JPH01279894A - Novel cephem compound and production thereof - Google Patents

Novel cephem compound and production thereof

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Publication number
JPH01279894A
JPH01279894A JP25057288A JP25057288A JPH01279894A JP H01279894 A JPH01279894 A JP H01279894A JP 25057288 A JP25057288 A JP 25057288A JP 25057288 A JP25057288 A JP 25057288A JP H01279894 A JPH01279894 A JP H01279894A
Authority
JP
Japan
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formula
alkyl group
group
salt
amino group
Prior art date
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Pending
Application number
JP25057288A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Koji Kawabata
浩二 川端
Yoshiko Inamoto
稲本 美子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPH01279894A publication Critical patent/JPH01279894A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

NEW MATERIAL:A compound expressed by formula I [R<1> represents (protected) amino; R<2> represents lower alkyl or (protected) carboxy lower alkyl; R<3> represents lower alkyl; R<4> represents H or (protected) amino; Z represents N or CH] or salt thereof. EXAMPLE:7beta-[2-(5-Amino-1, 2, 4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1-methylethoxyimino) acetamide]-3-(1-methyl-3-amino-4,5-dihydro-1-pirazolio) methyl-3-cephem-4- carboxylate (syn isomer). USE:An antibacterial agent against Gram-positive and Gram-negative bacteria. PREPARATION:A compound expressed by formula II (Y represents leaving group) or salt thereof is reacted with a compound expressed by formula II or salt thereof.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] この発明の下記一般式(I)で示きれるセフェム化合物
およびその塩は抗菌活性を有し、医薬として有用である
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Industrial Application Fields" The cephem compounds of the present invention represented by the following general formula (I) and salts thereof have antibacterial activity and are useful as medicines.

1従来の技術」 セフェム化合物は数多く知られているが、この発明の下
記一般式(1)で示されるセフェム化合物は知られてい
ない。
1. Prior Art Although many cephem compounds are known, the cephem compound represented by the following general formula (1) of the present invention is not known.

「発明が解決しようとする問題点」 抗菌作用を有し、医薬として有用なセフェム化合物は数
多く知られているが、この発明はさらに優れた医薬品の
開発を意図してなきれたものである。
"Problems to be Solved by the Invention" Many cephem compounds that have antibacterial effects and are useful as medicines are known, but this invention was developed with the intention of developing even better medicines.

r問題点を解決するための手段」 この発明は新規セフェム化合物およびその塩に関する。``Means for solving problems'' This invention relates to novel cephem compounds and salts thereof.

更に詳しくは、この発明は、抗菌活性を有する新規セフ
ェム化合物およびその塩およびそれらの製造法に関する
More specifically, the present invention relates to novel cephem compounds and salts thereof having antibacterial activity and methods for producing them.

目的とするセフェム化合物は新規であり、下記一般式(
1)で示すことができる。
The target cephem compound is new and has the following general formula (
1).

[式中、R1はアミノ基または保護されたアミン基、 R2は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基
または保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、 R3は低級アルキル基、 R4は水素、アミン基または保護きれたアミン基、 ZはNまたはCHを意味するコ。
[In the formula, R1 is an amino group or a protected amine group, R2 is a lower alkyl group, a carboxy(lower) alkyl group, or a protected carboxy(lower) alkyl group, R3 is a lower alkyl group, R4 is hydrogen or an amine group or a protected amine group, Z means N or CH.

目的化合物(I)については下記の点を指摘しておく。Regarding the target compound (I), the following points should be pointed out.

すなわち、目的化合物(I)にはシン異性体、アンチ異
性体およびそれらの混合物が含まれる。シン異性体とは
下記式: (式中、R1、R2およびZはそれぞれ前と同じ意味)
で示される部分構造を有する一つの幾何異性体を意味し
、アンチ異性体とは下記式:(式中、R1、R2および
Zはそれぞれ前と同じ意味)で示きれる部分構造を有す
る別の幾何異性体を意味し、そのような幾何異性体およ
びそれらの混合物はすべてこの発明の範囲内に包含され
る。
That is, the target compound (I) includes a syn isomer, an anti isomer, and a mixture thereof. The syn isomer has the following formula: (wherein R1, R2 and Z each have the same meaning as before)
An anti-isomer means one geometric isomer having a partial structure represented by the following formula: (wherein R1, R2 and Z each have the same meanings as before) Isomers are meant, and all such geometric isomers and mixtures thereof are included within the scope of this invention.

この明細書においては、これらの幾何異性体およびそれ
らの混合物の部分構造は便宜上下記式:(式中、R1、
R2およびZはそれぞれ前と同じ意味)で示すことにす
る。
In this specification, the partial structures of these geometric isomers and mixtures thereof are conveniently expressed by the following formula: (wherein R1,
R2 and Z each have the same meaning as before).

この発明のセフェム化合物(1)は下記反応式で示され
る製造法によって製造することができる。
The cephem compound (1) of the present invention can be produced by the production method shown by the following reaction formula.

製is組上 またはその塩 (I[[) またはその塩 またはその塩 製造法2 (Ia) またはその塩 (Ib) またはその塩 (式中、R1、R2、R3、R4およびzはそれぞれ前
と同じ意味であり、 Yは脱離基、 R1は保護されたアミン基を意味する)。
or a salt thereof (I[[) or a salt thereof or a salt thereof manufacturing method 2 (Ia) or a salt thereof (Ib) or a salt thereof (wherein R1, R2, R3, R4 and z are respectively the preceding and have the same meaning, Y means a leaving group, and R1 means a protected amine group).

この明細書の以上および以下の記載における種々の定義
の好適な例を以下詳細に説明する。
Preferred examples of the various definitions in the above and below descriptions of this specification will be explained in detail below.

「低級、とは、特に指示がなければ、炭素原子1個ない
し6個を意味するものとする。
"Lower shall mean 1 to 6 carbon atoms, unless otherwise specified.

「保護きれたアミ7基、の好適な「保護基」としては、
後述のアシル基、例えばベンジリデン、ヒドロキシベン
ジリデン等の置換きれたまたは非置換アル(低級)アル
キリデン基、例えばベンジル、フェネチル、ベンズヒド
リル、トリチル等のモノまたはジまたはトリフェニル(
低級)アルキル基のようなアル(低級)アルキル基等が
挙げられる。
A suitable "protecting group" for "unprotected amine 7 group" is
Acyl groups mentioned below, such as substituted or unsubstituted alkylidene groups such as benzylidene and hydroxybenzylidene, mono- or di- or triphenyl groups such as benzyl, phenethyl, benzhydryl, trityl, etc.
(lower) alkyl groups such as lower) alkyl groups, and the like.

好適な1アシル基」としては、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ヘキサノイル、ピバロイル停の低級
アルカノイル基、例えばクロロアセチル、トリフルオロ
アセチル等のモノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)
アルカノイル基、例えばメトキシカルボニル 三級ブトキシカルボニル、第三級ペンチル才キシカルボ
ニル、ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、例えばベンゾイル、トル
オイル、ナフトイル等のアロイル基、例えばフェニルア
セチル、フェニルプロピオニル等のアル(低級)アルカ
ノイル基、例えばフェノキシカルボニル ル フェノキシアセチル、フェノキシプロピ才二ル等のアリ
ールオキシ(低級)アルカノイル基、例えばフェニルグ
リオキシロイル、ナフチルグリオキシロイル等のアリー
ルグリオキシロイル基、例えばベンジルオキシカルボニ
ル、フェネチルオキシカルボニル、p−ニトロベンジル
オキシカルボニル等の適当な置換基を有していてもよい
アル(低級)アルフキジカルボニル基等が挙げられる。
Suitable mono-acyl groups include, for example, formyl, acetyl, propionyl, hexanoyl, pivaloyl-terminated lower alkanoyl groups, such as mono(or di- or tri)halo(lower) such as chloroacetyl, trifluoroacetyl, etc.
Alkanoyl groups, such as methoxycarbonyl, lower alkoxycarbonyl groups such as tertiary butoxycarbonyl, tertiary pentyloxycarbonyl, hexyloxycarbonyl, carbamoyl groups, such as aroyl groups such as benzoyl, toluoyl, naphthoyl, etc., such as phenylacetyl, phenylpropionyl, etc. an aryloxy(lower)alkanoyl group such as phenoxycarbonyllphenoxyacetyl, phenoxypropylene, arylglyoxyloyl group such as phenylglyoxyloyl, naphthylglyoxyloyl, e.g. benzyl Examples thereof include al (lower) alkyl dicarbonyl groups which may have appropriate substituents such as oxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, and p-nitrobenzyloxycarbonyl.

好適な低級アルキル基ならびにrカルボキシ(低級)ア
ルキル基」および「保護されたカルボキシ(低級)アル
キル基」の好適な「低級アルキル部分,としては、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等のような直
鎖または分枝鎖アルキル基が挙げられる。
Suitable lower alkyl groups and lower alkyl moieties of rcarboxy(lower)alkyl groups and protected carboxy(lower)alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, Mention may be made of straight or branched alkyl groups such as tertiary butyl, pentyl, hexyl and the like.

「保護されたカルボキシ(低級)アルキル基」の好適な
1保護されたカルボキシ部分」としては、エステル化さ
れたカルボキシ基等が挙げられ、前記エステル化された
カルボキシ基のエステル部分の具体例としては、適当な
置換基を有していてもよい例えばメチルエステル、エチ
ルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル
、ブチルエステル、イソブチルエステル、第三級ブチル
エステル、ペンチルエステル、ヘキシルエステル等の低
級アルキルエステル、その例として、例えばアセトキシ
メチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステル、
ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメチル
エステル、ピバロイルオキシメチルエステル、1−アセ
トキシエチルエステル、1−プロピオニルオキシエチル
エステル、ピバロイルオキシエチルエステル、2−プロ
ピオニルオキシエチルエステル、ヘキサノイルオキジメ
チルエステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アル
キルエステル、例えば2−メシルエチルエステル等の低
級アルカンスルホニル(低級)アルキルエステルまたは
例えば2−ヨウドエチルエステル,2.2.2−トリク
ロロエチルエステル等のモノ(またはジまたはトリ)ハ
ロ(低級)アルキルエステル;例えばビニルエステル、
アリルエステル等の低級アルケニルエステル;例えばエ
チニルエステル、プロピニルエステル等の低級アルキニ
ルエステル;例えばベンジルエステル、4−メトキシベ
ンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、フェネ
チルエステル、トリプルエステル、ベンズヒドリルエス
テル、ビス(メトキシフェニル)メチルエステル、3.
4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキシ−3
Examples of the "preferable 1-protected carboxy moiety of the protected carboxy (lower) alkyl group" include esterified carboxy groups, and specific examples of the ester moiety of the esterified carboxy group include: , lower alkyl esters which may have appropriate substituents, such as methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, pentyl ester, hexyl ester, etc. For example, acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester,
Butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, 1-acetoxyethyl ester, 1-propionyloxyethyl ester, pivaloyloxyethyl ester, 2-propionyloxyethyl ester, hexanoyloxyethyl ester Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as esters, lower alkanesulfonyl (lower) alkyl esters such as 2-mesylethyl ester, or mono(or di- or tri)halo(lower) alkyl esters; e.g. vinyl esters;
Lower alkenyl esters such as allyl ester; lower alkynyl esters such as ethynyl ester and propynyl ester; such as benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, triple ester, benzhydryl ester, bis(methoxyphenyl ) methyl ester, 3.
4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3
.

5−ジ第三級ブチルベンジルエステル等の適当な置換基
を有していてもよいアル(低級)アルキルエステル;例
えばフェニルエステル、4−クロロフェニルエステル、
トリルエステル、4−第Eaブチルフェニルエステル、
キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステ
ル等の適当な置換基を有していてもよいアリールエステ
ル等のようなものが挙げられる。
Al (lower) alkyl esters which may have suitable substituents such as 5-ditertiary butylbenzyl ester; for example, phenyl esters, 4-chlorophenyl esters,
tolyl ester, 4-Ea butylphenyl ester,
Examples include aryl esters which may have appropriate substituents, such as xylyl esters, mesityl esters, and cumenyl esters.

好適なr脱離基,としては、例えば塩素、臭素、沃素等
のハロゲン、例えばベンゼンスルホニルオキジ、トシル
オキシ、メシルオキシ等のスルホニルオキシ基、例えば
アセチルオキシ、プロピオニルオキシ等の低級アルカノ
イルオキシ基等が挙げられる。
Suitable r-leaving groups include, for example, halogens such as chlorine, bromine, and iodine, sulfonyloxy groups such as benzenesulfonyloxy, tosyloxy, and mesyloxy, and lower alkanoyloxy groups such as acetyloxy and propionyloxy. It will be done.

目的化合物(1)の好適な塩は常用の無毒性塩であり、
例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩お
よび例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例えばトリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピ
コリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N.N’ −ジ
ベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えばギ
酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒
石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、
トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭
化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、例えばアル
ギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等のアミ
ノ酸との塩等が挙げられる。
Suitable salts of the target compound (1) are commonly used non-toxic salts,
Metal salts such as alkali metal salts such as sodium salts, potassium salts and alkaline earth metal salts such as calcium salts, magnesium salts, ammonium salts such as trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, picoline salts, dicyclohexylamine salts, N. Organic base salts such as N'-dibenzylethylenediamine salts, such as formates, acetates, trifluoroacetates, maleates, tartrates, methanesulfonates, benzenesulfonates,
Examples include organic acid salts such as toluene sulfonate, inorganic acid salts such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate, and phosphate, and salts with amino acids such as arginine salt, aspartate, and glutamate. It will be done.

目的化合物(1)の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。
Preferred embodiments of the target compound (1) are as follows.

R1の好ましい実施態様はアミノ基またはアシルアミノ
基(さらに好ましくは低級アルカノイルアミノ基)、 R2の好ましい実施態様は低級アルキル基[さらに好ま
しくは(C1−C4)アルキル基]またはカルボキシ(
低級)アルキル基[さらに好ましくけカルボキシ(C1
−C4)アルキル基コ、R3の好ましい実施態様は低級
アルキル基[きらに好ましくは(C1−C4)アルキル
基]、R4の好ましい実施態様は水素またはアミノ基、 Zの好ましい実施態様はNまたはCIである。
A preferred embodiment of R1 is an amino group or an acylamino group (more preferably a lower alkanoylamino group), and a preferred embodiment of R2 is a lower alkyl group [more preferably a (C1-C4) alkyl group] or a carboxy (
(lower) alkyl group [more preferably carboxy (C1
-C4) alkyl group, a preferred embodiment of R3 is a lower alkyl group [preferably a (C1-C4) alkyl group], a preferred embodiment of R4 is hydrogen or an amino group, a preferred embodiment of Z is N or CI It is.

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に述べる。The method for producing the object compound of this invention will be described in detail below.

製造法1 化合物(1)またはその塩は、化合物(I[)またはそ
の塩を化合物(I[[)またはその塩と反応きせること
により製造することができる。
Production method 1 Compound (1) or a salt thereof can be produced by reacting compound (I[) or a salt thereof with compound (I[[) or a salt thereof.

化合物(II)の好適な塩については、化合物(I)に
ついて例示した塩を参照すればよい。
For suitable salts of compound (II), refer to the salts exemplified for compound (I).

化合物(Ift)の好適な塩については、化合物(I)
について例示した酸付加塩を参照すればよい。
For suitable salts of compound (Ift), compound (I)
Reference may be made to the acid addition salts exemplified for.

この反応は水、燐酸塩緩衝液、アセトン、クロロホルム
、アセトニトリル、塩化メチレン、塩化エチレン、ホル
ムアミド、N、N−ジメチルホルムアミド、メタノール
、エタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン
、ジメチルスルホキシドのような溶媒中で行えばよいが
、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいか
なる有機溶媒中で反応を行ってもよい、溶媒中、親水性
溶媒は水との混合物として使用してもよい、化合物(I
[[)が液体であればそれを溶媒として使用することも
できる。
This reaction can be carried out in solvents such as water, phosphate buffer, acetone, chloroform, acetonitrile, methylene chloride, ethylene chloride, formamide, N,N-dimethylformamide, methanol, ethanol, diethyl ether, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide. However, the reaction may be carried out in any other organic solvent as long as it does not adversely affect the reaction. Among the solvents, hydrophilic solvents may be used as a mixture with water.
If [[) is a liquid, it can also be used as a solvent.

反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下、常温ま
たは加温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling, room temperature, or heating.

1盗羞1 化合物(Ib)またはその塩は、化合物(Ia)または
その塩をアミン保護基の脱離反応に付すことにより製造
することができる。
1 Compound (Ib) or a salt thereof can be produced by subjecting Compound (Ia) or a salt thereof to an elimination reaction of the amine protecting group.

こ反応は加水分解、還元等のような常法に従って行うこ
とができる。
This reaction can be carried out according to conventional methods such as hydrolysis, reduction, etc.

加水分解は塩基、または#(ルイス酸も含む)の存在下
に行うのが好ましい。
Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or # (including Lewis acids).

好適な塩基としては、例えばナトリウム、カリウム等の
アルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム等のア
ルカリ土金属、それらの金属の水酸化物または炭酸塩ま
たは炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン、トリエチル
アミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、1.5−ジ
アザビシクロ[4,3,0コノン−5−エン、1.4−
ジアザビシクロC2,2,2コオクタン、1.8−ジア
ザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン等が挙げ
られる。
Suitable bases include, for example, alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as magnesium and calcium, hydroxides or carbonates or bicarbonates of these metals, trialkylamines such as trimethylamine, triethylamine, etc. Picoline, 1,5-diazabicyclo[4,3,0conon-5-ene, 1,4-
Examples include diazabicycloC2,2,2-cooctane, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]undec-7-ene, and the like.

好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例
えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素等の
無機酸が挙げられる。
Suitable acids include, for example, formic acid, acetic acid, propionic acid,
Examples include organic acids such as trichloroacetic acid and trifluoroacetic acid, and inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, hydrogen chloride, and hydrogen bromide.

例えばトリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロ
酢酸等のようなルイス酸を使用する脱離は、例えばアニ
ソール、フェノール等の陽イオン捕捉剤の存在下に行う
のが好ましい。
Desorption using a Lewis acid such as a trihaloacetic acid such as trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc. is preferably carried out in the presence of a cation scavenger such as anisole, phenol, etc.

反応は通常、水、例えばメタノーノ呟エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、テトラヒドロフランのような
溶媒、それらの混合物中で行われるが、反応に悪影響を
及ぼきない溶媒であれば、その他のいかなる溶媒中でも
反応を行うことができる。液状の塩基または酸も溶媒と
して使用することができる。
The reaction is usually carried out in water, an alcohol such as ethanol, methylene chloride, a solvent such as tetrahydrofuran, or a mixture thereof, but the reaction may be carried out in any other solvent as long as it does not adversely affect the reaction. It can be performed. Liquid bases or acids can also be used as solvents.

反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

脱離反応に適用きれうる還元法としては、化学的還元お
よび接触還元が挙げられる。
Reduction methods applicable to the elimination reaction include chemical reduction and catalytic reduction.

化学的還元に使用きれる好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化クロム、酢酸クロム
等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸、臭
化水素酸等の有機酸または無機酸との組合わせである。
Suitable reducing agents that can be used for chemical reduction include, for example, tin,
Metals such as zinc and iron or metal compounds such as chromium chloride and chromium acetate, and formic acid, acetic acid, propionic acid,
It is a combination with an organic or inorganic acid such as trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, or hydrobromic acid.

接触還元に使用される好適な触媒は例えば白金板、白金
海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の白
金触媒、例えばパラジウム海綿、パラジウム黒、酸化パ
ラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム、パ
ラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウム等
のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケル
、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバル
ト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄、
ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、ラネー銅、ウルマ
ン鋼等の銅触媒等のような常用の触媒である。
Suitable catalysts used for catalytic reduction include platinum catalysts such as platinum plates, platinum sponges, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wires, such as palladium sponges, palladium black, palladium oxide, palladium-carbon, colloidal palladium, Palladium catalysts such as palladium-barium sulfate and palladium-barium carbonate; nickel catalysts such as reduced nickel, nickel oxide, and Raney nickel; cobalt catalysts such as reduced cobalt and Raney cobalt; reduced iron;
Commonly used catalysts include iron catalysts such as Raney iron, copper catalysts such as reduced steel, Raney copper, Ullmann steel, and the like.

還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、N、N−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影
密を及ぼさない常用の溶媒、またはそれらの混合物中で
行われる。きらに化学的還元に使用される上記酸が液体
である場合には、それらを溶媒として使用することもで
きる。きらにまた接触還元に使用する好適な溶媒として
は、上記溶媒のほかジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のような常用の溶媒またはそれらの
混合物が挙げられる。
The reduction is usually carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, propatool, N,N-dimethylformamide, or mixtures thereof. If the acids used in the chemical reduction are liquids, they can also be used as solvents. Suitable solvents for use in the catalytic reduction include, in addition to the above-mentioned solvents, conventional solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc., or mixtures thereof.

この還元の反応温度は特に限定されないが、通常は冷却
下ないし加温下に反応が行われる。
The reaction temperature for this reduction is not particularly limited, but the reaction is usually carried out under cooling or heating.

目的化合物(I)およびその塩は新規であり、強い抗菌
作用を発揮してダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む
広汎な病原菌の生育を阻止し、抗菌薬として有用である
The target compound (I) and its salts are novel, exhibit strong antibacterial activity, inhibit the growth of a wide range of pathogenic bacteria including Durum-positive bacteria and Durum-negative bacteria, and are useful as antibacterial agents.

こ\に、目的化合物(I)の有用性を示すために、この
発明の代表化合物のMIC(最小発育阻止濃度)に関す
る試験M果を以下に示す。
In order to demonstrate the usefulness of the target compound (I), the results of Test M regarding the MIC (minimum inhibitory concentration) of the representative compound of this invention are shown below.

試験法 下記の寒天板倍数希釈法によって試験管内抗菌活性を測
定した。
Test method In vitro antibacterial activity was measured by the agar plate multiple dilution method described below.

試験菌株をトリプトケース ソイブロス中、−夜培養し
てその1白金耳(生菌数106個/戒)を各濃度段階の
試験化合物を含むハート インフュージョン寒天()I
I寒天)に接種し、37℃で20時間培養した後、最小
発育阻止濃度(MIC)を< / mQで表わした。
The test bacterial strain was cultured overnight in trypto-case soy broth, and one platinum loop (106 viable bacteria/Kai) was added to Heart Infusion Agar (2018) containing the test compound at each concentration level.
After inoculating on I agar) and culturing at 37°C for 20 hours, the minimum inhibitory concentration (MIC) was expressed as < / mQ.

試験化合物 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−(1−カルボキシ−1−メチルエ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−(1−メチル−3
−アミノ−4,5−ジヒドロ−1−ピラゾリオ)メチル
−3−セフェム−4−カルボキシラード(シン異性体)
(以下化合物Aと略称)。
Test compound 7β-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-(1-methyl-3
-amino-4,5-dihydro-1-pyrazolio)methyl-3-cephem-4-carboxilade (syn isomer)
(hereinafter abbreviated as compound A).

K慧呈り 治療のためにこの発明の目的化合物(1)およびその塩
は、経口投与、非纒口投与および外用投与に適した有機
もしくは無機固体状もしくは液状賦形剤のような医薬と
して許容される担体と混合して、前記化合物を有効成分
として含有する常用の医薬製剤の形として使用される。
The object compound (1) of this invention and its salts for the treatment of K. aureus can be prepared in a pharmaceutically acceptable form such as an organic or inorganic solid or liquid excipient suitable for oral, parenteral and topical administration. The compound is used in the form of a conventional pharmaceutical preparation containing the compound as an active ingredient in admixture with a carrier.

医薬製剤は錠剤、顆粒、粉剤、カプセルのような固体状
であっても、溶液、懸濁液、シロップ、エマルジョン、
レモネード等のような液状であってもよい。
Pharmaceutical preparations may be in solid form such as tablets, granules, powders, or capsules, or may be solutions, suspensions, syrups, emulsions,
It may be in liquid form such as lemonade.

必要に応じて上記製剤中に助剤、安定剤、湿潤剤および
乳糖、クエン酸、酒石酸、ステアリン酸、ステアリン酸
マグネシウム、白土、しょ糖、コーンスターチ、タルク
、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリーブ油、
カカオ脂、エチレングリフール等のようなその他の通常
使用される添加剤が含まれていてもよい。
If necessary, auxiliaries, stabilizers, wetting agents, lactose, citric acid, tartaric acid, stearic acid, magnesium stearate, clay, sucrose, cornstarch, talc, gelatin, agar, pectin, peanut oil, olive oil,
Other commonly used additives such as cocoa butter, ethylene glyfur, etc. may also be included.

化合物(Hの投与量は患者の年齢、条件、疾患の種類、
適用する化合物(I)の種類等によって変化する。一般
的には1mgと約4000mgとの間の量もしくはそれ
以上を1日当り患者に投与すればよい、病原菌感染症治
療には、この発明の目的化合物(I)を平均1回約50
mg、100mg、 250mg、500mg、100
0mg、2000nngの投与量で使用すればよい。
The dose of compound (H) depends on the patient's age, condition, type of disease,
It varies depending on the type of compound (I) to be applied. In general, an amount between 1 mg and about 4000 mg or more may be administered to a patient per day, and for the treatment of pathogenic bacterial infections, an average of about 50
mg, 100mg, 250mg, 500mg, 100
It may be used in dosages of 0 mg and 2000 nng.

以下、この発明を実施例に従ってきらに詳細に説明する
Hereinafter, the present invention will be explained in detail according to examples.

X箆■] 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−(1−カルボキシ−1−メチルエ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−クロロメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸・トリフルオロ酢酸塩(シ
ン異性体)(1,24g)のN、N−ジメチルホルムア
ミド(201111)溶液に1−メチル−3−アミノ−
4,5−ジヒドロピラゾール(0,79g、)を水冷下
に加える。混合物を0℃で1時間、室温で30分間攪拌
する6反応混合物を酢酸エチル(200mQ )中に注
ぐ、沈殿を濾取し、減圧Ti酸化燐で乾燥する。乾燥し
た粉末を水に溶解し、IN塩酸でpH3にlll!する
。溶液を1ダイヤイオンHP−20J(商標、三菱化成
社製)のカラムを通過させ、イソプロピルアルコールで
溶出する。目的化合物を含む両分を合わせ、イソプロピ
ルアルコールを留去し、凍結乾燥して、7β−[2−(
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)
−2−(1−カルボキシ−1−メチルエトキシイミノ)
アセトアミトコ−3−(1−メチル−3−アミノ−4,
5−ジヒドロ−1−ピラゾリオ)メチル−3−セフェム
−4−カルボキシラード(シン異性体)(0,28g)
を得る。
7β-[2-(5-Amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-chloromethyl-3
1-Methyl-3-amino-
4,5-dihydropyrazole (0.79 g) is added under water cooling. The mixture is stirred for 1 hour at 0° C. and 30 minutes at room temperature. 6. The reaction mixture is poured into ethyl acetate (200 mQ), the precipitate is filtered and dried over Ti phosphorous oxide under reduced pressure. Dissolve the dried powder in water and adjust to pH 3 with IN hydrochloric acid! do. The solution is passed through a column of 1 Diaion HP-20J (trademark, manufactured by Mitsubishi Kasei Corporation) and eluted with isopropyl alcohol. Both parts containing the target compound were combined, the isopropyl alcohol was distilled off, and lyophilized to give 7β-[2-(
5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)
-2-(1-carboxy-1-methylethoxyimino)
Acetamitoc-3-(1-methyl-3-amino-4,
5-dihydro-1-pyrazolio)methyl-3-cephem-4-carboxilade (syn isomer) (0,28 g)
get.

IR(スジむ−ル)  :  3300. 1760.
 1590−1630゜1510 am−1 NMR(D20.δ)=1.60 (6H,s)、 3
.19.3.28(総計3H1それぞれs)、 3.1
0−4.50 (88゜m)、 5.30.5.32 
(総計IH,それぞれd。
IR: 3300. 1760.
1590-1630°1510 am-1 NMR (D20.δ) = 1.60 (6H, s), 3
.. 19.3.28 (Total 3H1 each s), 3.1
0-4.50 (88゜), 5.30.5.32
(Total IH, each d.

J=5Hz)、 5.84 (LH,d、J:5Hz)
衷夏贋ニ アβ−C2−C2−ホルムアミドチアゾール−4−イル
)−2−エトキシイミノアセトアミトコ−3−クロロメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)(
2g)のN、N−ジメチルホルムアミド(30mQ )
溶液に、1−メチル−4゜5−ジヒドロピラゾール(1
,78g)を水冷下に加える。混合物を室温で1時間攪
拌する1反応混合物を酢酸エチル(300m1l )中
に注ぐ、沈殿を濾取して酢酸エチルで洗浄し、減圧Ti
酸化燐で乾燥して、7β−[2−(2−ホルムアミドチ
アゾール−4−イル)−2−エトキシイミノアセトアミ
ド]−3−(1−メチル−4,5−ジヒドロ−1−ピラ
ゾリオ)メチル−3−セフェム−4−カルボキシラード
(シン異性体) (1,80g )を得る。
J=5Hz), 5.84 (LH, d, J:5Hz)
β-C2-C2-formamidothiazol-4-yl)-2-ethoxyiminoacetamitoco-3-chloromethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer)
2g) of N,N-dimethylformamide (30mQ)
Add 1-methyl-4゜5-dihydropyrazole (1
, 78 g) was added under water cooling. The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. 1. The reaction mixture was poured into ethyl acetate (300 ml). The precipitate was collected by filtration, washed with ethyl acetate, and incubated under reduced pressure with Ti.
Dry with phosphorous oxide to give 7β-[2-(2-formamidothiazol-4-yl)-2-ethoxyiminoacetamido]-3-(1-methyl-4,5-dihydro-1-pyrazolio)methyl-3 -cephem-4-carboxilade (syn isomer) (1,80 g) is obtained.

犬農廻1 実施例1および2と同様にして下記化合物を得る。dog farm 1 The following compounds are obtained in the same manner as in Examples 1 and 2.

7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−(1−カルボキシ−1−メチルエ
トキシイミノ)アセトアミド]−3−(1−メチル−4
,5−ジヒドロ−1−ピラゾリオ)メチル−3−セフェ
ム−4−カルボキシラード(シン異性体)。
7β-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-(1-carboxy-1-methylethoxyimino)acetamide]-3-(1-methyl-4
,5-dihydro-1-pyrazolio)methyl-3-cephem-4-carboxilade (syn isomer).

IR(スジ9−ル)  :  3300. 1790.
 1690. 1630  am−’NMR(D O”
NaHCO3,S ) ’ 1.53 (6H1s)、
2.90(3H,s)、  3.03−4.35 (8
H,m)、  5.28 (IH,d。
IR (Streak 9-L): 3300. 1790.
1690. 1630 am-'NMR(D O"
NaHCO3,S)' 1.53 (6H1s),
2.90 (3H, s), 3.03-4.35 (8
H, m), 5.28 (IH, d.

J=5Hz)、5.86  (IH,d、J=5Hz)
、8.16  (LH,s)火】d1± 7β−[2−(2−ホルムアミドデアゾール−4−イル
)−2−エトキシイミノアセトアミド]−3−クロロメ
チル−3−セフェム−4−カルボン#(シン異性体)(
Ig)のN、N−ジメチルホルムアミド(15fflQ
 ) 溶液に、1−メチル−3−アミノ−4,5−ジヒ
ドロピラゾール(0,628g)を水冷下に加える。混
合物を室温で2時間攪拌する0反応混合物を酢酸エチル
(15011111)中に注ぐ、粉末を濾取し、減圧T
i酸化燐で乾燥して黄色粉末を得る。上記粉末のメタノ
ール(10fflQ )溶液に、濃塩酸(0,7m11
)を室温で加える。混合物を同条件で3時間攪拌する0
反応混合物を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液でpH7に
調整し、酢酸エチルで洗浄する。水泗を6N塩酸でpH
2に調整し、1ダイヤイオンHP −20Jのカラムを
通過させ、5%イソプロピルアルコールで溶出する。目
的化合物を含む両分を合わせ、イソプロピルアルコール
を留去し、凍結乾燥して、7β−[2−(2−アミノデ
アゾール−4−イル)−2−エトキシイミノアセトアミ
ド]−3−(1−メチル−3−アミノ−4,5−ジヒド
ロ−1−ピラゾリオ)メチル−3−セフェム−4−カル
ボキシラード(シン異性体) (0,32g )を得る
J=5Hz), 5.86 (IH, d, J=5Hz)
, 8.16 (LH,s) Tue] d1± 7β-[2-(2-formamidodeazol-4-yl)-2-ethoxyiminoacetamide]-3-chloromethyl-3-cephem-4-carvone # (Syn isomer) (
Ig) of N,N-dimethylformamide (15fflQ
) 1-Methyl-3-amino-4,5-dihydropyrazole (0,628 g) is added to the solution under water cooling. The mixture is stirred at room temperature for 2 hours.The reaction mixture is poured into ethyl acetate (15011111).The powder is filtered and vacuum T
i Dry over phosphorous oxide to obtain a yellow powder. A methanol (10fflQ) solution of the above powder was added with concentrated hydrochloric acid (0.7mlQ).
) at room temperature. Stir the mixture under the same conditions for 3 hours.
The reaction mixture is adjusted to pH 7 with saturated aqueous sodium bicarbonate solution and washed with ethyl acetate. pH the water syrup with 6N hydrochloric acid
2, pass through a column of 1 Diaion HP-20J, and elute with 5% isopropyl alcohol. Both fractions containing the target compound were combined, the isopropyl alcohol was distilled off, and lyophilized to give 7β-[2-(2-aminodeazol-4-yl)-2-ethoxyiminoacetamide]-3-(1- Methyl-3-amino-4,5-dihydro-1-pyrazolio)methyl-3-cephem-4-carboxilade (syn isomer) (0,32 g) is obtained.

IR(スジ碌−ル)  :  3150−3400. 
1770. 1590−1670 cm−’ NMR(D20.8 ) : 1.40 (3H1t、
J=6Hz)、3−23.3−33(総計IH,それぞ
れs)、 2.98−3.70 (4H。
IR: 3150-3400.
1770. 1590-1670 cm-' NMR (D20.8): 1.40 (3H1t,
J=6Hz), 3-23.3-33 (total IH, each s), 2.98-3.70 (4H.

m)、 3.55.3.90 (2H,ABq、J=1
8Hz)、 3.70−4.50 (2H,m)、 5
.33.5.36 (LH,d、J=5Hz)。
m), 3.55.3.90 (2H, ABq, J=1
8Hz), 3.70-4.50 (2H, m), 5
.. 33.5.36 (LH, d, J=5Hz).

5.85 (18,d、J=5Hz>、 7.00 (
LH,s)哀1遭1 7β−[2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル
)−2−エトキシイミノアセトアミド]−3−(1−メ
チル−4,5−ジヒドロ−1−ピラゾリオ)メチル−3
−セフェム−4−カルボキシラード(シン異性体)(1
,7g)のメタノール(17+IIQ )溶液に、濃塩
酸(Q、9mM)を加える。混合物を室温で2.5時間
攪拌する。反応混合物を次酸水素ナトリウム飽和水溶液
でpH4,5に調整し、メタノールを留去する。残渣を
IN塩酸でpH2,5に調整し、′ダイヤイオンHP−
20」のカラムを通過許せ、5%イソプロピルアルコー
ルで溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、イソプ
ロピルアルコールを留去し、凍結乾燥して、7β−[2
−(2−アミノデアゾール−4−イル)−2−エトキシ
イミノアセトアミトコ−3−(1−メチル−4,5−ジ
ヒドロ−1−ビラゾリオ)メチル−3−セフェム−4−
カルボキシラード(シン異性体)(0,5g)を得る。
5.85 (18, d, J=5Hz>, 7.00 (
LH, s) 1 encounter 1 7β-[2-(2-formamidothiazol-4-yl)-2-ethoxyiminoacetamide]-3-(1-methyl-4,5-dihydro-1-pyrazolio)methyl- 3
-cephem-4-carboxilade (syn isomer) (1
, 7g) in methanol (17+IIQ) is added concentrated hydrochloric acid (Q, 9mM). The mixture is stirred at room temperature for 2.5 hours. The reaction mixture was adjusted to pH 4.5 with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen suboxide, and methanol was distilled off. The residue was adjusted to pH 2.5 with IN hydrochloric acid, and then diluted with 'Diaion HP-
20" column and eluted with 5% isopropyl alcohol. The fractions containing the target compound were combined, the isopropyl alcohol was distilled off, and lyophilized to give 7β-[2
-(2-aminodeazol-4-yl)-2-ethoxyiminoacetamitoco-3-(1-methyl-4,5-dihydro-1-virazolio)methyl-3-cephem-4-
Carboxilad (syn isomer) (0.5 g) is obtained.

IR(スジシール)  :  3350. 1770.
 1650. 1610゜1530 cm’ NMR(D20.l; ) ’ 1.28 (3H1t
、J=6Hz>、2−87(3H,s)、 2.95−
4.00 (8H,m)、 4.24 (2H,q。
IR (striped seal): 3350. 1770.
1650. 1610°1530 cm' NMR (D20.l; )' 1.28 (3H1t
, J=6Hz>, 2-87(3H,s), 2.95-
4.00 (8H, m), 4.24 (2H, q.

に6Hz)、 5.23 (LH,d、J:5Hz)、
 5.81 (IH,d。
6Hz), 5.23 (LH, d, J: 5Hz),
5.81 (IH, d.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、 R^2は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル
基または保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、 R^3は低級アルキル基、 R^4は水素、アミノ基または保護されたアミノ基、 ZはNまたはCHを意味する]で示される新規セフェム
化合物およびその塩。
(1) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1 is an amino group or a protected amino group, and R^2 is a lower alkyl group, a carboxy (lower) alkyl group, or a protected amino group. a carboxy (lower) alkyl group, R^3 is a lower alkyl group, R^4 is hydrogen, an amino group or a protected amino group, and Z means N or CH] and salts thereof.
(2)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、 R^2は低級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル
基または保護されたカルボキシ(低級)アルキル基、 ZはNまたはCH、 Yは脱離基を意味する]で示される化合物またはその塩
を、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3は低級アルキル基、 R^4は水素、アミノ基または保護されたアミノ基を意
味する)で示される化合物またはモの塩と反応させて、
一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、R^4およびZはそ
れぞれ前と同じ意味)で示される新規セフェム化合物ま
たはその塩を得ることを特徴とする新規セフェム化合物
の製造法。
(2) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In the formula, R^1 is an amino group or a protected amino group, and R^2 is a lower alkyl group, a carboxy (lower) alkyl group, or a protected amino group. a carboxy (lower) alkyl group, Z is N or CH, Y is a leaving group], or its salt is represented by the general formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R ^3 means a lower alkyl group, R^4 means hydrogen, an amino group or a protected amino group) or a salt thereof,
General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3, R^4 and Z each have the same meaning as before) A new cephem compound or its salt A method for producing a novel cephem compound, characterized in that it obtains.
(3)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1_aは保護されたアミノ基、R^2は低
級アルキル基、カルボキシ(低級)アルキル基または保
護されたカルボキシ(低級)アルキル基、 R^3は低級アルキル基、 R^4は水素、アミノ基または保護されたアミノ基、 ZはNまたはCHを意味する]で示される化合物または
その塩をアミノ保護基の脱離反応に付して、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^2、R^3、R^4およびZはそれぞれ前
と同じ意味)で示される新規セフェム化合物またはその
塩を得ることを特徴とする新規セフェム化合物の製造法
(3) General formula: ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ [In the formula, R^1_a is a protected amino group, R^2 is a lower alkyl group, a carboxy (lower) alkyl group, or a protected (lower) alkyl group, R^3 is a lower alkyl group, R^4 is hydrogen, an amino group or a protected amino group, Z means N or CH] or a salt thereof, by removing the amino-protecting group. For the separation reaction, a new cephem compound represented by the general formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (In the formula, R^2, R^3, R^4 and Z each have the same meaning as before) A method for producing a novel cephem compound, characterized by obtaining a cephem compound or a salt thereof.
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