method. When forming by resin molding, a reinforcing hanging pin part 40 is added to prevent each inner lead part from shifting from a predetermined position.

このように、電源電圧VCC用のインナーリード部32
Cの面積を大きくすることによって、電源電圧VCCに
おけるノイズも緩和することができる。しかも、補強用
の吊りピン部40を追加することによって、インナーリ
ード部82の本数の増加や面積の増大が発生しても、各
インナーリード部の強度低下を防止することができる。
In this way, the inner lead portion 32 for power supply voltage VCC
By increasing the area of C, noise in the power supply voltage VCC can also be alleviated. Furthermore, by adding the reinforcing hanging pin portion 40, even if the number or area of the inner lead portions 82 increases, it is possible to prevent the strength of each inner lead portion from decreasing.

第4図はこの発明の第3の実施例による外囲器34と、
この外囲器34の内部に封入されるリードフレーム端、
子の構成を示す平面図である。この実施例では上記第1
図の実施例と同様に前記基準電圧用のインナーリード部
32を、一方の基準電圧Vss を用のインナーリード
部32Aと、他方の基準電圧vss2用のインナーリー
ド部32Bとに分割すると共に、前記電源電圧VCC用
のインナーリード部もインナーリード部32Dと32E
の二つに分割するようにしたものである。この場合、図
示しない半導体チップ上にはVCC用の電極パッドを二
つ設けるようにしても良く、あるいは一つのみ設けるよ
うにしてもよい。チップ上にVCC用の電極パッドを一
つのみ設けるときには、上記インナーリード部32Dと
32Eとが別々のボンディングワイヤでチップ上の同一
の電極パッドと接続される。なお、この実施例の場合に
も、吊りピン部37、3.’&はそれぞれ保持部3gに
よって固定されており、外囲器34の四隅に配置された
各インナーリード部32に対して補強用の吊りピン部4
0が追加されている。
FIG. 4 shows an envelope 34 according to a third embodiment of the invention;
A lead frame end sealed inside this envelope 34,
It is a top view showing the structure of a child. In this embodiment, the first
Similarly to the embodiment shown in the figure, the inner lead section 32 for the reference voltage is divided into an inner lead section 32A for one reference voltage Vss and an inner lead section 32B for the other reference voltage vss2. The inner lead part for power supply voltage VCC is also inner lead part 32D and 32E.
It is divided into two parts. In this case, two or only one VCC electrode pad may be provided on the semiconductor chip (not shown). When only one VCC electrode pad is provided on a chip, the inner lead portions 32D and 32E are connected to the same electrode pad on the chip using separate bonding wires. In addition, also in the case of this embodiment, the hanging pin portions 37, 3. '& are each fixed by a holding part 3g, and a reinforcing hanging pin part 4 is attached to each inner lead part 32 arranged at the four corners of the envelope 34.
0 is added.

第5図はこの発明の第4の実施例による外囲器34と、
この外囲器34の内部に封入されるリードフレーム端子
の構成を示す平面図である。この実施例では、前記第3
図の実施例において二つに分割されていた基皇電圧vs
sl用のインナーリード部32Aと32Bをまとめてイ
ンナーリード部32Fとして一体化し、このインナーリ
ード部32Fを電源電圧VCC用のインナーリード部3
2Cと同様に他の信号入出力用のインナーリード部より
も大きな面積となるように構成したものである。
FIG. 5 shows an envelope 34 according to a fourth embodiment of the invention;
FIG. 3 is a plan view showing the structure of a lead frame terminal sealed inside the envelope 34. FIG. In this embodiment, the third
In the example shown in the figure, the basic voltage is divided into two.
The inner lead parts 32A and 32B for sl are integrated as an inner lead part 32F, and this inner lead part 32F is used as the inner lead part 3 for power supply voltage VCC.
Similar to 2C, it is configured to have a larger area than other inner lead portions for signal input/output.

第6図はこの発明の第5の実施例による外囲器34と、
この外囲器34の内部に封入されるリードフレーム端子
の構成を示す平面図である。この実施例では、前記第3
図の実施例における一方の基準電圧Vs s l用のイ
ンナーリード部32Aと、ベツド部36を保持する一方
の吊りピン部38とを接続する接続部41を設けること
により、インナーリード部32Aで伝達される基準電圧
VSSIを上記接続部41、吊りピン部38及びベツド
部88を介して他方側の吊りピン部37に導き、さらに
この吊りピン部37に新たなインナーリード部32Gを
設けるようにしたものである。このインナーリード部3
2Gを設けることにより、チップ上にはVSS用の電極
パッドをもう1個設けることができる。
FIG. 6 shows an envelope 34 according to a fifth embodiment of the invention;
FIG. 3 is a plan view showing the structure of a lead frame terminal sealed inside the envelope 34. FIG. In this embodiment, the third
By providing a connection part 41 that connects one inner lead part 32A for the reference voltage Vssl and one hanging pin part 38 that holds the bed part 36 in the illustrated embodiment, the inner lead part 32A transmits the voltage. The reference voltage VSSI is led to the hanging pin part 37 on the other side through the connecting part 41, the hanging pin part 38 and the bed part 88, and a new inner lead part 32G is provided in this hanging pin part 37. It is something. This inner lead part 3
By providing 2G, one more electrode pad for VSS can be provided on the chip.

第7図はこの発明の第6の実施例による外囲器34と、
この外囲器34の内部に封入されるリードフレーム端子
の構成を示す平面図である。前記第3図の実施例のよう
に、基準電圧用のインナーリードをvssl用のインナ
ーリード部32Aとv8S 2用のインナーリード部3
2Bとに分割すると、吊りピン部38を中心にして図中
、下側に設けられるインナーリード部の数が上側に設け
られるインナーリード部の数よりも多くなる。この場合
、第3図に示すように、吊りピン部38をベツド部8G
の中央から導出すると、上下のインナーリード部の配置
のバランス及び強度の上からリードフレーム端子が設計
しにくくなることがある。
FIG. 7 shows an envelope 34 according to a sixth embodiment of the invention;
FIG. 3 is a plan view showing the structure of a lead frame terminal sealed inside the envelope 34. FIG. As in the embodiment shown in FIG. 3, the inner leads for the reference voltage are connected to the inner lead part 32A for vssl and the inner lead part 3 for v8S2.
2B, the number of inner lead parts provided on the lower side in the figure with the hanging pin part 38 at the center becomes greater than the number of inner lead parts provided on the upper side. In this case, as shown in FIG.
If the lead frame terminal is led out from the center, it may be difficult to design the lead frame terminal due to the balance and strength of the arrangement of the upper and lower inner lead parts.

そこで、この実施例では、上下のインナーリード部の本
数を考慮し、吊りピン部38をベツド部3Bの中央から
ずらせて導出するようにしたものである。
Therefore, in this embodiment, the number of the upper and lower inner lead parts is taken into consideration, and the hanging pin part 38 is shifted from the center of the bed part 3B.

このように、上記各実施例によれば基準電圧もしくは電
源電圧を供給するインナーリード部を分割するか、もし
くはこのインナーリード部の面積を他の信号用のインナ
ーリード部よりも大きくするようにしたので、電源電圧
の経路に発生するノイズの抑制が図れ、ノイズによる誤
動作の防止を図ることができる。
As described above, according to each of the above embodiments, the inner lead section that supplies the reference voltage or the power supply voltage is divided, or the area of this inner lead section is made larger than the inner lead sections for other signals. Therefore, noise generated in the power supply voltage path can be suppressed, and malfunctions due to noise can be prevented.

さらに上記各実施例では、例えば第3図に示すように基
準電圧用のインナーリード32A、 32Bと電源電圧
VCC用のインナーリード32Cを除く他のインナーリ
ードは、全て上下対称の状態で配置されている。このよ
うな配置とすることにより、リードフレーム端子をプレ
ス加工により成型する際、プレス用の刃の設計が少なく
でき、金型設計に要するコストを低減化することができ
る。
Further, in each of the above embodiments, all the inner leads other than the inner leads 32A and 32B for the reference voltage and the inner lead 32C for the power supply voltage VCC are arranged vertically symmetrically, as shown in FIG. 3, for example. There is. With this arrangement, when molding the lead frame terminal by press working, the number of press blades can be reduced, and the cost required for mold design can be reduced.

なお、この発明は上記各実施例に限定されるものではな
く種々の変形が可能であることはいうまでもない。例え
ば、上記実施例では基準電圧用もしくは電源電圧用のイ
ンナーリード部を二つに分割する場合について説明した
が、これは二つ以上に分割するようにしてもよい。
It goes without saying that the present invention is not limited to the above embodiments and can be modified in various ways. For example, in the above embodiment, a case has been described in which the inner lead portion for reference voltage or power supply voltage is divided into two, but it may be divided into two or more.

[発明の効果] 以上説明したようにこの発明によれば、電源電圧の経路
に発生するノイズの抑制を図ることができ、これにより
誤動作の発生が極めて低くおさえられる半導体集積回路
を提供することができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, it is possible to suppress the noise generated in the path of the power supply voltage, thereby providing a semiconductor integrated circuit in which the occurrence of malfunctions is kept extremely low. can.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の第1の実施例による外囲器の内部構
成を示す平面図、第2図は上記実施例におけるIC全体
の構成を示す斜示図、第3図ないし第7図はそれぞれこ
の発明の他の実施例による外囲器の内部構成を示す平面
図、第8図は典型的なメモリICチップの回路構成を示
すブロック図、第9図は従来ICの外囲器の内部構成を
示す平面図、第10図は第8図のメモリICチップの一
部回路の等価回路図、第11図は第10図回路で使用さ
れる信号の波形図、第12図は第10図回路の特性図で
ある。 20、21・・・基準電圧用のパッド電極、31・・・
メモリICチップ、32.32A、 32B、 32C
,32D、 32E。 32F、32G・・・リードフレーム端子のインナーリ
ード部、33・・・ボンディングワイヤ、34・・・外
囲器、35、・・リードフレーム端子のアウターリード
部、36・・・ベツド部、37.38・・・吊りビン部
、39・・・保持部、40・・・吊りピン部、41・・
・接続部。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2図 Vss2        vss2 第10図 5    1(nsec)
FIG. 1 is a plan view showing the internal structure of the envelope according to the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing the overall structure of the IC in the above embodiment, and FIGS. 3 to 7 are FIG. 8 is a block diagram showing the circuit structure of a typical memory IC chip, and FIG. 9 is a plan view showing the internal structure of an envelope according to another embodiment of the present invention. 10 is an equivalent circuit diagram of a part of the circuit of the memory IC chip in FIG. 8, FIG. 11 is a waveform diagram of a signal used in the circuit in FIG. 10, and FIG. 12 is a diagram showing the waveform of a signal used in the circuit in FIG. It is a characteristic diagram of a circuit. 20, 21... Pad electrode for reference voltage, 31...
Memory IC chip, 32.32A, 32B, 32C
, 32D, 32E. 32F, 32G... Inner lead part of lead frame terminal, 33... Bonding wire, 34... Envelope, 35... Outer lead part of lead frame terminal, 36... Bed part, 37. 38... Hanging bottle part, 39... Holding part, 40... Hanging pin part, 41...
・Connection part. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 Figure 2 Vss2 vss2 Figure 10 5 1 (nsec)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、表面上に複数のパッド電極が形成された半導体チッ
プと、 上記半導体チップを収納する外囲器と、 それぞれインナーリード部とアウターリード部とから構
成された複数のリードフレーム端子と、上記複数の各リ
ードフレーム端子のインナーリード部の先端部と上記半
導体チップの表面上に形成されたパッド電極とを接続す
る金属細線とを具備し、 少なくとも電源電圧を上記半導体チップに供給するため
のリードフレーム端子のインナーリード部の面積が他の
インナーリード部よりも大きくされてなることを特徴と
する半導体集積回路。 2、表面上に複数のパッド電極が形成された半導体チッ
プと、 上記半導体チップを収納する外囲器と、 それぞれインナーリード部とアウターリード部とから構
成された複数のリードフレーム端子と、上記複数の各リ
ードフレーム端子のインナーリード部の先端部と上記半
導体チップの表面上に形成されたパッド電極とを接続す
る金属細線とを具備し、 少なくとも電源電圧を上記半導体チップに供給するため
のリードフレーム端子のアウターリード部から先のイン
ナーリード部が複数の部分に分割されてなることを特徴
とする半導体集積回路。
[Claims] 1. A semiconductor chip having a plurality of pad electrodes formed on its surface, an envelope housing the semiconductor chip, and a plurality of leads each including an inner lead portion and an outer lead portion. The frame terminal includes a thin metal wire connecting the tip of the inner lead portion of each of the plurality of lead frame terminals to a pad electrode formed on the surface of the semiconductor chip, and the metal wire connects at least a power supply voltage to the semiconductor chip. A semiconductor integrated circuit characterized in that the area of an inner lead portion of a lead frame terminal for supplying a lead frame is larger than other inner lead portions. 2. A semiconductor chip having a plurality of pad electrodes formed on its surface; an envelope housing the semiconductor chip; a plurality of lead frame terminals each comprising an inner lead portion and an outer lead portion; A lead frame for supplying at least a power supply voltage to the semiconductor chip, comprising a thin metal wire connecting the tip of the inner lead portion of each lead frame terminal and a pad electrode formed on the surface of the semiconductor chip. A semiconductor integrated circuit characterized in that an inner lead part of a terminal from an outer lead part is divided into a plurality of parts.
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EP19890109390 EP0343633A3 (en) 1988-05-24 1989-05-24 Semiconductor integrated circuit
US07/613,455 US5162894A (en) 1988-05-24 1990-11-14 Semiconductor integrated circuit having a dummy lead and shaped inner leads

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